掩膜版图的自动检测方法技术

本申请提供了一种掩膜版图的自动检测方法

【技术实现步骤摘要】
掩膜版图的自动检测方法、装置、处理器以及电子设备


[0001]本申请涉及半导体
，具体而言，涉及一种掩膜版图的自动检测方法
、
装置
、
计算机可读存储介质
、
处理器以及电子设备
。

技术介绍

[0002]在
NTO
（
New Tape Out
，流片）或者
RTO
（
Re
‑ꢀ
tape Out
，重新流片）过程中，光罩公司将光罩的
CAD
图转换为
JDV
版图，工程师需要对
JDV
版图进行
line
（条）
&space
（间隙）尺寸验证，量测确定最窄的尺寸数据，该过程是光罩质量卡控的关键环节之一
。
目前依靠工程师人工随机检测水平和垂直方向尺寸最小的四个位置进行尺寸验证，效率较低，且人工验证的准确度欠佳，存在返工的情况
。
[0003]在
技术介绍
部分中公开的以上信息只是用来加强对本文所描述技术的
技术介绍
的理解，因此，
技术介绍
中可能包含某些信息，这些信息对于本领域技术人员来说并未形成在本国已知的现有技术
。

技术实现思路

[0004]本申请的主要目的在于提供一种掩膜版图的自动检测方法
、
装置
、
计算机可读存储介质
、
处理器以及电子设备，以解决现有技术中人工确定版图图片的最小间距，效率较低的问题
。
[0005]根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种掩膜版图的自动检测方法，包括：在接收到初始图像的情况下，对所述初始图像进行二值化处理，得到第一中间图像，所述初始图像为待测试的掩膜版图的图像，所述掩膜版图包括多个间隔的掩膜图案；对所述第一中间图像进行滤波处理，得到第二中间图像；对所述第二中间图像进行轮廓提取，并根据轮廓提取结果，确定间距信息，所述间距信息包括预定宽度以及预定间距中至少之一，所述预定宽度为所述掩膜图案在预定方向上的最小宽度，所述预定间距为相邻的所述掩膜图案在所述预定方向上的最小间隔
。
[0006]可选地，对所述第二中间图像进行轮廓提取，并根据轮廓提取结果，确定间距信息，包括：对所述第二中间图像进行轮廓提取，得到多个所述掩膜图案的轮廓线；根据构成各所述轮廓线的像素点，确定预定序列，所述预定序列包括按照预定顺序排列的多个位置集合，所述预定顺序为多个所述轮廓线的排列顺序，所述位置集合包括顺序构成对应的所述轮廓线的多个像素点的坐标信息；根据所述预定序列，确定所述预定序列中所有的预定像素点的横坐标差值以及纵坐标差值，并根据所述横坐标差值以及纵坐标差值，确定所述预定宽度以及所述预定间距中至少之一，所述预定像素点包括：位于同一个所述位置集合中的两个所述像素点
、
分别位于相邻的两个所述位置集合中的所述像素点
。
[0007]可选地，根据所述预定序列，确定所述预定序列中所有的预定像素点的横坐标差值以及纵坐标差值，并根据所述横坐标差值以及纵坐标差值，确定所述预定宽度以及所述预定间距中至少之一，包括：根据所述预定序列，分别确定各所述位置集合中，纵坐标相同
的所有所述预定像素点的所述横坐标差值，得到多个第一坐标差值，以及确定各所述位置集合中，横坐标相同的所有所述预定像素点的所述纵坐标差值，得到多个第二坐标差值；根据所述预定序列，分别确定各相邻的两个所述位置集合中，纵坐标相同的所有所述预定像素点的所述横坐标差值，得到多个第三坐标差值，以及确定各相邻的两个所述位置集合中，横坐标相同的所有所述预定像素点的所述纵坐标差值，得到多个第四坐标差值；确定所有的所述第一坐标差值中的最小值为第一宽度，以及确定所有的所述第二坐标差值中的最小值为第二宽度，所述第一宽度以及所述第二宽度构成所述预定宽度；确定所有的所述第三坐标差值中的最小值为第一间距，以及确定所有的所述第四坐标差值中的最小值为第二间距，所述第一间距以及所述第二间距构成所述预定间距
。
[0008]可选地，在根据所述预定序列，在确定所述预定宽度以及所述预定间距之后，所述方法还包括：在所述初始图像上的对应位置标注所述预定宽度以及所述预定间距
。
[0009]可选地，在根据所述预定序列，确定所述预定宽度以及所述预定间距之后，所述方法还包括：确定所述预定宽度对应的所述像素点的坐标信息，得到第一坐标集；确定所述预定间距对应的所述像素点的坐标信息，得到第二坐标集；在所述初始图像上生成所述第一坐标集以及所述第二坐标集
。
[0010]可选地，对所述第一中间图像进行滤波处理，得到第二中间图像，包括：采用十字形模板对所述第一中间图像进行中值滤波处理，得到所述第二中间图像
。
