利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统技术方案

技术编号:4413704 阅读:211 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统,更详细地说,涉及如下的利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统:针对埋在平板显示面板内或存在于表面、或者从表面突出的微粒,通过一次扫描获取重复的2张以上的图像,从而可通过检查一次即可按照类别检测出大部分的缺陷及异物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统,更详 细地说,涉及如下的利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统 针对埋在平板显示面板内或存在于表面、或者从表面突出的微粒,通过 一次扫描重复获取2张以上的图像,从而可通过检査一次即可按照类别 检测出大部分的缺陷及异物。
技术介绍
以往,作为检査显示面板或半导体晶片的方法之一,采用如下方法, 即,利用一个光源对构成显示面板的玻璃或液晶显示板等透明部件、晶 片等照射光,该光在存在缺陷或异物的部分发生反射,通过检测该反射 光,判断显示面板或半导体晶片的不良与否。如图1所示,平板显示面板或半导体晶片IO位于检査装置上,从荧 光灯等一个或一种连续光源20照射光,然后识别出因存在于上述显示面 板或半导体晶片的缺陷或异物附着部位引起的漫反射,从而检查面板或 半导体晶片表面上是否存在缺陷。但是,在这种利用一个或一种连续光源20的检查方式中,可检查到 的异物种类及特性有限,尤其在检测存在于在传送带上移动的基板的各 种缺陷及异物方面更有限。并且,现有的FPD基板及半导体晶片检査装置通常一次只获取一张 图像。上述一次是指,在工作台式设备中,X-Y工作台移动一次或摄像机 移动一次,在传送带式设备中,传送带传送一次。上述情况下,只能将一种光源观测到的缺陷或异物扫描到图像上,所 以通常检查装置只能用作对特定部分具有较高检测能力的专用检査装置。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述现有技术的问题而提出的,其目的在于,在通过 照明单元对平板显示面板或半导体晶片照射光,以检査埋在平板显示面板或半导体晶片内、或存在于表面的微粒时,通过一个面的扫描获取2 张以上的图像,从而可通过一次检查来按种类精密地检测出大部分的缺 陷或异物。本专利技术的另一目的在于,设置一个以上的照明单元,拍摄从多个角 度反射的光,获取多维扫描图像,从多维确认有无微粒存在。本专利技术的另一目的在于,对一个以上的照明单元依次输出工作信号, 使照明单元对平板显示面板或半导体晶片照射光,以便能够同时检测出 埋在平板显示面板或半导体晶片内或存在于表面的微粒、.以及以一定高 度从表面突出的微粒。本专利技术的另一目的在于,改善以往使用多个专用检查装置的缺点, 采用 一个检査装置一次完成检査。本专利技术的另一目的在于,分别设置多种光源(激光、LED等),各 光源分别具有专门检测出某种缺陷或异物的优异检测能力,从而能够获 取与设置多个专门检查装置时的检查结果相同的结果。本专利技术的另一目的在于,对使用互不相同的光源检测到的一张以上 的图像进行比较,通过相互验证找出或验证缺陷的特性。本专利技术的另一目的在于,当摄像机仅移动可扫描距离时,进行多次 拍摄,获取多种整体扫描图像。为了解决本专利技术的课题,本专利技术提供一种利用重复图像的FPD基板 及半导体晶片检查系统,该检查系统对摄像机拍摄到的图像进行分析,其特征在于,所述检查系统包括摄像机,其设置于平板显示面板或半导体晶片的上侧,对从第一照 明单元供给的光被平板显示面板或半导体晶片反射而生成的反射光进行 拍摄;第一照明单元,其设置在与上述摄像机对应的方向,用于供给摄像 机进行拍摄所需的光量7反射镜,其使从上述第一照明单元供给的光以一定角度折射,照射到平板显示面板;以及检查控制器,其用于使上述第一照明单元和摄像机进行工作,接收 从摄像机输出的拍摄数据的图像,并对图像进行校正,摄像机对可扫描的第一行区域进行扫描之后,使平板显示面板或半 导体晶片移动,当总移动距离达到摄像机可扫描的距离的一半时,使第 二行区域与第一行区域的一半重叠而进行扫描,从而通过扫描到的重复 图像,检查埋在平板显示面板或半导体晶片内、或存在于表面的微粒。具备上述结构及作用的本专利技术的利用重复图像的FPD基板及半导体 晶片检查系统能够发挥如下效果在通过照明单元对平板显示面板或半 导体晶片照射光,以检查埋在平板显示面板或半导体晶片内、或存在于 表面的微粒时,通过一个面的扫描获取2张以上的图像,从而可通过一 次检查来按种类精密地检测出大部分的缺陷或异物。并且,设置一个以上的照明单元,拍摄从多个角度反射的光,获取 多维扫描图像,从多维确认有无微粒存在。并且,对至少一个以上的照明单元依次输出工作信号,使照明单元 对平板显示面板或半导体晶片照射光,以便能够同时检测出埋在平板显 示面板或半导体晶片内或存在于表面的微粒、以及以一定高度从表面突 出的微粒,由此减少检查时间。