包括反应封端的重氮化合物与头发的头发染色方法和相应的组合物和化合物技术

染色多孔材料的方法，其包括：ａ）将至少一种封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上，和ｂ）然后使存在于该材料上的封端的重氮化合物与头发反应。另外，还要求了新的染色化合物及其组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括反应封端的重氮化合物与头发的头发染色方法和相应的组合物和化合物本专利技术涉及一种采用封端的重氮化合物(capped diazonium compounds)染色多孔材料例如金属、木材或者含有角蛋白的纤维，尤其是人类头发的方法。大多数情况下使用氧化染料对头发染色；然而，它们也不能满足所有的要求。清洗牢固性(fastness to washing)通常不充足，另外，所要求的染色条件通常造成对头发较多或较少量的损伤。因此需要一种不具有所提到的缺点或者具有不明显程度的缺点的染色方法。本专利技术涉及一种染色多孔材料的方法，该方法包括：a)将至少一种封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上，和b)然后使存在于该材料上的封端的重氮化合物与头发反应。获得的染色性显著在于突出的清洗牢固性，并且实际上对头发没有损伤。此外，由于染料组分不会渗透到皮肤中并且可以容易地将未固定的染料洗去，因此头皮不会染色。合适的封端的重氮化合物包括，例如式(1)、(2)、(3)、(4)或(5)的化合物其中Q是有机化合物的基团，优选为有机化合物的未取代或取代的非离子-->的、阳离子的、两性的、两性离子的或者阴离子的基团，R是未取代或取代的水溶性脂族或芳族胺的基团以及T是未取代或取代的脂族或芳族基团，其中这些基团中的至少一个必须含有赋予水溶性的基团(radicalimparting water solubility)。合适的赋予水溶性的基团R包括，例如SO3H、COOH、OH、下式的季铵基团其中R1、R2和R3各自独立地是未取代或取代的烷基，An是阴离子；或者作为阳离子杂环一部分的季氮基团(quaternised nitrogen radical)。根据本专利技术，烷基R、R1、R2、R3和R4通常被理解为开链或支化的烷基，例如甲基、乙基、正-或异丙基和正-、仲-或叔丁基。这些烷基可以被例如羟基、羧基、卤素、氰基或者被C1-C4烷氧基单取代或多取代。优选地，这些烷基是未取代的并且各自含有1-4，尤其是1或2个碳原子。根据本专利技术，芳基例如为取代或未取代的苯基或萘基。优选地，芳基为苯基。芳烷基例如为(C1-C4烷基)苯基、优选为苄基。合适的阴离子An是无机和有机阴离子，例如卤离子如氯离子、溴离子或碘离子，硫酸根、硫酸氢根、甲基硫酸根、甲酸根、乙酸根和乳酸根。通常通过制备方法来确定阴离子。优选地，存在着氯离子、硫酸氢根、硫酸根、甲硫酸根或乙酸根。Q例如是未取代或取代的芳族或杂环或非杂环基团，其为中性或离子性基团(neutral or inonic residue)，例如阳离子、阴离子、两性离子或者两性基团。例如，未取代或取代的苯基、萘基、噻吩基、1，3-噻唑基、1，2-噻唑基、1，3-苯并噻唑基、2，3-苯并噻唑基、咪唑基、1，3，4-噻二唑基(1，3，4-thiadiazolyl)、1，3，5-噻二唑基(1，3，5-thiadiazolyl)、1，3，4-三唑基、吡唑-->基、苯并咪唑基、苯并吡唑基、吡啶基、喹啉基、嘧啶基和异噁唑基、氨基二苯基、氨基二苯醚以及偶氮苯基团(azobenzenyl)是合适的。作为有机化合物的阳离子基团的Q包括例如下面于式(40)中所定义的基团A+。含有例如季氮的合适阳离子杂环Q例如为1，3-噻唑基、1，2-噻唑基、1，3-苯并噻唑基、2，3-苯并噻唑基、咪唑基、1，3，4-噻二唑基、1，3，5-噻二唑基、1，3，4-三唑基、吡唑基、苯并咪唑基、苯并吡唑基、吡啶基、喹啉基、嘧啶基和异噁唑基。优选的含有季氮的阳离子杂环是咪唑基、吡啶基或者噻唑基。更优选的含有季氮的阳离子杂环是下式的咪唑基其中R4是取代或未取代的C1-C4烷基、芳基或芳烷基，优选为甲基、乙基、丙基，以及更优选为甲基。这些基团可以被例如C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、卤素例如氟、溴或氯，硝基、三氟甲基、CN、SCN、C1-C4烷基磺酰基、苯基磺酰基、苄基磺酰基、二-C1-C4烷基氨基磺酰基、C1-C4烷基羰基氨基、C1-C4烷氧基磺酰基或者被二-(羟基-C1-C4烷基)氨基磺酰基单取代或多取代。