【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，其包含使用 在基板的被涂敷面上利用毛细管现象涂敷涂敷液的涂敷方法而形成抗蚀 剂膜的工序。
技术介绍
目前，在采用光刻法的图案形成中需要将光致抗蚀剂等的涂敷液涂敷 在基板上而形成抗蚀剂膜的工序，作为涂敷该涂敷液的涂敷装置(涂敷机) 已知有所谓的旋转涂敷机。该旋转涂敷机向水平保持的基板(的被涂敷面) 的中央滴下涂敷液后，使该基板在水平面内高速旋转，由此在离心力的作 用下使涂敷液在基板整个面上延展，在基板表面形成涂敷膜。然而，在该旋转涂敷机中，存在在基板的周缘部上产生被称作条纹的 抗蚀剂的隆起这一问题。若产生这样的条纹，则抗蚀剂膜的膜厚在基板面内变得不均匀，且形成图案时产生CD(线宽)的面内偏差。特别是这种条纹 的隆起在基板的形状不是旋转对称时(长方形等)助长了膜厚的不均匀。进 而，在使用了旋转涂敷机的情况下，在近年的液晶显示装置或液晶显示装置制造用的光掩模中，存在下述等问题基板处于更加大型化、大重量化 的趋势；难以获得一定速度的旋转驱动机构；需要较大的旋转空间(腔)， 涂敷液的损耗多。另一方面，作为适合于大型基板的涂敷装置，提出有目前通称为"CAP ...
【技术保护点】
一种掩模坯料的制造方法，其包含如下工序，即，使从收容有液状的抗蚀剂的液槽在毛细管现象的作用下通过涂敷喷嘴而到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂与具有用于形成复制图案的薄膜的基板的被涂敷面接触，同时使所述基板和所述涂敷喷嘴进行相对移动，由此在所述被涂敷面上涂敷抗蚀剂而形成抗蚀剂膜， 所述掩模坯料的制造方法的特征在于， 在所述抗蚀剂膜形成工序中，在所述涂敷喷嘴通过所述相对移动到达了所述基板的涂敷结束位置附近时，改变涂敷条件而使所述基板的被涂敷面上的涂敷量减少。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫田凉司，浅川敬司，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，HOYA电子马来西亚有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。