饱和氢氟烃的纯化方法技术

为了除去如五氟乙烷（Ｒ－１２５）之类的氢氟烃中存在的烯属杂质，在没有催化剂或活性炭存在下用氧处理不纯的氢氟烃。该方法非常适合纯化氟乙烷，更具体地适合纯化五氟乙烷。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及含卤的烃，更具体地涉及在本领域以HFC表示的氢氟烃的纯化。目前实际上已研制过如五氟乙烷(R-125)和1，1，1，2-四氟乙烷(R-134a)之类的这些化合物，以便代替CFC(氯氟烃)，例如像二氯二氟甲烷(R-12)之类的CFC它们被怀疑使臭氧层变得稀薄起作用。例如借助氟氢酸氟化C2化合物生产氢氟烃当然需要适当的催化剂和操作条件，然而一般还应该考虑最后产品的纯化。事实上，尽管这些方法可达到高的产率和选择性，但是合成HFC化合物时使用的方法和催化剂产生许多杂质，采用如在适当的溶剂中蒸馏或选择性溶解这些杂质之类的通常方法，往往难以分离或除去这些杂质。此外，这些杂质中的某些杂质的量甚至不太高，但因它们的毒性都应该除去。在这些杂质中，更具体地可列举烯属衍生物，尤其是含有两个碳原子和不同比例氢、氟和/或氯原子的烯属衍生物。在现有技术中已经描述过能够除去烯属杂质或降低其含量的不同方法。这样，在R-134a中含有的2-氯-1，1-二氟乙烯(R-1122)烯烃可以通过活性碳(专利EP389334)或在四氢呋喃中用金属氢化物处理(EP508631)予以除去。为了除去1，1-二氯-2本文档来自技高网...

【技术保护点】
含有至少一种烯属杂质的氢氟烃（ＨＦＣ）的纯化方法，其特征在于该方法包括一个步骤，该步骤是在没有催化剂或活性碳的存在下，让不纯的所述ＨＦＣ与氧进行接触。

【技术特征摘要】
FR 1996-6-6 96069921.含有至少一种烯属杂质的氢氟烃(HFC)的纯化方法，其特征在于该方法包括一个步骤，该步骤是在没有催化剂或活性碳的存在下，让不纯的所述HFC与氧进行接触。2.根据权利要求1所述的力法，其中所述烯属杂质是C2烯烃，具体是氯三氟乙烯。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中氧/一种或多种烯烃的摩尔比是1-1000，优选的是1-200，更优选的是1-50。4.根据权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其中在温度-40℃至+200℃，优选地在10-150℃，有利地在室温附近进行处理。...

【专利技术属性】
技术研发人员：JM塞奇，E莱克劳斯，
申请(专利权)人：埃勒夫阿托化学有限公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]