一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液制造技术

本发明专利技术公开了一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液，该抛光液包含研磨颗粒、去离子水、pH调节剂、稳定剂、氧化剂和催化剂。化学机械抛光液中催化剂与氧化剂的协同作用可以显著降低钨的静态腐蚀速率，提高钨及其合金的抛光速度和表面质量，实现高效高质量抛光。该抛光液能够满足各种工艺条件下对钨及其合金表面的加工要求，具有广阔的市场应用前景。景。景。

【技术实现步骤摘要】
一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液


[0001]本专利技术涉及超精密抛光
，尤其涉及一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液。

技术介绍

[0002]钨及其合金由于熔点高、耐腐蚀、高温强度和抗蠕变性能好、导电性好等特性，被广泛应用于国防军工、航空航天、集成电路、核能产业、化学工业和光电材料等领域，在国防事业和民生经济中有着重要的地位和作用。
[0003]高新技术的不断发展对精密制造业提出了越来越高的要求，良好的表面精度和较低的表面粗糙度可以减缓裂纹的萌生和扩展，提高材料适用范围和抗疲劳性能。然而，钨及其合金的表面质量和加工效率是制约其高性能和大规模发展的主要因素。化学机械抛光是目前钨及其合金表面高效高质量抛光的关键技术之一，该工艺可提供了较高的材料去除率和表面质量。
[0004]钨及其合金的化学机械抛光常使用过氧化氢、硝酸铁、铁氰化钾、碘酸钾作为氧化剂。选择合适的氧化剂在材料表面快速有效地形成氧化层，是实现化学机械抛光高去除率与高表面质量的关键因素。在酸性条件下利用铁离子分解过氧化氢的芬顿过程是目前钨及其合金氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液，其特征在于，所述钨及其合金化学机械抛光液，包含溶质和溶剂两部分；所述溶剂为去离子水；按溶质总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：5～15wt.％研磨颗粒，0～5.0wt.％氧化剂，0～5.0wt.％催化剂，0.1～0.35wt.％稳定剂，其余为pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。2.如权利要求1所述的一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒为二氧化硅磨料，粒径为30～90nm，二氧化硅磨料在硅溶胶中的质量分数为20～40wt.％。3.如权利要求1所述的一种用于钨及其合金高效抛光的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂为过氧化氢。4.如权利要求1所述的一种用于钨及其合金高...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈泓谕，王林，吕冰海，杭伟，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：