电浆产生装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种电浆产生装置，包含一中空腔体、一慢波天线，以及一电磁波产生器。该中空腔体具有一容置空间。该慢波天线具有一贯穿该容置空间的中心导电管，以及一套设于该中心导电管上的介电质管。该电磁波产生器系耦合电磁波于该慢波天线上，藉此，该电磁波产生器通过该慢波天线向该容置空间传导并辐射一电磁波，产生强度均匀的电浆。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种电浆产生装置，尤其有关一种用于薄膜工艺或蚀刻工艺的电 浆产生装置。
技术介绍
电楽辅助化学气相沉禾只(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)为一种常见的成长薄膜的镀膜技术。一般而言，电浆辅助化学气相沉积系统，以其 电浆激发源的型式分类，包含有射频电浆以及微波电浆。射频电浆主要包含有电容耦合 (capacitively coupled plasma，CCP)，以及电感華禹合(inductively coupled plasma, I CP) 等。而微波电浆由于具有较高的电浆密度、较高的电子游离率、不需要电极，以及所使用的 系统构造较为简单等因素，使其逐渐受到重视。为了得到大面积的镀膜区域，微波电浆产生装置可设计为线型，其将一传导天线 贯穿于一真空腔体内，并以一柱状石英管套设于该传导天线的外围，以将传导天线与真空 腔体内的空间隔离。操作时，利用传导天线将微波源的微波能量导入真空腔体内，并藉传导 天线辐射电磁波，使电磁波穿过石英管将真空腔体中的特定气体激发为电浆，以提供薄膜 沉积或蚀刻工艺使用。然而，其主要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电浆产生装置，其特征在于，包含：一中空腔体，具有一容置空间；一慢波天线，具有一贯穿该容置空间的中心导电管，以及一套设于该中心导电管上的介电质管；以及一电磁波产生器，用以耦合电磁波于该慢波天线上，藉此，该电磁波产生器通过该慢波天线向该容置空间传导并辐射一电磁波。

【技术特征摘要】
一种电浆产生装置，其特征在于，包含一中空腔体，具有一容置空间；一慢波天线，具有一贯穿该容置空间的中心导电管，以及一套设于该中心导电管上的介电质管；以及一电磁波产生器，用以耦合电磁波于该慢波天线上，藉此，该电磁波产生器通过该慢波天线向该容置空间传导并辐射一电磁波。2.如权利要求1所述的电浆产生装置，其特征在于，该中心导电管由金属导体、非金属 导体，或导电金属氧化物所制成。3.如权利要求1所述的电浆产生装置，其特征在于，该中心导电管的管壁厚度必须大 于电磁波的集肤深度。4.如权利要求1所述的电浆产生装置，该介电质管紧配合地套设于该中心导电管上。5.如权利要求1所述的电浆产生装置，其特征在于，该介电质管由金属化合物，非金属 化合物，或高分子化合物所制成。6.如权利要求1所述的电浆产生装置，其特征在于，该介电质管的介电常数介于2至 10之间。7.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：寇崇善，潘彦儒，林欣桦，王腾纬，詹议翔，林瑞堉，
申请(专利权)人：台达电子工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]