另外，合适的阳离子芳族基团Q是下式的基团或其中R80和R81各自独立地是氢；未取代或取代的直链或支化的C1-C6烷基、OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH；以及优选地，阳离子芳族基团Q是下式的基团或以及更优选地，阳离子芳族基团Q是下式的基团-->或最优选地，阳离子芳族基团Q是下式的基团或另外，合适的基团Q如下：-->-->另外，在本专利技术的上下文中，R是未取代或取代的水溶性脂族或芳族胺的基团。优选地，R是式-NR16R17的基团，其中R16为H；未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH，以及R17为未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH。更优选地，R是式-NR16R17的基团，其中R16为未取代的直链或支化的C1-C6烷基，以及R17为未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基，优选被一个选自以下基团的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH。最优选地，R是式-NR16R17的基团，其中R16为未取代的直链或支化的C1-C6烷基，优选为甲基或乙基，最优选甲基；以及R17为未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH。R16为未取代的直链或支化的C1-C6烷基，优选为甲基或乙基，最优选-->甲基；以及R17为未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH。合适的胺化合物(R-H)的例子是甲氨基乙酸(肌氨酸)、甲氨基丁酸、甲氨基丙酸、乙氨基乙酸、二甲胺、二乙胺、二丙胺、二异丙胺、二丁胺、二仲丁胺、二叔丁胺、乙氨基丁酸、1-甲氨基-乙烷-2-磺酸、1-乙氨基-乙烷-2-磺酸和1-甲氨基-丙烷-3-磺酸。优选地，R还表示未取代的苯胺基团；未取代的氨基萘基团；苯胺或氨基萘基团，其中苯环或萘环被一个或多个相同或不同的取代基所取代，所述取代基选自：COOH、SO3H、CN、卤素、SO2C1-C2烷基、未取代的直链或支化的C1-C4烷基，被OH、羧基、COC1-C2烷基或SO2-N(C1-C4烷基)-(CH2)1-4SO3H取代的直链或支化的C1-C4烷基，以及其中氨基被H、未取代的直链或支化的C1-C4烷基或者被OH或羧基取代的直链或支化的C1-C4烷基所取代。合适的这些芳族胺本文档来自技高网...

【技术保护点】
染色多孔材料的方法，其包括：ａ）将至少一种封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上，和ｂ）然后使存在于该材料上的封端的重氮化合物与头发反应。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2003-5-15 03101364.2;EP 2003-12-19 03104813.51.染色多孔材料的方法，其包括：a)将至少一种封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上，和b)然后使存在于该材料上的封端的重氮化合物与头发反应。2.根据权利要求1的方法，其包括：a)将式(1)、(2)、(3)、(4)或(5)中至少一种的封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上其中Q是有机化合物的基团，R是未取代或取代的水溶性脂族或芳族胺的基团，和T是未取代或取代的脂族或芳族基团，其中这些基团的至少一个必须含有赋予水溶性的基团，和b)然后使存在于该材料上的封端的重氮化合物与头发反应。3.