【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠接合材料、半导体封装体和功率模块
[0001]本技术涉及层叠接合材料
、
半导体封装体和功率模块
。
技术介绍
[0002]近来,对于半导体元件,其要求特性变高,除了以往已用作半导体元件材料的
Si
以外,还开始使用
SiC、GaAs、GaN
等
。
使用这些材料的半导体元件具备能够实现工作温度的升高
、
扩大带隙等优良的特性,被应用于功率晶体管等功率半导体元件
。
[0003]功率半导体元件能够进行高温工作,接合部的钎焊接头有时达到
200℃
以上的高温
。
在这样的高温环境下,在半导体元件与基板之间的接合部产生半导体元件与基板的
CTE(Coefficient of Thermal Expansion
;热膨胀系数
)
之差所导致的应变,由于该应变而产生裂纹,作为结果,会缩短功率半导体产品的寿命,这成为问题
。
[0004]在日本特开
2009
‑
269075
号公报中记载了具备柔软的
Pb
或
Pb
基合金作为应力缓和层的层叠焊料材料的制造方法
。
但是,由于应力缓和层含有
Pb
,因此不符合
RoHS(
有害物质限制,
Restriction of Hazardous Substances)
等环
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种层叠接合材料,其具有基材
、
层叠于基材的第一面的第一焊料部和层叠于基材的第二面的第二焊料部,基材的线膨胀系数为
5.5
~
15.5ppm/K
,第一焊料部和第二焊料部由无铅焊料构成,所述第一焊料部的厚度和所述第二焊料部的厚度均为
0.05
~
1.0mm。2.
根据权利要求1所述的层叠接合材料,其中,所述无铅焊料的杨氏模量为
45GPa
以上且拉伸强度为
100MPa
以下
。3.
根据权利要求2所述的层叠接合材料,其中,所述无铅焊料的杨氏模量为
55GPa
以上
。4.
根据权利要求1~3中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述基材具有格子间隔为
2.0mm
以上的网格形状
。5.
根据权利要求1~4中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述基材的线膨胀系数为
5.9
~
14.4ppm/K。6.
根据权利要求5所述的层叠接合材料,其中,所述基材的线膨胀系数为
7.0
~
11.6ppm/K。7.
根据权利要求3所述的层叠接合材料,其中,所述基材的线膨胀系数为
7.7
~
9.9ppm/K。8.
根据权利要求1~7中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述基材由
Cu
‑
W
基材料
、Cu
‑
Mo
基材料
、Cu
‑
W
基材料与
Cu
‑
Mo
基材料的层叠材料
、
在
Cu
‑
W
基材料的第一面和第二面分别层叠有
Cu
基材料的复合材料
、
在
Cu
‑
Mo
基材料的第一面和第二面分别层叠有
Cu
基材料的复合材料
、
在
Cu
‑
W
基材料与
Cu
‑
Mo
基材料的层叠材料的第一面和第二面分别层叠有
Cu
基材料的复合材料中的任意一种构成
。9.
根据权利要求1~8中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述基材的
Cu
含量为
60
%以下
。10.
根据权利要求1~9中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述基材的
Cu
含量为
15
%以上
。11.
根据权利要求1~
10
中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述第一焊料部和第二焊料部中的至少一者与所述基材的界面从所述基材侧依次利用
Ni、Sn
进行了基底处理
。12.
根据权利要求1~
11
中任一项所述的层叠接合材料,其中,所述基材与所述第一焊料部的厚度之比和所述基材与所述第二焊料部的厚度之比中的至少一者为2:...
【专利技术属性】
技术研发人员:龟田直人,出井宽大,土屋政人,
申请(专利权)人:千住金属工业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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