一种晶圆沟槽腐蚀装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种晶圆沟槽腐蚀装置，涉及半导体器件生产技术领域，包括：工作台、转移机构、晶圆架、吹气机构。工作台上依次设有腐蚀池、收集池和清洗池；转移机构包括沿工作台长度方向移动的横杆，横杆上设有两个对称布置且相向移动的夹持模块，夹持模块包括两个对称布置的夹杆，夹杆沿竖直和横杆的宽度方向移动，用于夹持晶圆架；晶圆架有多个，分布于腐蚀池、收集池和清洗池内，晶圆架上设有承载框，用于承载晶圆；吹气机构设于收集池内，包括穿设于收集池中的传动轴，传动轴上设有两个转杆，转杆上设有多个吹气口，用于向晶圆架吹气。将从腐蚀池取出的晶圆携带的蚀刻液收集回腐蚀池，减少浪费，在清洗之前减少蚀刻液的残留，减少废液的产生。废液的产生。废液的产生。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆沟槽腐蚀装置


[0001]本专利技术涉及半导体器件生产
，尤其与一种晶圆沟槽腐蚀装置相关。

技术介绍

[0002]将晶圆进行扩散、氧化、光刻、腐蚀、蚀刻、清洗、电泳、二次光刻、镀镍等工艺后，即可在晶圆片的表面形成多个晶粒，将晶圆经过裂片之后，每个晶粒就是一个芯片，而蚀刻工艺就是使晶圆能够形成单个晶粒的关键步骤，蚀刻工艺可以在晶圆的表面形成纵横布置的沟槽。在晶圆腐蚀结束后，需要将其从腐蚀池中取出并清洗，但是在将晶圆取出时，会携带大量的蚀刻液，会造成蚀刻液的浪费，并且在将晶圆放置于清洗池中时，会将大量的蚀刻液也携带到清洗池中，不利于对晶圆的清洗，并且在清洗结束后也会产生更多的废液，对废液的处理成本会上升，还会造成对环境的污染，而且由于蚀刻工艺中所使用的蚀刻液不仅具有腐蚀性还具有挥发性，工作人员在将晶圆从腐蚀池取出时不可避免地会与蚀刻液接触，从而使工作人员的健康受到损伤。

