【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及计算机光刻，特别涉及一种曲线掩模像计算方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
0、
技术介绍
1、在半导体大规模集成电路制造领域中，由于光学或电子束刻字机的角分辨率有限，为了提高光刻图形的精度使得芯片的制造更加精确，适应不同光刻工艺的制造需求，产业界在先进节点中大力推广使用更先进的，具有自由形状的曲线掩模以展示出更多精细复杂的图形。
2、在计算光刻领域中，研发基于曲线掩模的计算方案可以有利于优化光刻过程中的参数设置，如曝光剂的浓度、曝光时间等，进而提高生产效率减少制造芯片的成本。
3、现有的计算曲线掩模像的技术是基于n阶贝塞尔曲线控制的，其在表示单条闭合曲线时需要的控制点数量庞大，不易处理局部变动。具体来说，仅移动单个控制点就将导致整条曲线的位置都产生变化，不利于ilt(inverse lithography technology，反向光刻技术)过程中对于晶圆轮廓的修正。
技术实现思路
0、
技术实现思路
1、为了解决现有的曲线掩模像需要大量控制点表示，且不易处理局部变动的问题，本专利技术提供一种曲线掩模像计算方法、装置、设备及存储介质。
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种曲线掩模像计算方法，包括以下步骤：
3、获取预处理曲线控制点；
4、基于控制点计算得到b样条曲线参数方程和曲线坐标；
5、基于曲线坐标绘制图形并对图形进行像素化处理，得到原
6、对原始掩模像矩阵进行核函数卷积处理，得到掩模像。
7、优选地，获取预处理曲线控制点包括以下步骤：
8、提供掩模文件；
9、获取掩模文件上的图形轮廓；
10、基于图形轮廓获取预处理曲线控制点。
11、优选地，基于控制点计算得到b样条曲线参数方程和曲线坐标包括以下步骤：
12、基于掩模文件建立网格坐标；
13、识别掩模文件上预处理曲线控制点的坐标；
14、基于预处理曲线控制点的坐标计算得到b样条曲线参数方程；
15、根据b样条曲线参数方程计算得到曲线的坐标。
16、优选地，根据b样条曲线参数方程计算得到曲线的坐标包括以下步骤：
17、基于x方向上的网格划分计算得到b样条曲线参数方程的对应参数；
18、基于所述参数计算得到对应曲线在y方向上的坐标。
19、优选地，所述图形包括闭合曲线，所述闭合曲线内外通过y方向上交点网格的个数判断。
20、优选地，所述曲线由多段b样条曲线组合而成。
21、优选地，所述b样条曲线通过插值法生成。
22、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种装置，包括：
23、获取模块：用于获取预处理曲线控制点；
24、计算模块：用于对控制点进行计算得到b样条曲线参数方程和曲线坐标；
25、绘制模块：用于根据曲线坐标绘制图形并对图形进行像素化处理，得到原始掩模像矩阵；
26、矩阵处理模块：用于对原始掩模像矩阵进行核函数卷积处理，得到掩模像。
27、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现如上任一项所述的曲线掩模像计算方法的步骤。
28、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被执行时实现如上任一项所述的曲线掩模像计算方法的步骤。
29、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种曲线掩模像计算方法、装置、设备及存储介质，具有如下的有益效果：
30、1.本专利技术实施例提供的一种曲线掩模像计算方法，包括以下步骤：获取预处理曲线控制点；基于控制点计算得到b样条曲线参数方程和曲线坐标；基于曲线坐标绘制图形并对图形进行像素化处理，得到原始掩模像矩阵；对原始掩模像矩阵进行核函数卷积处理，得到掩模像。
31、可以理解地，现有的计算曲线掩模像的技术是基于n阶贝塞尔曲线控制的，在表示单条闭合曲线时需要的控制点数量庞大，且贝塞尔曲线为全局控制曲线，仅移动单个控制点就将导致整条曲线的位置都发生变化，不易处理局部变动，不利于反向光刻技术过程中对晶圆轮廓的修正。
32、本实施例使用光滑性、灵活性高的b样条曲线来表征曲线掩模像，以实现对晶圆轮廓的提取、表征与精确的局部控制，为曲线掩模反向光刻技术方案奠定坚实的基础。
33、2.本专利技术实施例获取预处理曲线控制点包括以下步骤：提供掩模文件；获取掩模文件上的图形轮廓；基于图形轮廓获取预处理曲线控制点。
34、具体地，本实施例基于掩模图形轮廓提取控制点，再基于提取出的控制点生成曲线掩模，使得初始生成的曲线贴近预设目标，减轻后期调整的运算量，提高整体运算效率。
