【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种微机电元件制作方法,其特征在于,包含: 提供一个第零层基板; 在该基板上形成微机电元件区域,在此微机电元件区域中设置有第一牺牲区域,以将微机电元件的悬浮结构部分与微机电元件的其它部分区隔开; 侧向蚀刻去除该第一牺牲区域;以及 针对该第零层基板进行面型微加工。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:王传蔚,李昇达,
申请(专利权)人:原相科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
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