【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片镀膜设备
，特别是一种硅片镀膜设备内的镀膜载 板。
技术介绍
现有的太阳能电池载板式PECVD镀膜设备，如Roth&Rau公司的，均采用石墨 材质的载板，一方面，在石墨载板的前端与后端容易出现成膜膜厚和折射率不均勻的现 象，造成薄膜颜色上的差异，影响电池外观；另一方面，同时载板的强度在使用过程中 会降低。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是生长膜厚和折射率均勻的薄膜，减少生产 过程中的色差现象。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种硅片镀膜载板，在载 板的前端与后端分别安装一条垂直载板前进方向的勻流条，勻流条高出载板的上端和下端。具体的，勻流条高出载板上端2 10mm，高出载板下端2 10mm。勻流条为石墨材质。本技术的有益效果是勻流条的安装可以显著的降低载板前后端色差片的 产生；同时勻流条的安装增加了石墨载板的强度，使载板更加平稳的运行于设备中，降 低设备发生故障的几率。以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明；附图说明图1是载板安装勻流条的侧面图；图2是载板安装勻流条的俯视图；其中1.载板，2.勻流条。具体实施方式现在结合附图1和2对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的 示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的 构成。如图1和2所示，以156mm*156mm准方形多晶硅太阳能电池用载板为例，在 载板1的前端与后端分别安装一条垂直载板前进方向的勻流条2，勻流条2高出载板上端 2 10mm，高出载板下端2 10mm。勻流条2为石墨材质。权利要求1.一种硅片镀膜载板，其特征是在载...
【技术保护点】
一种硅片镀膜载板，其特征是：在载板（１）的前端与后端分别安装一条垂直载板前进方向的匀流条（２），匀流条（２）高出载板的上端和下端。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张瞩君，
申请(专利权)人：常州天合光能有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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