抛光垫制造技术

本发明专利技术的目的在于提供耐久性优异的抛光垫。本发明专利技术的抛光垫，在基材层上设有抛光层，其特征在于，上述抛光层由具有平均气泡直径为３５～３００μｍ的近似球状的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在对透镜、反射镜等光学材料和硅晶片、硬盘用的玻 璃衬底、铝衬底等的表面进行抛光时使用的抛光垫(粗抛光用或精抛 光用)以及其制造方法。本专利技术的抛光垫特别适合用作精加工用抛光 垫。
技术介绍
通常，硅晶片等半导体晶片、透镜以及玻璃衬底等的镜面抛光中 具有主要为了调节平坦度及面内均匀度的粗抛光、和主要为了改善 表面粗糙度及除去划痕的精抛光。上述精抛光，通常在能旋转的平台上粘贴由软质的发泡聚氨酯形 成的绒面革制的人工皮革，在其上供给碱性水溶液中含有胶体二氧化 硅的抛光剂的同时涂布晶片，由此来进行(专利文献l)。作为在精抛光中使用的精加工用抛光垫，除上述以外还提出了以 下的抛光垫。提出了由绒毛(于'7 7°)层和增强绒毛层的底布构成的绒面革制 的精抛光垫，所述绒毛层在聚氨酯树脂上形成有多个利用发泡剂在厚 度方向上形成的细长的微小孔(绒毛)(专利文献2)。另外，提出了绒面革制、且表面粗糙度以算术平均粗糙度(Ra) 计为5pm以下的精抛光用抛光布(专利文献3)。另外，提出了具有基材部和在该基材部上形成的表面层(绒毛层)、且在上述表面层含有聚卣代乙烯或鹵代乙烯共聚物的精抛光用抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光垫，其是在基材层上设有抛光层的抛光垫，其特征在于，所述抛光层由具有平均气泡直径为３５～３００μｍ的近似球状的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-9-8 244418/20061. 一种抛光垫，其是在基材层上设有抛光层的抛光垫，其特征在于，所述抛光层由具有平均气泡直径为35～300μm的近似球状的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体形成。2. 如权利要求l所述的抛光垫，其中，所述热固性聚氨酯发泡体 在基材层上进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：福田武司，丸山觉史，广濑纯司，中村贤治，堂浦真人，
申请(专利权)人：东洋橡胶工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]