【技术实现步骤摘要】
一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体
[0001]本专利技术属于印制电路板生产领域,具体涉及一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体
。
技术介绍
[0002]一种铜箔载体,可用于在铜箔上制作精细线路后半埋嵌线路方法,可以制作线宽线距
L/S<30um
的精细线路
。
铜箔载体要求:
a.
铜箔平整度和整体支撑强度,中间区域铜箔与内衬层间保持真空度,保证铜箔上的精细线路加工不受到影响;
b.
铜箔载体四周有一定幅宽区域整体粘结并封闭确保加工过程中不会产生蚀刻液渗漏,污染铜箔内表面;
c.
去除铜箔载体边框封装区域,内衬层易剥除,不污染铜层表面等优点
。
技术实现思路
[0003]本专利技术提出的一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体,具有较好的平整性
、
强度及真空度,铜箔上表层线路加工时,不会产生蚀刻液渗漏,污染铜箔内表面,且定位捞铣后载板内衬层易剥除,不污染铜层表面
。
[0004]具体通过以下技术方案实现:
[0005]一种铜箔载体的制作方法,包括:
[0006]在第一铜箔的第一面的边缘区域附着封装胶,及在第二铜箔的第一面的边缘区域附着封装胶;
[0007]将内衬层设置在所述第一铜箔与所述第二铜箔之间,且所述第一铜箔与所述第二铜箔两者的第一面均朝向所述内衬层,以形成组合体;
[0008]对所述组合体进行真空
、
热压固化,以生 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种铜箔载体的制作方法,其特征在于,包括:在第一铜箔的第一面的边缘区域附着封装胶,及在第二铜箔的第一面的边缘区域附着封装胶;将内衬层设置在所述第一铜箔与所述第二铜箔之间,且所述第一铜箔与所述第二铜箔两者的第一面均朝向所述内衬层,以形成组合体;对所述组合体进行真空
、
热压固化,以生成铜箔载体
。2.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一铜箔与所述第二铜箔两者的第一面均为粗糙面,所述第一铜箔与所述第二铜箔两者的第二面均为光滑面
。3.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,附着封装胶,是通过以下步骤实现的:将所述第一铜箔的第一面和
/
或所述第二铜箔的第一面朝上进行吸附定位;将封装胶按照预设图形印制到所述第一铜箔的第一面和
/
或所述第二铜箔的第一面上,以形成图形膜;所述图形膜的形状为内部中空的闭合形状,所述图形膜的尺寸小于所述第一铜箔的尺寸或小于所述第二铜箔的尺寸
。4.
根据权利要求3所述的方法,其特征在于,印制封装胶是通过平面涂装
、
喷涂
、
丝印或
3D
打印实现;边缘区域封装胶的厚度范围在
10
‑
100
微米之间
。5.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一铜箔或所述第二铜箔的边缘区域封装胶的宽度范围为5‑
80
毫米
。6.
【专利技术属性】
技术研发人员:刘玉斌,杨迪,张伦强,张邺伟,杨柳,
申请(专利权)人:深圳市柳鑫实业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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