35、3.本专利技术实施例基于控制点计算得到b样条曲线参数方程和曲线坐标包括以下步骤：基于掩模文件建立网格坐标；识别掩模文件上预处理曲线控制点的坐标；基于预处理曲线控制点的坐标计算得到b样条曲线参数方程；根据b样条曲线参数方程计算得到曲线的坐标。
36、可以理解地，本实施例首先基于顺次的几个控制点坐标计算得到该段曲线的参数方程，再通过参数方程计算得出曲线的真实坐标，应理解，相连接的两段b样条曲线在连接点处具有相同的切线，也即只要按照一定的规则顺序来构建整条曲线，则可以使得每两段相邻的曲线段的连接处都是平滑过渡，以使其在后期图像处理中能产生更佳的效果。
37、4.本专利技术实施例所述图形包括闭合曲线，所述闭合曲线内外通过y方向上交点网格的个数判断。
38、可以理解地，假设沿x方向做一条垂线，也即y方向平行的线，若其经过闭合曲线，那该条线应该存在进入曲线和离开曲线两个过程，也即与闭合曲线必定会产生偶数个交点，其对应两个交点之间为曲线内部，对应两个交点之外则为曲线外部。通过此方法可以快速区分曲线的内外部，为后续对掩模的处理提供信息。
39、5.本专利技术实施例曲线由多段b样条曲线组合而成。可以理解地，b样条曲线是一种光滑的曲线模型，其具有高阶连续性，相邻的两段b样条曲线的连接点切线相同，使得相邻两段b样条曲线过的平滑。可以生成具有平滑边界的掩模像以便在图像处理中产生更好的效果；其次，b样条曲线可以通过调整控制点的位置和权重来改变曲线的形状，使得曲线掩模可以更加需要进行精确的调整和修改，以适应不同的应用需求。
40、6.本专利技术实施例b样条曲线通过插值法生成。具体的b样条曲线可以根据给定的数据点来生成曲线，并且通过增加或减少数据点来调整曲线的平滑度和形状，使用插值法计算可以使得曲线掩模的生成和计算可以更快速地完成，提高了处理效率。
41、7.本专利技术实施例还提供一种装置，包括本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种曲线掩模像计算方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于，获取预处理曲线控制点包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于，基于控制点计算得到B样条曲线参数方程和曲线坐标包括以下步骤：
4.如权利要求3所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于：根据B样条曲线参数方程计算得到曲线的坐标包括以下步骤：
5.如权利要求4所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于：所述图形包括闭合曲线，所述闭合曲线内外通过Y方向上交点网格的个数判断。
6.如权利要求1所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于：所述曲线由多段B样条曲线组合而成。
7.如权利要求6所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于：所述B样条曲线通过插值法生成。
8.一种装置，其特征在于，包括：
9.一种计算机设备，其特征在于：包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现如权利要求1-7任一项所述的曲线掩模像计算方法的步骤。
10.一
...【技术特征摘要】
1.一种曲线掩模像计算方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于，获取预处理曲线控制点包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于，基于控制点计算得到b样条曲线参数方程和曲线坐标包括以下步骤：
4.如权利要求3所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于：根据b样条曲线参数方程计算得到曲线的坐标包括以下步骤：
5.如权利要求4所述的曲线掩模像计算方法，其特征在于：所述图形包括闭合曲线，所述闭合曲线内外通过y方向上交点网格的个数判断。
6.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：张展，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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