[0011]根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种掩膜版图的自动检测装置，包括：第一处理单元，用于在接收到初始图像的情况下，对所述初始图像进行二值化处理，得到第一中间图像，所述初始图像为待测试的掩膜版图的图像，所述掩膜版图包括多个间隔的掩膜图案；第二处理单元，用于对所述第一中间图像进行滤波处理，得到第二中间图像；提取单元，用于对所述第二中间图像进行轮廓提取，并根据轮廓提取结果，确定间距信息，所述间距信息包括预定宽度以及预定间距中至少之一，所述预定宽度为所述掩膜图案在预定方向上的最小宽度，所述预定间距为相邻的所述掩膜图案在所述预定方向上的最小间隔
。
[0012]根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质包括存储的程序，其中，所述程序执行任意一种所述的方法
。
[0013]根据本专利技术实施例的再一方面，还提供了一种处理器，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行任意一种所述的方法
。
[0014]根据本专利技术实施例的又一方面，还提供了一种电子设备，包括：一个或多个处理器，存储器以及一个或多个程序，其中，所述一个或多个程序被存储在所述存储器中，并且被配置为由所述一个或多个处理器执行，所述一个或多个程序包括用于执行任意一种所述的方法
。
[0015]在本专利技术实施例中，在接收到初始图像的情况下，首先对待测试的掩膜版图的初始图像进行二值化处理，得到第一中间图像；之后，对第一中间图像进行滤波处理，得到第二中间图像；最后对第二中间图像进行轮廓提取，并确定包括预定宽度以及预定间距中至少之一的间距信息，其中，所述预定宽度为所述掩膜图案在预定方向上的最小宽度，所述预定间距为相邻的所述掩膜图案在所述预定方向上的最小间隔
。
相比现有技术中依靠人工测试掩膜图案的尺寸数据，造成测试效率低下的问题，本申请实现了自动测试掩膜图案的最小宽度数据以及相邻掩膜图案间的最小间隔数据，无需人工测试，保证了测试效率较高
。
附图说明
[0016]构成本申请的一部分的说明书本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种掩膜版图的自动检测方法，其特征在于，包括：在接收到初始图像的情况下，对所述初始图像进行二值化处理，得到第一中间图像，所述初始图像为待测试的掩膜版图的图像，所述掩膜版图包括多个间隔的掩膜图案；对所述第一中间图像进行滤波处理，得到第二中间图像；对所述第二中间图像进行轮廓提取，并根据轮廓提取结果，确定间距信息，所述间距信息包括预定宽度以及预定间距中至少之一，所述预定宽度为所述掩膜图案在预定方向上的最小宽度，所述预定间距为相邻的所述掩膜图案在所述预定方向上的最小间隔
。2.
根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述第二中间图像进行轮廓提取，并根据轮廓提取结果，确定间距信息，包括：对所述第二中间图像进行轮廓提取，得到多个所述掩膜图案的轮廓线；根据构成各所述轮廓线的像素点，确定预定序列，所述预定序列包括按照预定顺序排列的多个位置集合，所述预定顺序为多个所述轮廓线的排列顺序，所述位置集合包括顺序构成对应的所述轮廓线的多个像素点的坐标信息；根据所述预定序列，确定所述预定序列中所有的预定像素点的横坐标差值以及纵坐标差值，并根据所述横坐标差值以及纵坐标差值，确定所述预定宽度以及所述预定间距中至少之一，所述预定像素点包括：位于同一个所述位置集合中的两个所述像素点
、
分别位于相邻的两个所述位置集合中的所述像素点
。3.
根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据所述预定序列，确定所述预定序列中所有的预定像素点的横坐标差值以及纵坐标差值，并根据所述横坐标差值以及纵坐标差值，确定所述预定宽度以及所述预定间距中至少之一，包括：根据所述预定序列，分别确定各所述位置集合中，纵坐标相同的所有所述预定像素点的所述横坐标差值，得到多个第一坐标差值，以及确定各所述位置集合中，横坐标相同的所有所述预定像素点的所述纵坐标差值，得到多个第二坐标差值；根据所述预定序列，分别确定各相邻的两个所述位置集合中，纵坐标相同的所有所述预定像素点的所述横坐标差值，得到多个第三坐标差值，以及确定各相邻的两个所述位置集合中，横坐标相同的所有所述预定像素点的所述纵坐标差值，得到多个第四坐标差值；确定所有的所述第一坐标差值中的最小值为第一宽度，以及确定所有的所述第二坐标差值中的最小值为第二宽度，所述第一宽度以及所述第二宽度构成所述预定宽度；确定所有的所述第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢海燕，储成全，胡周，徐东东，蔡栋煌，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：发明
国别省市：