【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别涉及一种电磁场仿真验证方法及电磁场仿真方法。
技术介绍
1、电子器件在高频下的特性表现，与器件结构紧密相关。要实现在设计阶段对系统及部件的电磁兼容、电磁干扰等特性进行评估，就需要对器件进行精确的三维结构电磁场仿真，因此需要用到三维结构电磁场仿真软件。借助三维结构电磁场仿真软件，可以高效地设计包括：射频和微波部件、天线和天线阵及天线罩、高速互连结构、电真空器件等在内的多种高频结构，从而降低设计成本、减少设计周期、增强竞争力。
2、以高q值电感为代表的rf无源器件是rf工艺的必备器件，对该类器件rf特性的精确仿真做出预测也是客户关注重点。由于电路设计中各家使用到的电感结构有差异，目前业内主流的做法是由fab提供用于电磁场仿真的工艺信息文件，客户调用该工艺文件对目标电感进行电磁场仿真。因此，提供用于电磁场仿真的工艺文件是必不可少的，工艺文件的准确性和精确性是非常重要的，在进行仿真时，工艺文件中往往定义有若干需要验证的金属层，在验证过程中，工艺文件转换中可能出现丢层问题。
3、需要说明的是，公开...
【技术保护点】
1.一种电磁场仿真验证方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，导入所述工艺文件和版图结构文件后，还包括使用仿真软件显示版图结构和识别出的金属层信息，以和所述目标金属层对比验证所述工艺文件。
3.根据权利要求2所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，使用EMX仿真工具显示版图结构和识别出的金属层信息，以和所述目标金属层对比验证所述工艺文件。
4.根据权利要求1所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，所述版图结构文件中还含有所有金属层的通孔信息。
5.根据权利要求1所述的电磁场仿...
【技术特征摘要】
1.一种电磁场仿真验证方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，导入所述工艺文件和版图结构文件后，还包括使用仿真软件显示版图结构和识别出的金属层信息，以和所述目标金属层对比验证所述工艺文件。
3.根据权利要求2所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，使用emx仿真工具显示版图结构和识别出的金属层信息，以和所述目标金属层对比验证所述工艺文件。
4.根据权利要求1所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，所述版图结构文件中还含有所有金属层的通孔信息。
5.根据权利要求1所述的电磁场仿真验证方法，其特征在于，在电磁场仿真时将激励分别添加在目标金属层中最底层的金属层和最顶层的金属层。
6.根据权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴园园，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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