技术实现思路

[0003]针对上述相关现有技术的不足，本申请提供一种晶圆沟槽腐蚀装置，将从腐蚀池取出的晶圆通过吹气的方式将携带的蚀刻液收集回腐蚀池，减少浪费，并且在清洗之前减少蚀刻液的残留，减少废液的产生，具有较强的实用性。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术：一种晶圆沟槽腐蚀装置，包括：工作台、转移机构、晶圆架、吹气机构。
[0005]工作台设于两个传送带之间，且工作台沿其长度方向依次设有腐蚀池、收集池和清洗池；转移机构包括沿工作台长度方向移动的横杆，横杆上设有两个对称布置且相向移动的夹持模块，夹持模块包括两个分别设于横杆两侧且对称布置的夹杆，且夹杆沿竖直和横杆的宽度方向移动，用于夹持晶圆架；晶圆架有多个，应用时，分别分布于腐蚀池、收集池和清洗池内，晶圆架上设有可拆卸的承载框，用于承载晶圆；吹气机构设于收集池内，包括沿工作台宽度方向布置并穿设于收集池中的传动轴，传动轴上设有两个对称布置的转杆，转杆呈L形，且转杆平行于工作台宽度方向的部分设有多个吹气口，用于向晶圆架吹气。
[0006]进一步地，收集池中设有两个对称布置且相向移动的支撑杆，支撑杆沿工作台的宽度方向布置，支撑杆表面沿其长度方向设有承载槽，用于承载晶圆架，承载槽两侧还设有贯穿至支撑杆外侧的长条孔，且承载槽的底面呈向上突起的弧形，用于流下蚀刻液，支撑杆底面还套设于导向杆上，导向杆安装于收集池内。
[0007]进一步地，横杆上设有双头伸缩杆，双头伸缩杆的移动端设有支撑板，支撑板上设有竖直布置的第一伸缩杆，第一伸缩杆的移动端连接有升降板，升降板上沿其长度方向设有两个对称布置的第一限位孔，夹杆一端设有竖杆，竖杆配合于第一限位孔中，并沿其长度方向移动。
[0008]进一步地，支撑板沿其长度方向设有两个对称布置的第二限位孔，第二限位孔在
竖直方向上的投影与第一限位孔重合，第二限位孔中配合有移动块，竖杆上端穿过移动块，移动块一侧设有连接环，支撑板侧面设有第一滑杆，连接环套设于第一滑杆上，第一滑杆的两端均设有挡环，第一滑杆上还套设有第一弹簧，第一弹簧两端分别连接挡环和连接环，且始终处于拉伸状态。
[0009]进一步地，连接环另一侧设有限位杆，限位杆包括直线段和两个设于直线段两端的倾斜段，且倾斜段的倾斜方向朝向横杆，限位杆穿设于限位框中，且限位杆的外壁与限位框的内壁相接触，限位框安装于横杆上，限位杆一端连接于移动杆上，移动杆一端滑动配合于横杆上。
[0010]进一步地，承载框截面呈弧形，且其内部沿其长度方向设有多个间隔均匀的卡槽，卡槽呈弧形，且两端贯穿出承载框的顶面，用于承载晶圆，相邻两个卡槽之间还设有贯穿的通槽，用于通过液体。
[0011]进一步地，晶圆架内侧沿其长度方向还设有贯穿的限位槽，承载框顶面四角设有突出部，突出部配合于限位槽中，限位槽两端还穿设有压杆，压杆下端设有挡圈，限位槽两端还设有凹槽，挡圈配合于凹槽中，挡圈底面设有定位珠，突出部表面设有定位孔，定位珠配合于定位孔中，压杆上还套设有第二弹簧，第二弹簧两端分别连接于凹槽的底部和挡圈，且始终处于压缩状态。
[0012]进一步地，传动轴两端套设有连杆，转杆一端穿设于连杆中，连杆一侧设有第二伸缩杆，第二伸缩杆的移动端连接转杆，转杆的直角处穿设有第二滑杆，第二滑杆两端均穿出转杆，且还设有挡板，第二滑杆两端分别套设有第三弹簧，第三弹簧两端分别连接挡板和转杆，且始终处于压缩状态，收集池内壁设有凸板，用于抵接到挡板。
[0013]进一步地，晶圆架顶部中心位置设有T形杆，T形杆的两端设有把手，应用时，夹杆穿设于把手中。
[0014]进一步地，收集池底部倾斜设置，且一端设有开口，开口连接至腐蚀池，收集池上方还设有两个隔离罩，隔离罩之间具有间隔，用于穿过T形杆，隔离罩两端设有凹部，用于穿过晶圆架，凹部内配合有沿工作台宽度方向移动的隔板，用于阻隔蚀刻液。
[0015]本专利技术有益效果在于：在腐蚀池和清洗池之间增加收集池，并且在收集池中设置吹气机构，将从腐蚀池取出的晶圆通过吹气的方式把携带的蚀刻液收集回腐蚀池，在清洗之前减少晶圆上蚀刻液的残留，更容易将晶圆清洗干净，并且在清洗时所需的清水更少，能够减少废液的产生，进而减少对环境的污染；采用转移机构自动将晶圆架转移至工作台上，并自动转移离开，减少工作人员与蚀刻液之间的接触，进而保护工作人员的健康；并且收集池中设置两个相向移动的支撑杆在适应不同尺寸的晶圆架的同时，也能便于蚀刻液落在收集池中；在承载槽两侧设置长条孔，并且将承载槽设置成向上突起的弧形，避免蚀刻液聚集在承载槽中。
附图说明
[0016]本文描述的附图只是为了说明所选实施例，而不是所有可能的实施方案，更不是意图限制本专利技术的范围。
[0017]图1为本申请实施例的整体结构立体示意图。
[0018]图2为本申请实施例的工作台立体示意图。
[0019]图3为本申请实施例的转移机构立体示意图。
