【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜
,具体涉及一种离子溅镀装置。
技术介绍
—般传统的真空电镀系统可分为真空热蒸镀机台系统和真空溅射镀机台系统。存 在的问题是真空热蒸镀机台附着力比较差,尤其是被镀者表面不平整或是洁净度不够时, 镀上去的薄膜层很容易脱落,而真空溅射镀机台系统速度太慢,又有被镀物必须是平面物 体的要求。 传统的真空热蒸镀机台系统构造如图1所示 在一个真空腔室设有一个可迅速加热蒸镀原材料且使之气化挥发的加热器或坩 锅,蒸镀原材料通常为金属或其它固体化合物。另外在腔室内加热器或坩锅的上方设置固 定被蒸镀的器件或物体。当真空腔室的空气及其它气体被抽除,真空度降低至一定程度之 后,加热坩锅或加热器以使蒸镀原材料挥发成金属蒸气(微粒)飞扬并附着至被蒸镀器件 或物体上。 真空热蒸镀机台系统的优点在于将蒸镀原材料挥发并附着到被镀的组件或材料 上的速度很快,其缺点如下 1、附着不强容易脱落,造成斑驳不光滑的表面。 2、要求的真空度要高,而抽排气的时间比较长(通常真空度要求至少在 1X10—4Torr以上),真空度越高蒸度的品质会越好,但同时抽真空的时间也要越久。 3、浪费蒸 ...
【技术保护点】
一种离子溅镀装置,包括一腔体,所述腔体内部一侧固定设置有至少一个用于安置被电镀物的固定架,其另一侧设有用于加热蒸镀原物质的加热器件,其特征在于:所述被电镀物通过固定架与一闭路直流电源的负极相连,所述加热器件与所述闭路直流电源的正极相连。
【技术特征摘要】
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