参考电压器件制造技术

技术编号:5052322 阅读:248 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种参考电压器件,包括耗尽型PMOS晶体管和增强型PMOS晶体管,其中,耗尽型PMOS晶体管和增强型PMOS晶体管同为表面导电沟道型晶体管,且耗尽型PMOS晶体管和增强型PMOS晶体管的导电沟道内的离子分布完全相同,且耗尽型PMOS晶体管的栅极为P型掺杂,增强型PMOS晶体管的栅极为N型掺杂,该参考电压器件的阈值电压不易随温度变化,稳定性好。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体
,特别涉及一种参考电压器件
技术介绍
目前,参考电压器件被广泛应用在集成电路产品中,用来为集成电路产 品提供参考电压。集成电路产品的稳定性直接取决于所述参考电压器件的稳 定性,例如当参考电压器件受到温度、环境等影响提供的参考电压值发生变 化,必然会使得集成电路产品的性能发生变化。图1为一种参考电压器件的电路图,图2为一种现有的图1所示的参考 电压器件的剖面结构示意图。参考图1和图2所示,耗尽型PMOS晶体管Pl 的栅极和源极耦接,增强型PMOS晶体管P2的栅极和漏极耦接,耗尽型PMOS 晶体管Pl漏极和增强型PMOS晶体管P2的源极耦接参考电压器件的输出端。 其中,耗尽型PMOS晶体管Pl为耗尽型PMOS晶体管,并且为掩埋沟道工 艺,并且采用N型多晶硅作为栅极;增强型PMOS晶体管P2为增强型,并 且为表面沟道工艺,并且采用N型多晶硅作为栅极。因为在耗尽型PMOS晶 体管Pl和增强型PMOS晶体管P2的沟道杂质分布不同,因此阈值电压和跨 导随温度的变化相差很大。因此上述现有的参考电压器件随温度的变化阈值电压容易发生变化,所 以稳定性较差。
技术实现思路
本技术的本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种参考电压器件,包括耗尽型PMOS晶体管和增强型PMOS晶体管,其特征在于,耗尽型PMOS晶体管和增强型PMOS晶体管同为表面导电沟道型晶体管,且耗尽型PMOS晶体管和增强型PMOS晶体管的导电沟道内的离子分布完全相同,其中耗尽型PMOS晶体管的栅极为P型掺杂,增强型PMOS晶体管的栅极为N型掺杂。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陆云胡林辉张美玲王燕萍
申请(专利权)人:BCD半导体制造有限公司
类型:实用新型
国别省市:KY[开曼群岛]

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