【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种制造通过使特定的取代基脱取代获得的脱取代的化合物的方法， 还涉及制造颜料微粒的方法、制造酞菁化合物的方法和制造薄膜的方法，每一种方法均利 用脱取代技术。此外，本专利技术涉及一种有机半导体膜和其制造方法，还涉及使用具有特定的取代 基的共轭化合物制造有机半导体膜的方法。
技术介绍
用于油墨、涂料、树脂等的着色材料大致可分为染料和颜料。例如，关于要求具有 高清晰度的喷墨记录液体(油墨)用的着色剂，使用带染料的油墨形成的图像具有诸如高 透明度、高清晰度、优异的色彩渲染性等特点。另一方面，染料图像受诸如耐候性、耐水性等 问题困扰。近年来，为了解决图像的耐候性和耐水性问题，已经开始从染料型油墨过渡到使 用诸如有机颜料或炭黑等颜料的油墨。此外，迄今为止，对颜料的研究集中在它们作为着 色材料的物理特性。近年来，已经在关注颜料的分子性质(参见，例如，“Technology of Functional Pigments and Developmentof their Application ,CMC)。在过渡到颜料的这种研究中，作为造成障碍的一个问题，已经指出，颜...
【技术保护点】
一种制造脱取代的化合物的方法，其包括：向具有溶剂可溶性基团Ｂ的化合物Ａ－（Ｂ）↓［ｍ］施加外部刺激，使所述溶剂可溶性基团Ｂ从所述化合物脱取代，其中Ａ代表溶剂不溶性化合物的残基，所述溶剂可溶性基团Ｂ由式（Ⅰ）代表，ｍ代表自然数，其中所述溶剂可溶性基团Ｂ与溶剂不溶性化合物的残基Ａ的碳原子键合；和将所述化合物Ａ－（Ｂ）↓［ｍ］转化成由氢原子代替所述溶剂可溶性基团Ｂ而键合的溶剂不溶性化合物：式（Ⅰ）－Ｓ（Ｏ）ｎ－Ｘ其中Ｘ代表氢原子或取代基；和ｎ代表１或２的整数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-9-12 2007-237315;JP 2007-9-12 2007-237313一种制造脱取代的化合物的方法，其包括向具有溶剂可溶性基团B的化合物A-(B)m施加外部刺激，使所述溶剂可溶性基团B从所述化合物脱取代，其中A代表溶剂不溶性化合物的残基，所述溶剂可溶性基团B由式(I)代表，m代表自然数，其中所述溶剂可溶性基团B与溶剂不溶性化合物的残基A的碳原子键合；和将所述化合物A-(B)m转化成由氢原子代替所述溶剂可溶性基团B而键合的溶剂不溶性化合物式(I)-S(O)n-X其中X代表氢原子或取代基；和n代表1或2的整数。2.如权利要求1所述的制造脱取代的化合物的方法，其中通过在150 500°C下加热 进行所述外部刺激。3.如权利要求1或2所述的制造脱取代的化合物的方法，其中所述溶剂不溶性化合物 的残基A是具有其中两个或更多个芳香族烃环或芳香族杂环是稠合的和/或通过共价键连 接的结构的共轭化合物的残基。4.如权利要求1 3中任一项所述的制造脱取代的化合物的方法，其中所述溶剂不溶 性化合物的残基A是染料骨架。5.如权利要求1 4中任一项所述的制造脱取代的化合物的方法，其中所述溶剂可溶 性基团B是式(II)代表的基团式(II) 其中x代表氢原子或取代基。6.如权利要求1 5中任一项所述的制造脱取代的化合物的方法，其中所述溶剂可溶 性基团B是式(III)代表的基团式(III) 其中R1 R3每一个独立地代表氢原子或取代基。7.如权利要求1 6中任一项所述的制造脱取代的化合物的方法，其中所述化合物 A-(B)m是式(IV)代表的化合物 式(IV) 其中M代表金属原子或氢原子；当M代表氢原子时，两个氢原子分别与N1 N4的任何 两个氮原子键合；Q代表形成芳香族烃环或芳香族杂环必需的原子团；多个Q可以彼此相 同或不同；R4 R6每一个独立地代表氢原子或取代基；n是自然数；当n为2或更大时，多 个-S02C(R4) (R5) (R6)基团可以彼此相同或不同。8.如权利要求7所述的制造脱取代的化合物的方法，其中所述化合物A-(B)ffl是酞菁化 合物。9.一种制造颜料微粒的方法，其包括向具有其中颜料用溶剂可溶性基团B改性的结构的颜料前体A-(B)m施加外部刺激，使 所述溶剂可溶性基团B从所述颜料前体脱取代，其中A代表颜料的残基，所述溶剂可溶性基 团B由式(I)代表，m代表自然数，其中所述溶剂可溶性基团B与颜料的残基A的碳原子键 合；和将所述颜料前体转化成由氢原子代替所述溶剂可...
【专利技术属性】
技术研发人员：高桥庆太，北村哲，渡边哲也，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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