【技术实现步骤摘要】
倒装芯片堆叠结构及其形成方法
[0001]本申请是申请日为
2021
年2月5日
、
申请号为
202180000449.6、
专利技术名称为“倒装芯片堆叠结构及其形成方法”的专利申请的分案申请
。
[0002]本公开总体上涉及半导体
,并且更具体地涉及用于多芯片封装的方法
。
技术介绍
[0003]芯片封装是现代半导体微型化的重要方面
。
多个集成电路
(IC)
被装到单个封装中,以实现同构或异构芯片集成
。
例如,存储芯片和控制逻辑单元可以被集成到单个封装中,以实现更低的制作成本
、
减小的器件占据空间和改善的器件性能
。
为了解决平面存储单元中的密度限制,开发出了三维
(3D)
存储架构
。
然而,随着器件特征尺寸和封装尺寸接近下限,创建足够数量的输入
/
输出
(I/O)
触点变得越来越具有挑战性,尤其是对于通过字线和位线的阵列对存储位寻址的平面存储芯片或
3D
存储芯片而言
。
技术实现思路
[0004]本公开包括半导体封装,该半导体封装包括具有与输入
/
输出
(I/O)
触点接触的第一表面和与第一表面相对的第二表面的再分布层
(RDL)。
该半导体封装还包括形成在
RDL
的第二表面 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种半导体封装,包括:再分布层
(RDL)
,所述再分布层
(RDL)
包括第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面;多个集成电路
(IC)
芯片,包括第一
IC
芯片和第二
IC
芯片,位于所述
RDL
的所述第二表面一侧,所述多个
IC
芯片堆叠设置;阶梯互连结构,位于所述
RDL
的所述第二表面上,且位于所述多个
IC
芯片的一侧,其中,所述阶梯互连结构包括堆叠设置的多个阶梯层;柱状凸块,位于所述阶梯层与所述第一
IC
芯片之间,所述阶梯层通过所述柱状凸块与所述第一
IC
芯片电连接
。2.
根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述多个阶梯层包括第一阶梯层和第二阶梯层,所述第一阶梯层的宽度大于所述第二阶梯层的宽度
。3.
根据权利要求2所述的半导体封装,其中,所述第二阶梯层相比于所述第一阶梯层更远离所述
RDL。4.
根据权利要求1所述的半导体封装,其中,任意相邻的两个所述阶梯层中,远离所述
RDL
的阶梯层覆盖靠近所述
RDL
的阶梯层的顶表面的一部分,并暴露所述靠近所述
RDL
的阶梯层的所述顶表面的剩余部分
。5.
根据权利要求1所述的半导体封装,其中,沿着远离所述
RDL
的方向上,所述多个
IC
芯片依次向靠近所述阶梯互连结构的一侧偏移
。6.
根据权利要求4所述的半导体封装,其中,多个所述第一
IC
芯片分别通过所述柱状凸块与所述多个阶梯层的所述顶表面的所述剩余部分连接
。7.
根据权利要求6所述的半导体封装,其中,所述多个第一
IC
芯片的端部分别位于所述多个阶梯层的所述顶表面的所述剩余部分的正上方
。8.
根据权利要求6所述的半导体封装,其中,所述柱状凸块位于所述多个阶梯层的所述顶表面的所述剩余部分上
。9.
根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述多个阶梯层分别包括多个垂直互连和多个水平互连,所述柱状凸块与所述水平互连连接
。10.
根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述多个第一
IC
芯片包括
NAND
闪速存储芯片
。11.
根据权利要求1所述的半导体封装,还包括:接触焊盘,位于所述
RDL
的所述第二表面上;所述柱状凸块还位于所述第二
IC
芯片与所述接触焊盘之间,且所述第二
IC
芯片通过所述柱状凸块倒转安装在所述接触焊盘上,其中,所述第二
IC
芯片包括控制电路
。12.
根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述多个第一
IC
芯片通过所述阶梯互连结构倒转安装在所述
RDL
上
。13.
根据权利要求1所述的半导体封装,还包括包封所述阶梯互连结构和所述多个
IC
芯片的模制化合物
。14.
根据权利要求1所述的半导体封装,还包括多个输入
/
输出
(I/O)
触点,所述多个
I/O
触点位于所述
RDL
的所述第一表面上
。15.
一种半导体封装,包括:
再分布层
(RDL)
,所述再分布层
(RDL)
包括第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面;多个集成电路
(IC)
芯片,包括第一
IC
芯片和第二
IC
芯片,位于所述
RDL
的所述第二表面一侧,所述多个
IC
芯片堆叠设置;阶梯互连结构,位于所述
RDL
的所述第二表面上,且位于所述多个
IC
芯片的两侧,其中,所述阶梯互连结构包括堆叠设置的多个阶梯层;柱状凸块,位于所述阶梯层与所述第一
IC
芯片之间,所述阶梯层通过所述柱状凸块与所述第一
IC
芯片电连接
。16.
根据权利要求
15
所述的半导体封装,其中,所述多个阶梯层包括第一阶梯层和第二阶梯层,所述第一阶梯层的宽度大于所述第二阶梯层的宽度
。17.
根据权利要求
16
所述的半导体封装,其中,所述第二阶梯层相比于所述第一阶梯层更远离所述
RDL。18.
根据权利要求
15
所述的半导体封装,其中:位于所述多个
IC
芯片第一侧的所述阶梯互连结构中,任意相邻的两个所述阶梯层中,远离所述
RDL
的阶梯层覆盖靠近所述
RDL
的阶梯层的顶表面的一部分,并暴露所述靠近所述
RDL
的阶梯层的所述顶表面...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾心如,陈鹏,王蒙,张保华,周厚德,
申请(专利权)人:长江存储科技有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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