[0020]图4为本申请实施例的晶圆架安装于收集池中的立体示意图。
[0021]图5为本申请实施例的晶圆架立体示意图。
[0022]图6为图5的A处放大示意图。
[0023]图7为本申请实施例的吹气机构安装于收集池中的立体示意图。
[0024]图8为本申请实施例的吹气机构立体示意图。
[0025]图9为图8的B处放大示意图。
[0026]附图标记说明：100—工作台、200—转移机构、300—晶圆架、400—吹气机构、101—腐蚀池、102—收集池、103—清洗池、104—支撑杆、105—承载槽、106—长条孔、107—导向杆、108—凸板、109—隔离罩、110—凹部、111—隔板、112—支杆、201—横杆、202—夹杆、203—双头伸缩杆、204—支撑板、205—第一伸缩杆、206—升降板、207—第一限位孔、208—竖杆、209—第二限位孔、210—移动块、211—连接环、212—第一滑杆、213—挡环、214—第一弹簧、215—限位杆、216—限位框、217—移动杆、301本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆沟槽腐蚀装置，其特征在于，包括：工作台（100），设于两个传送带之间，且所述工作台（100）沿其长度方向依次设有腐蚀池（101）、收集池（102）和清洗池（103）；转移机构（200），包括沿所述工作台（100）长度方向移动的横杆（201），所述横杆（201）上设有两个对称布置且相向移动的夹持模块，所述夹持模块包括两个分别设于所述横杆（201）两侧且对称布置的夹杆（202），且所述夹杆（202）沿竖直和所述横杆（201）的宽度方向移动设置，用于夹持晶圆架（300）；所述晶圆架（300）有多个，应用时，分别分布于所述腐蚀池（101）、所述收集池（102）和所述清洗池（103）内，所述晶圆架（300）上设有可拆卸的承载框（301），用于承载晶圆；吹气机构（400），设于所述收集池（102）内，包括沿所述工作台（100）宽度方向布置并穿设于所述收集池（102）中的传动轴（401），所述传动轴（401）上设有两个对称布置的转杆（402），所述转杆（402）呈L形，且所述转杆（402）平行于所述工作台（100）宽度方向的部分设有多个吹气口（403），用于向所述晶圆架（300）吹气。2.根据权利要求1所述的晶圆沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述收集池（102）中设有两个对称布置且相向移动的支撑杆（104），所述支撑杆（104）沿所述工作台（100）的宽度方向布置，所述支撑杆（104）表面沿其长度方向设有承载槽（105），用于承载晶圆架（300），所述承载槽（105）两侧还设有贯穿至所述支撑杆（104）外侧的长条孔（106），且所述承载槽（105）的底面呈向上突起的弧形，用于流下蚀刻液，所述支撑杆（104）底面还套设于导向杆（107）上，所述导向杆（107）安装于所述收集池（102）内。3.根据权利要求1所述的晶圆沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述横杆（201）上设有双头伸缩杆（203），所述双头伸缩杆（203）的移动端设有支撑板（204），所述支撑板（204）上设有竖直布置的第一伸缩杆（205），所述第一伸缩杆（205）的移动端连接有升降板（206），所述升降板（206）上沿其长度方向设有两个对称布置的第一限位孔（207），所述夹杆（202）一端设有竖杆（208），所述竖杆（208）配合于所述第一限位孔（207）中，并沿其长度方向移动。4.根据权利要求3所述的晶圆沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述支撑板（204）沿其长度方向设有两个对称布置的第二限位孔（209），所述第二限位孔（209）在竖直方向上的投影与所述第一限位孔（207）重合，所述第二限位孔（209）中配合有移动块（210），所述竖杆（208）上端穿过所述移动块（210），所述移动块（210）一侧设有连接环（211），所述支撑板（204）侧面设有第一滑杆（212），所述连接环（211）套设于第一滑杆（212）上，所述第一滑杆（212）的两端均设有挡环（213），所述第一滑杆（212）上还套设有第一弹簧（214），所述第一弹簧（214）两端分别连接所述挡环（213）和所述连接环（211），且始终处于拉伸状态。5.根据权利要求4所述的晶圆沟槽腐蚀装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯永，胡仲波，王一超，蒋红全，周建余，
申请(专利权)人：四川上特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：