真空成膜用反溅清洗辅助电极装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，在靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物，并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。这样，反溅清洗物就直接沉积在遮挡部件上，而不会直接沉积在靶面上，从而避免造成辅助电极失效而导致影响试样的反溅清洗效果；并且该遮挡部件能够便于清洗和更换，能够提高工作效率；另外，通过旋转调节机构可调整遮挡部件与靶之间的覆盖面积配比，以增加辅助电极的使用参数，从而有利于拓宽反溅清洗的试验内容。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空成膜设备的反溅清洗技术，更具体地说，涉及一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置。
技术介绍
反溅清洗是真空成膜设备常用的试样预处理工艺。目前，现有的真空成膜用反溅 清洗辅助电极装置100如图1所示，包括作为辅助电极的靶110和与靶110相连的升降调 节机构120，所述升降调节机构120包括升降台121，固定杆124和升降驱动部件123，所述 固定杆124的下端连接靶110，另一端穿过升降台121，升降台121与升降驱动部件123相 连接，并可通过升降驱动部件123进行垂直移动。在该辅助电极装置100的长期使用和维 护过程中，容易造成如下几个问题 (1)反溅清洗物易直接沉积在靶面上，长期运转后表面成膜太厚，甚至形成绝缘 膜，从而影响放电效应或是导致电极本身失效，进而造成试样的表面清洗效果欠佳或是失 败。 (2)如若对沉积在靶面上的物质不及时清洗，有可能进一步形成悬浮于真空室内 的浮尘，不仅可能需要花费更长时间才能抽到本底真空，严重时甚至根本不能抽取到本底 真空，还更有可能对泵等真空获得系统部件造成致命损伤。 (3)经过一段时间的使用后，必须将整个辅助电极装置拆下后进行清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，所述升降调节机构包括与靶相连的固定杆、升降台、与升降台相连的升降驱动部件，其特征在于：在所述靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张清廉，
申请(专利权)人：宝山钢铁股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]