【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种靶材的处理方法，其特征在于，包括：提供靶材，所述靶材的溅射面包括喷砂区域和非喷砂区域；对靶材的待喷砂区域进行喷砂处理，所述喷砂处理包括：进行重力式喷砂处理后进行直压式喷砂处理。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，相原俊夫，大岩一彦，潘杰，王学泽，高建，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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