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本实用新型公开了一种真空成膜用反溅清洗辅助电极装置，包括作为辅助电极的靶和与靶相连的升降调节机构，在靶的下方设置一个用于遮挡反溅清洗物，并也能够起到辅助电极作用的遮挡部件。这样，反溅清洗物就直接沉积在遮挡部件上，而不会直接沉积在靶面上，从而...
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