而且,改善以往需要使用多个专用检查装置的缺点,釆用一个检査 装置一次完成检查,从而能够减少导入检査装置所需的费用。此外,分别设置多种光源(激光、LED等),各光源分别具有专门 检测出某种缺陷或异物的优异检测能力,从而能够获取与设置多个专门 检查装置时的检查结果相同的结果。并且,对使用互不相同的光源检测到的一张以上的图像进行比较, 通过相互验证找出或验证缺陷的特性。而且,当摄像机仅移动可扫描距离时,进行多次拍摄,获取多种整 体扫描图像,根据摄像机的扫描速度、FPD基板及半导体晶片移动速度, 组合2张以上的重复扫描图像来进行使用。附图说明图1是示出基于现有检査装置的检查方式的示意图。图2是本专利技术的一实施例的利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统的侧视图。图3是示出根据本专利技术的一实施例的利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统的同步信号,使摄像机、第一照明单元及第二照明单 元同步的示意图。图4是示出本专利技术的一实施例的利用重复图像的FPD基板及半导体 晶片检查系统具有两个第一照明单元的情况下,根据同步信号使摄像机、 两个照明单元同步的示意图。图5是示出本专利技术的一实施例的利用重复图像的FPD基板及半导体 晶片检查系统中设置多个照明单元及摄像机进行检査的例子的示意图。图6是利用FPD基板及半导体晶片检查系统对偶数行进行扫描的 图,该检査系统利用了重复图像。图7是利用FPD基板及半导体晶片检查系统对奇数行进行扫描的 图,该检查系统利用了重复图像。图8是将利用FPD基板及半导体晶片检查系统对偶数行及奇数行进 行扫描获得的图像合成的图,该检查系统利用了重复图像。图9是本专利技术的一实施例的利用了重复图像的FPD基板及半导体晶 片检查系统的检査控制器的框图。图IO是示出根据本专利技术的一实施例检査到存在微粒的情况下,利用 了重复图像的FPD基板及半导体晶片检査系统的摄像机检测到的图像的 亮度差的图。图11是本专利技术的另一实施例的利用了重复图像的FPD基板及半导 体晶片检查系统的概念图。图12是本专利技术的一实施例的利用了重复图像的FPD基板及半导体 晶片检查系统的重复扫描的例示图。图13是本专利技术的一实施例的利用了重复图像的FPD基板及半导体 晶片检查系统的重复扫描的结果例示图。图14是本专利技术的一实施例的利用了重复图像的FPD基板及半导体 晶片检査系统的复合重复扫描的结果例示图。 附图标记说明110摄像机;120第一照明单元;130反射镜;140第二照明单元具体实施例方式为了完成上述课题,本专利技术的一实施例的利用重复图像的FPD基板 及半导体晶片检查系统,对摄像机拍摄到的图像进行分析,所述检查系 统包括-摄像机,其设置于平板显示面板或半导体晶片的上侧,对从第一照 明单元供给的光被平板显示面板或半导体晶片反射而生成的反本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用重复图像的FPD基板及半导体晶片检查系统,该检查系统对摄像机拍摄到的图像进行分析,其特征在于,所述检查系统包括: 至少一个以上的第一照明单元,其设置在与上述摄像机对应的方向,用于供给摄像机进行拍摄所需的光量: 至少一个以 上的第二照明单元,其设置在与上述摄像机并排的方向,用于供给摄像机进行拍摄所需的光量: 反射镜,其使从上述第一照明单元供给的光以一定角度折射,照射到平板显示面板或半导体晶片; 至少一个以上的摄像机,其设置于平板显示面板或半导体晶片 的上侧,对从至少一个以上的第一照明单元供给的光被平板显示面板或半导体晶片反射而生成的反射光进行拍摄,或者对从至少一个以上的第二照明单元供给的光被存在于平板显示面板或半导体晶片的微粒反射而生成的反射光进行拍摄;以及 检查控制器,其用于使 上述至少一个以上的第一照明单元、至少一个以上的第二照明单元及摄像机进行工作,接收从摄像机输出的拍摄数据的图像,并对图像进行校正, 该检查控制器还包括: 脉冲生成部,其生成脉冲信号; 同步信号生成部,其根据上述脉冲生成部生成 的脉冲信号,生成同步信号; 工作信号生成部,其与上述同步信号生成部生成的同步信号同步地输出用于使照明单元工作的工作信号; 图像分析部,其接收从摄像机输出的拍摄数据的图像,根据照明单元的光源来分析重复的扫描图像; 奇数扫描图 像加法部,其仅提取经上述图像分析部分析的重复扫描图像中的奇数扫描行,并进行汇总; 偶数扫描图像加法部,其仅提取经上述图像分析部分析的重复扫描图像中的偶数扫描行,并进行汇总; 扫描加法图像输出部,其将通过上述奇数扫描图像加法部和偶 数扫描图像加法部汇总的各个扫描图像输出;以及 中央控制部,其对上述脉冲生成部、同步信号生成部、工作信号生成部、图像分析部、奇数扫描图像加法部、偶数扫描图像加法部、以及扫描加法图像输出部的整体工作进行控制。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪起贤罗相澯金兑洪
申请(专利权)人:外知铺乐内特有限公司
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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