【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及等离子体应用
,尤其涉及一种等离子体放电与雾化接枝装 置,是在常压下在两个圆弧形等离子体放电区间之间安装的一个实现对薄膜表面接枝的装置。
技术介绍
过去为了提高材料表面的亲水性一般是采用萘钠法腐蚀材料的表面,采用该方法 会带来严重的有毒有害的液体排放,给环保带来很大隐患。利用常压等离子体处理薄膜材料,提高材料表面的亲水性是在近年来迅速发展起 来的等离子体应用技术之一,但是一般材料经过等离子体处理后其表面亲水的时效性一般 都保持不长时间,为了保持薄膜材料表面亲水的时效性,在进行等离子体处理后,还需要在 薄膜表面进行接枝聚合一种新的亲水基团。本专利技术是基于保持薄膜材料的亲水性为目的,在经过等离子体处理后再在其表面 接枝一种亲水基团,所研制的装置是一个结合等离子体放电表面处理和雾化接枝为连续组 合处理的一种新装置。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题有鉴于此,本专利技术的主要目的在于提供一种等离子体放电与雾化接枝装置,以利 用集成辉光等离子体放电和液体雾化的区域来处理穿过该通道的各种薄膜材料,尤其是对 材料的表面进行接枝改性处理。( 二 )技术方案为达到上述目的,本专利技术提供了一种等离子体放电与雾化接枝装置,该装置包括 一组雾化喷头和位于雾化喷头两侧的两个高压电极,该组雾化喷头安装在一个与支架连接 的屏蔽罩上,用于雾化喷出各种液体;该两个高压电极与电源的一端连接,外侧安装一个与 大地连接的屏蔽罩,内侧设有一个金属圆滚轴地电极,当在高压电极与金属圆筒轴地电极 之间加上高频或射频电压时,在高压电极与金属圆筒轴地电极之间的区域产生等离子体。上述 ...
【技术保护点】
一种等离子体放电与雾化接枝装置,其特征在于:该装置包括一组雾化喷头和位于雾化喷头两侧的两个高压电极,该组雾化喷头安装在一个与支架连接的屏蔽罩上,用于雾化喷出各种液体;该两个高压电极与电源的一端连接,外侧安装一个与大地连接的屏蔽罩,内侧设有一个金属圆滚轴地电极,当在高压电极与金属圆筒轴地电极之间加上高频或射频电压时,在高压电极与金属圆筒轴地电极之间的区域产生等离子体。
【技术特征摘要】
1.一种等离子体放电与雾化接枝装置,其特征在于该装置包括一组雾化喷头和位于 雾化喷头两侧的两个高压电极,该组雾化喷头安装在一个与支架连接的屏蔽罩上,用于雾 化喷出各种液体;该两个高压电极与电源的一端连接,外侧安装一个与大地连接的屏蔽罩, 内侧设有一个金属圆滚轴地电极,当在高压电极与金属圆筒轴地电极之间加上高频或射频 电压时,在高压电极与金属圆筒轴地电极之间的区域产生等离子体。2.根据权利要求1所述的等离子体放电与雾化接枝装置,其特征在于该组雾化喷头 雾化喷出的液体构成一个平面,喷在薄膜的表面。3.根据权利要求1所述的等离子体放电与雾化接枝装置,其特征在于该高压电极的 形状为圆弧瓦片形状,所连接的高压电源的输出电压大于5KV,频率范围是1至40KHz。4...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵玲利,杨景华,张超前,王守国,
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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