【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于功能陶瓷涂层材料，涉及一种透明耐磨掺杂氧化物涂层、氧化物复合涂层及其制备方法。
技术介绍
1、氧化物陶瓷涂层(如sio2、al2o3、tio2基涂层)因其高透光性、化学稳定性及适中的力学性能，广泛应用于光学器件保护膜、触控面板表面硬化层及柔性电子封装领域。
2、目前，氧化物陶瓷涂层的制备方法包括：(1)溶胶-凝胶法：通过金属醇盐水解形成溶胶，涂覆后高温烧结(400～600℃)结晶化。该方法工艺简单，但存在孔隙率高(＞5％)、硬度低(＜6gpa)及高温退火导致基底热损伤(如聚合物变形)等问题。(2)磁控溅射法：利用单一氧化物靶材溅射沉积。虽能获得较高硬度(al2o3涂层硬度12～15gpa)，但透光率显著下降(可见光波段≤85％)，且脆性大(断裂韧性＜1.5mpa)。(3)化学气相沉积(cvd)：通过气态前驱体高温分解沉积氧化物。其涂层结合强度高，但沉积温度＞800℃，仅适用于耐高温基底(如陶瓷、金属)，设备复杂且成本增加50％以上。(4)等离子喷涂：高速喷涂熔融氧化物粉末，常用于制备al2o3，tio2等涂层和...
【技术保护点】
1.一种透明耐磨掺杂氧化物涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述旋涂的转速为800～2500r/min，时间为30～90s。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述固化为在空气中静置15～90min，使溶剂挥发并固化。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述烧结的温度为200～400℃，优选为250～350℃，保温时间为1～5h；优选地，升温速率为1～5℃/min；更优选地，环境气氛为空气气氛。
5.一种根据权利要求1-4中任...
【技术特征摘要】
1.一种透明耐磨掺杂氧化物涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述旋涂的转速为800～2500r/min，时间为30～90s。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述固化为在空气中静置15～90min，使溶剂挥发并固化。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述烧结的温度为200～400℃，优选为250～350℃，保温时间为1～5h；优选地，升温速率为1～5℃/min；更优选地，环境气氛为空气气氛。
5.一种根据权利要求1-4中任一项所述的制备方法制备得到的透明耐磨掺杂氧化物涂层，其特征在于，所述透明耐磨掺杂氧化物涂层的化学式为zno(1-x)f2x，其中0.02～0.06；
<...【专利技术属性】
技术研发人员：支键，徐子涵，韩梅，
申请(专利权)人：中国科学院上海硅酸盐研究所，
类型：发明
国别省市：
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