一种靶座结构，其包括底座、靶材、镀膜层、靶座支架及基座支架。所述镀膜层包括第一靶座、第二靶座及基座。所述第一靶座、第二靶座及基座均为同心的环形体。所述第一靶座和第二靶座由所述靶座支架支撑在所述底座上且在同一平面内围成一连续闭合的环形镀膜区域。所述基座由所述基座支架支撑在所述底座上并位于所述环形镀膜区域内。所述第一靶座和第二靶座上包覆有所述靶材。因所述环形镀膜区域为连续闭合的，所述靶材原子溅射进入环形镀膜区域后不易向外扩散，从而提高环形镀膜区域内靶材原子浓度的均匀性。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种靶座结构。
技术介绍
溅射靶座是真空镀膜设备中的主要装置之一。现有的溅射靶座多为直立的柱状结 构。每两个所述柱状靶座以放置被镀物件的基座为中心对称地设置，所述柱状靶座相对一 侧的表面上涂覆有镀膜用的靶材。在进行镀膜时，所述靶材被电离的惰性气体离子轰击后 向靶座之间的区域溅射靶材原子以附着在被镀物件的表面上形成膜层。但是，在整个溅镀空间内所述对称设置的柱状靶座并不连续分布，从而导致所述 柱状靶座之间的靶材原子浓度分布不均勻，容易造成被镀物件的膜层厚度不均勻。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种可提高被镀物件膜层均勻性的靶座结构。一种靶座结构，其包括底座、靶材、镀膜层、靶座支架及基座支架。所述镀膜层包括 第一靶座、第二靶座及基座。所述第一靶座、第二靶座及基座均为同心的环形体。所述第一 靶座和第二靶座由所述靶座支架支撑在所述底座上且在同一平面内围成一连续闭合的环 形镀膜区域。所述基座由所述基座支架支撑在所述底座上并位于所述环形镀膜区域内。所 述第一靶座和第二靶座上包覆有所述靶材。相对于现有技术，本专利技术所提供的靶座结构通过在相互同心的环形第一靶座和第 二靶座上包覆靶材以向由所述第一靶座和第二靶座围成的连续闭合的环形镀膜区域内溅 射靶材原子，以确保所述镀膜区域具有均勻的靶材原子浓度，从而提高所镀膜层的均勻性。附图说明图1是本专利技术实施方式提供的靶座结构的结构示意图。 具体实施例方式如图1所示，本专利技术实施方式所提供的靶座结构2包括底座20、靶材22、镀膜层 24、靶座支架26及基座支架28。所述镀膜层24包括第一靶座240、第二靶座242及基座244。所述第一靶座240、 基座244及第二靶座242为直径依次减小的同心环形体。所述靶座支架26可为多个与底座20固定连接的直立杆体，其包括用于支撑所述 第一靶座240的第一靶座支架260及用于支撑所述第二靶座242的第二靶座支架262。所 述第一靶座240上间隔均勻地设置有多个第一连接通孔2400，所述第一靶座支架260穿过 所述第一连接通孔2400并与所述第一靶座240固定连接。所述第二靶座242上间隔均勻 地设置有多个第二连接通孔2420，所述第二靶座支架262穿过所述第二连接通孔2420并与 所述第二靶座242固定连接。所述第一靶座支架260和第二靶座支架262分别将所述第一靶座240和第二靶座242支撑在同一平面内以围成一个连续闭合的环形镀膜区域248。所 述第一靶座240及第二靶座242上包覆有所述靶材22。所述基座支架28可为多个与底座20固定连接的直立杆体。所述基座244上间隔 均勻地设置有多个第三连接通孔2440，所述基座支架28穿过所述第三连接通孔2440并与 所述基座244固定连接。所述基座支架28将所述基座244支撑在所述环形镀膜区域248 内，并位于所述第一靶座240和第二靶座242所在的平面内。所述基座244与第一靶座240 相对的一侧设置有挂持结构245。所述挂持结构245上可放置待镀膜的基材，如电子设备外 壳、光学玻璃等。可以理解的是，为了提高所述第一靶座支架260、第二靶座支架242和基座支架28 分别与第一靶座240、第二靶座242及基座244之间固定连接的稳定性，所述第一靶座240 与至少三个所述第一靶座支架260固定连接，所述第二靶座242与至少三个所述第二靶座 支架262固定连接，所述基座244与至少三个所述基座支架28固定连接。所述第一靶座240及第二靶座242均包括多个转动部246。所述转动部246间隔 均勻地设置在所述环形的第一靶座240及第二靶座242上。所述靶材22包覆在所述转动 部246上。