根据前述权利要求任一项的方法，其包括：a)将式(1)、(2)、(3)、(4)或(5)中至少一种的封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上-->其中Q是未取代的苯基；萘基；噻吩基；1，3-噻唑基；1，2-噻唑基；1，3-苯并噻唑基；2，3-苯并噻唑基；咪唑基；1，3，4-噻二唑基；1，3，5-噻二唑基；1，3，4-三唑基；吡唑基；苯并咪唑基；苯并吡唑基；吡啶基；喹啉基；嘧啶基；异噁唑基；氨基二苯基；氨基二苯醚和偶氮苯基团；或者Q是被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、卤素例如氟、溴或氯，硝基、三氟甲基、CN、SCN、C1-C4烷基磺酰基、苯基磺酰基、苄基磺酰基、二-C1-C4烷基氨基磺酰基、C1-C4烷基羰基氨基、C1-C4烷氧基磺酰基或者被二-(羟基-C1-C4烷基)氨基磺酰基单取代或多取代的苯基、萘基、噻吩基、1，3-噻唑基、1，2-噻唑基、1，3-苯并噻唑基、2，3-苯并噻唑基、咪唑基、1，3，4-噻二唑基、1，3，5-噻二唑基、1，3，4-三唑基、吡唑基、苯并咪唑基、苯并吡唑基、吡啶基、喹啉基、嘧啶基和异噁唑基、氨基二苯基、氨基二苯醚和偶氮苯基团；或者Q是有机化合物的阳离子基团；以及R是式-NR16R17的基团，其中R16为氢；未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH，以及R17为未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个-->或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH，或者R是未取代的苯胺基团；未取代的氨基萘基团；苯胺或氨基萘基团，其中苯环或萘环被一个或多个相同或不同的取代基所取代，所述取代基选自：COOH、SO3H、CN、卤素、SO2C1-C2烷基、未取代的直链或支化的C1-C4烷基，被OH、羧基、COC1-C2烷基或SO2-N(C1-C4烷基)-(CH2)1-4SO3H取代的直链或支化的C1-C4烷基，以及其中氨基被氢、未取代的直链或支化的C1-C4烷基或者被OH或羧基取代的直链或支化的C1-C4烷基所取代；或者T是未取代的直链或支化的C1-C6烷基，或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、NH(C1-C2烷基)、N(C1-C2烷基)2、CN、卤素和OH，或者T是未取代的苯基；未取代的萘基；被一个或多个相同或不同的取代基取代的苯基或萘基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、NH(C1-C2烷基)、N(C1-C2烷基)2、CN、卤素和OH，和b)然后使存在于该材料上的封端的重氮化合物与头发反应。4.根据前述权利要求任一项的方法，其包括：a)将式(1)、(2)、(3)、(4)或(5)中至少一种的封端的重氮化合物施加到将被染色的材料上-->其中Q是未取代的苯基；萘基；噻吩基；1，3-噻唑基；1，2-噻唑基；1，3-苯并噻唑基；2，3-苯并噻唑基；咪唑基；1，3，4-噻二唑基；1，3，5-噻二唑基；1，3，4-三唑基；吡唑基；苯并咪唑基；苯并吡唑基；吡啶基；喹啉基；嘧啶基；异噁唑基；氨基二苯基；氨基二苯醚和偶氮苯基团；或者Q是被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、卤素例如氟、溴或氯，硝基、三氟甲基、CN、SCN、C1-C4烷基磺酰基、苯基磺酰基、苄基磺酰基、二-C1-C4烷基氨基磺酰基、C1-C4烷基羰基氨基、C1-C4烷氧基磺酰基或者被二-(羟基-C1-C4烷基)氨基磺酰基单取代或多取代的苯基、萘基、噻吩基、1，3-噻唑基、1，2-噻唑基、1，3-苯并噻唑基、2，3-苯并噻唑基、咪唑基、1，3，4-噻二唑基、1，3，5-噻二唑基、1，3，4-三唑基、吡唑基、苯并咪唑基、苯并吡唑基、吡啶基、喹啉基、嘧啶基和异噁唑基、氨基二苯基、氨基二苯醚和偶氮苯基团；或者Q是有机化合物的阳离子基团；R是式-NR16R17的基团，其中R16为氢；未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH，以及R17为未取代的直链或支化的C1-C6烷基或者被一个或多个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：OC1-C4烷基、COOH、COOC1-C2烷基、SO3H、NH2、CN、卤素和OH，T是被一个或两个相同或不同的取代基取代的直链或支化的C1-C6烷基，所述取代基选自：COOH、SO3H、NH2、NH(C1-C2烷基)和N(C1-C2烷基)2，或者T是未取代...

【专利技术属性】
技术研发人员：维克托P埃利厄，比特弗罗林，多米尼克考夫曼，
申请(专利权)人：西巴特殊化学制品控股公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]