烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法技术

本发明专利技术提供一种烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法，该方法是：先对钕铁硼磁体表面抛光处理后装炉；抽真空５×１０－３－１０－１Ｐａ，通氩气１８～３５Ｐａ，接通直流电源甲，在钕铁硼磁体与真空室壳体之间加１８０～４５０伏负偏压，通过辉光离子轰击对钕铁硼磁体表面处理，轰击时间５～１２ｍｉｎ，关闭直流电源甲；接通直流电源乙，在不锈钢磁控靶与真空室壳体之间加上３５０～５５０伏负偏压，通过辉光离子轰击不锈钢磁控靶，使靶材表面原子以一定能量逸出，沉积在钕铁硼磁体表面上，形成均匀的镀覆防护层；关闭直流电源乙，在氩气保护下降温，出炉抛光处理。本发明专利技术可以在钕铁硼基体材料表面形成耐蚀性优良的不锈钢镀层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于多孔磁体的表面防护
，特别是涉及一种烧结钕铁硼磁体表面磁控 溅射镀覆不锈钢防护层的方法。
技术介绍
烧结钕铁硼磁体是经粉末冶金烧结而成，其宏观组织疏松，表面存在着大量的孔隙，质 量分布不均勻。其显微组织是由多相(主要为Nd2Fe14B主相，富钕相和富硼相)组成，具有如 下特征(1)主相Nd2Fe14B的晶粒呈多边形；(2)富硼相以孤立的边块状、角状或颗粒状分 布在晶界上；(3)富钕相以三种形式存在镶嵌于主相晶粒边界上的块状相；以薄片状包 裹主相的晶界相；分布于主相晶粒内部的弥散的沉质点(量较少)。在潮湿环境中，由于钕 铁硼磁体中各相的化学电位不同，形成局部腐蚀的微电池，富钕相和富硼相相对于Nd2Fe14B 主相来说作为阳极，会优先发生腐蚀，由于阳极相与阴极相的体积分数差别较大，这种微电 池具有小阳极大阴极的特点，少量的富钕相和富硼相作为阳极承担了很大的腐蚀电流密 度，而且它们是分布于晶界处的，从而引起富钕相、富硼相快速溶解和主相脱落，导致钕铁 硼磁性能严重恶化，大大限制了其应用范围。改善钕铁硼磁体耐腐蚀性能的方法有两种其一是在钕铁硼磁体中添加合金元 素，虽然可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：第一步、对钕铁硼磁体表面进行抛光、除油处理，吹干后装炉；第二步、抽真空至５×１０↑［－３］－１０↑［－１］Ｐａ，通氩气至１８～３５Ｐａ，接通直流电源甲，在钕铁硼磁体与真空室壳体之间加上１８０～４５０伏负偏压，　通过辉光离子轰击对钕铁硼磁体表面进行净化、活化预处理，清除钕铁硼磁体表面的油膜、氧化膜，轰击时间５～１２ｍｉｎ　，然后关闭直流电源甲；第三步、接通直流电源乙，在不锈钢磁控溅射靶与真空室壳体之间加上３５０～５５０伏负偏压，通过辉光离子轰击不锈钢磁控溅射靶，使靶材表面原子以一定能量逸出，然后沉积在钕铁硼磁体...

【技术特征摘要】
1.一种烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法，其特征在于该方法 包括以下步骤第一步、对钕铁硼磁体表面进行抛光、除油处理，吹干后装炉；第二步、抽真空至5 X IO^3-IO-1Pa,通氩气至18 35Pa，接通直流电源甲，在钕铁硼磁体 与真空室壳体之间加上180 450伏负偏压，通过辉光离子轰击对钕铁硼磁体表面进行净 化、活化预处理，清除钕铁硼磁体表面的油膜、氧化膜，轰击时间5 12min，然后关闭直流 电源甲；第三步、接通直流电源乙，在不锈钢磁控溅射靶与真空室壳体之间加上350 550伏负 偏压，通过辉光离子轰击不锈钢磁控溅射靶，使靶材表面原子以一定能量逸出，然后沉积在 钕铁硼磁体表面上，形成均勻的镀覆防护层，时间90 300min，由镀层厚度而定；第四步、关闭直流电源乙，在氩气保护下降温，出炉后进行抛光处理。2.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法，其 特征在于所述的步骤一中抛光处理是指，对钕铁硼磁体表面待镀部位先用1000 1200目 砂布轮打磨再用棉布轮抛光，为随后施镀做准备，并为镀覆完成后抛光做前期准备。3.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁庆龙，范广新，张宝庆，李强，刘宝忠，
申请(专利权)人：河南理工大学，
类型：发明
国别省市：41[中国|河南]