所述转动部246可由设置在第一靶座240及第二靶座242内的马达(图未示) 带动，以各自转动部246所处的圆弧段为转动轴心进行转动。在镀膜过程中，所述靶材22 在转动部246的带动下转动，从而可以不断地更换第一靶座240及第二靶座242上面向环 形镀膜区域248的靶材表面，以提高靶材22的利用率。所述基座244在底座20上的环形投影处设置有环形驱动装置200。所述环形驱动 装置200由设置在底座20内的马达(图未示)驱动，可带动所述基座244在镀膜过程中绕 基座244的中心旋转使得被镀基材在环形镀膜区域248内运动，以提高镀膜的均勻性。在进行镀膜时，所述第一靶座240及第二靶座242上朝向环形镀膜区域248的靶 材表面受到电离态惰性气体离子的轰击而向所述环形镀膜区域248内溅射靶材原子。因为 所述第一靶座240及第二靶座242所围成的环形镀膜区域248连续且闭合，所述溅射进入 环形镀膜区域248的靶材原子不易扩散出所述环形镀膜区域248，所述环形镀膜区域248内 的靶材原子均勻分布，有利于提高被镀膜层的均勻性。可以理解的是，为了扩大镀膜空间，所述靶座结构2可进一步包括多个相互平行 设置的镀膜层24。每一个镀膜层24内的第一靶座240、第二靶座242及基座244分别固定 连接在对应的第一靶座支架260、第二靶座支架262及基座支架28上以形成多个相互平行 的环形镀膜区域248。相对于现有技术，本专利技术所提供的靶座结构通过在相互同心的环形第一靶座和第 二靶座上包覆靶材以向由所述第一靶座和第二靶座围成的连续闭合的环形镀膜区域内溅 射靶材原子，以确保所述镀膜区域具有均勻的靶材原子浓度，从而提高所镀膜层的均勻性。最后应说明的是，以上实施方式仅用以说明本专利技术的技术方案而非限制，尽管参 照较佳实施例对本专利技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本专利技术 的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本专利技术技术方案的精神和范围。权利要求一种靶座结构，其包括底座、靶材、镀膜层、靶座支架及基座支架，其特征在于，所述镀膜层包括第一靶座、第二靶座及基座，所述第一靶座、第二靶座及基座均为同心的环形体，所述第一靶座和第二靶座由所述靶座支架支撑在所述底座上且在同一平面内围成一连续闭合的环形镀膜区域，所述基座由所述基座支架支撑在所述底座上并位于所述环形镀膜区域内，所述第一靶座和第二靶座上包覆有所述靶材。2.如权利要求1所述的靶座结构，其特征在于，所述靶座支架包括用于支撑第一靶座 的第一靶座支架及用于支撑第二靶座的第二靶座支架，所述第一靶座支架、第二靶座支架 及基座为多个与底座固定连接的直立杆体，所述第一靶座、第二靶座及基座上分别间隔均 勻地设置有多个连接通孔，所述第一靶座支架穿过第一靶座上的连接通孔并与第一靶座固 定连接，所述第二靶座支架穿过第二靶座上的连接通孔并与第二靶座固定连接，所述基座 支架穿过所述基座上的连接通孔并与所述基座固定连接。3.如权利要求2所述的靶座结构，其特征在于，所述第一靶座、与至少三个第一靶座支 架固定连接，所述第二靶座与至少三个第二靶座支架固定连接，所述基座与至少三个基座 支架固定连接。4.如权利要求2所述的靶座结构，其特征在于，所述靶座结构包括多个相互平行的镀 膜层，每一个镀膜层内的第一靶座、第二靶座及基座分别固定连接在对应的第一靶座支架、 第二靶座支架及基座支架上。5.如权利要求1所述的靶座结构，其特征在于，所述靶座结构进一步包括环形驱动装 置，所述环形驱动装置设置在所述基座在底座上的环形投影处，所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种靶座结构，其包括底座、靶材、镀膜层、靶座支架及基座支架，其特征在于，所述镀膜层包括第一靶座、第二靶座及基座，所述第一靶座、第二靶座及基座均为同心的环形体，所述第一靶座和第二靶座由所述靶座支架支撑在所述底座上且在同一平面内围成一连续闭合的环形镀膜区域，所述基座由所述基座支架支撑在所述底座上并位于所述环形镀膜区域内，所述第一靶座和第二靶座上包覆有所述靶材。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王仲培，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。