【技术实现步骤摘要】
封装芯片及其加工方法
[0001]本申请涉及半导体
,尤其涉及一种封装芯片及其加工方法。
技术介绍
[0002]在半导体
,有很多对电磁干扰较为敏感的集成电路芯片,因此需要在使用前对这些芯片做好电磁屏蔽处理。目前,是通过在芯片封装好之后,在封装体外加工金属层的方式,起到电磁屏蔽作用,然而,金属层与封装体的结合力较差,在使用过程中容易出现脱落现象,不仅会影响封装芯片的电磁屏蔽性能,还可能会损伤产品内部的其他元器件。
技术实现思路
[0003]本申请的主要目的在于提供一种封装芯片及其加工方法,旨在解决现有技术封装芯片上的金属层易脱落的技术问题。
[0004]为实现上述目的,本申请提供一种封装芯片的加工方法,所述封装芯片的加工方法包括以下步骤:
[0005]提供待封装芯片模块;
[0006]对所述待封装芯片模块进行塑封,在所述待封装芯片模块的外表面形成塑封层,其中,所述塑封层包括第一充填剂,所述第一充填剂在所述塑封层中的重量占比为40%
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75%;
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种封装芯片的加工方法,其特征在于,所述封装芯片的加工方法包括以下步骤:提供待封装芯片模块;对所述待封装芯片模块进行塑封,在所述待封装芯片模块的外表面形成塑封层,其中,所述塑封层包括第一充填剂,所述第一充填剂在所述塑封层中的重量占比为40%
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75%;在所述塑封层的外表面加工连接层,其中,所述连接层包括第二充填剂,所述第二充填剂在所述塑封层中的重量占比大于或等于75%;在所述连接层的外表面溅镀金属溅镀层,得到封装芯片。2.如权利要求1所述的封装芯片的加工方法,其特征在于,所述在所述塑封层的外表面加工连接层的步骤包括:对所述塑封层外表面上的目标连接区域进行二次塑封,形成连接层。3.如权利要求1所述的封装芯片的加工方法,其特征在于,所述在所述塑封层的外表面加工连接层的步骤包括:对所述塑封层外表面上的目标连接区域进行溅镀,形成连接层。4.如权利要求1所述的封装芯片的加工方法,其特征在于,所述第一充填剂包括二氧化硅和氧化铝中的至少一种;所述第二充填剂包括二氧化硅和氧化铝中的至少一种。5.如权利要求1所述的封装芯片的加工方法,其特征在于,所述塑封层包括第一环氧树脂,所述第一环氧树脂在所述塑封层中的重量占比为5%
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20%。6.如权利要求1所述的封装芯片的加工方法,其特征在于,所述塑封层还包括第一固化剂、第一阻燃剂和第一脱模剂中的至少一种,其中,所述第一固化剂在所述塑封层中的重量占比...
【专利技术属性】
技术研发人员:段明瑞,尹保冠,田德文,宋晓丽,包璐胜,张宏,詹新明,
申请(专利权)人:歌尔微电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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