【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用来在处理基板的表面上形成规定的透明导电膜的溅射方法和溅射装置，尤其涉及使用交流电源的溅射方法和溅射装置。
技术介绍
在平板显示器(FPD)的制造工艺中，溅射法是在玻璃等的处理基板表面上形成 IT0或IZO等透明导电膜的方法之一。这种溅射法使等离子体气氛下的离子根据要在处理 基板的表面上形成的薄膜的组成，向制作成规定形状的靶加速冲击，使溅射粒子(靶原子) 飞散，附着、堆积在处理基板的表面上，形成规定的透明导电膜。 其中，随着近些年来FPD的大面积化，通过专利文献1已知如下构成的溅射装置。 即，专利文献1中记载的溅射装置具有在真空腔内与处理基板相对并按相等的间隔并列 设置的多片相同形状的靶；向并列设置的靶中各成对的靶施加交流电压，并按照规定的频 率交替改变交流电源的极性。并且，在真空中导入规定的溅射气体(根据靶的种类伴有反 应气体)，通过交流电源向成对的靶施加电力，将各个靶交替转换为阳极电极、阴极电极，在 阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电，形成等离子体气氛，从而对各个靶进行溅射。 专利文献1 :特开2005-290550号公报
技术实现思路
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【技术保护点】
一种溅射方法，在向溅射室内导入工艺气体的同时，向溅射室内与处理基板相对并且以规定的间隔并列设置的多片靶中各成对的靶施加电力，并按照规定的频率交替改变极性，将各个靶交替转换为阳极电极、阴极电极，在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电，形成等离子体气氛，对各个靶进行溅射，从而在处理基板的表面上形成规定的透明导电膜，其特征在于，在溅射中间歇停止向各个靶施加电力。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：矶部辰德，小松孝，佐藤重光，大空弘树，谷口英男，川口昌男，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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