织构化硼化物基陶瓷及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种织构化硼化物基陶瓷及其制备方法，属于结构陶瓷材料领域。本发明专利技术以ＭＢ２粉体为原料粉体（Ｍ＝Ｔｉ或Ｚｒ或Ｈｆ），加入原料粉体０～４０ｗｔ％的β－ＳｉＣ粉末；以聚乙烯亚胺或丙烯酸类共聚物为分散剂，加入水中形成水溶液，调节浆料水溶液ｐＨ值６．５～９，混合后除泡，浆料在１０～３０Ｔ的磁场中注浆成型固化后，在５００～７００℃下热处理；采用热压或放电等离子烧结。本发明专利技术获得相对密度大于９？７％的致密陶瓷，陶瓷的晶粒沿（００１）方向高度取向排列，Ｌｏｔｇｅｒｉｎｇ取向因子ｆ（００１）大于０．８５，力学性能、抗氧化性能表现出明显的各向异性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，属于结构陶瓷材料领域。
技术介绍
硼化物基(MB2基)材料因其具有高熔点，高热导，高的化学稳定性以及良 好的力学性能，被认为是这一领域最有潜力的候选材料之一 [M.M.Opeka， I. G. Talmy， E.J.Wuchina， J.A. Zaykoski， and S. J. Causey，Mechanical， thermal, andoxidation properties of refractory hafnium and zirconium compounds, J. Eur. Ceram. Soc.， 19 [13-14] 2405-14 (1999)]。为提高硼化物基材料的性能，目前大多数的研究集中在材料的 组分设计上，即通过选择不同的添加剂来改变材料的组分以改善材料的性能。与组分设计 不同，制备晶粒具有高度取向的织构化陶瓷，设计材料显微结构是改善其性能的另一有效 途径。晶粒的定向排列不仅可以防止材料中一些缺陷的形成，增加形成裂纹桥和裂纹偏转 的可能性，从而在垂直于晶粒排列的方向提高材料的力学性能；而且还能利用材料性能的 各向异性实现材料在某些本文档来自技高网...

【技术保护点】
织构化硼化物基陶瓷，其特征在于，基本组成为ＭＢ↓［２］，其中Ｍ＝Ｔｉ或Ｚｒ或Ｈｆ；复合有基本组成的０～４０ｗｔ％的β－ＳｉＣ，获得的陶瓷晶粒沿＜００１＞方向取向排列。

【技术特征摘要】
织构化硼化物基陶瓷，其特征在于，基本组成为MB2，其中M＝Ti或Zr或Hf；复合有基本组成的0～40wt％的β-SiC，获得的陶瓷晶粒沿<001>方向取向排列。2. 按权利要求1所述的织构化硼化物基陶瓷，其特征在于，复合有基本组成的0 20wt^的P-SiC。3. 织构化硼化物基陶瓷的制备方法，包括下述步骤(1) 以MB2粉体为原料粉体，其中M二Ti或Zr或Hf，加入原料粉体0 40wt^的P-SiC粉末；(2) 以水为溶剂，以聚乙烯亚胺或丙烯酸类共聚物为分散剂，分散剂用量为原料粉体的0. 5 3. Owt% ，上述原料粉体和分散剂加入水中形成水溶液，调节浆料水溶液pH值6. 5 9，混合后除泡；(3) 上述浆料在10 30T的磁场中注浆成型；(4) 注浆成型固化后，将坯体取出干燥，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：张国军，倪德伟，阚艳梅，王佩玲，
申请(专利权)人：中国科学院上海硅酸盐研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]