一种晶圆曝光夹具及曝光装置，属于晶圆生产设备技术领域，曝光夹具包括底板及掩膜框，掩膜框的底面设有掩膜片。底板的底部开设有贯穿槽，贯穿槽垂直于底板的前后端面，底板的前后端面均开设有条形孔，且条形孔与贯穿槽连通，底板的两侧均垂直穿设有伸缩杆，伸缩杆的前端位于贯穿槽内，伸缩杆的后端具有卡槽，卡槽的延伸方向与贯穿槽平行。掩膜框设于底板上，掩膜框的底面对应伸缩杆均设有连接部，连接部滑动连接于伸缩杆的后段，伸缩杆沿长度方向移动设置，同时带动掩膜框沿垂直于底板的方向移动。曝光装置，包括进料机构、输送机构、曝光机上述的曝光夹具。曝光夹具对晶圆具有良好的定位夹持效果，曝光装置可极大的提高生产效率。率。率。
【技术实现步骤摘要】
一种晶圆曝光夹具及曝光装置
[0001]本专利技术属于晶圆生产设备
，尤其涉及一种晶圆曝光夹具及曝光装置。
技术介绍
[0002]晶圆曝光是指利用曝光机将掩膜片上的图像信息转移到涂有感光物质的晶圆表面，从而在晶圆表面形成线路图形。目前晶圆曝光工艺中主要利用负压吸盘吸附晶圆，然后通过手动调节校准晶圆与掩膜片之间的相对位置，再将掩膜片完全覆盖在晶圆上，最后通过人工将吸附盘与晶圆一同放入曝光机内，晶圆完成曝光之后再通过人工将吸附盘与晶圆一同取出，并通过人工揭开掩膜片手动取出晶圆。整个过程人工参与度较高，自动化生产程度较低，导致生产效率过低；另一方面的问题是，利用负压吸附晶圆及掩膜片，以固定晶圆与掩膜片之间的相对位置的方式，一旦气压发生变化则很容易导致晶圆与掩膜片之间的相对位置发生变化，造成图像位置偏移甚至晶圆报废。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术不足，本专利技术提供一种晶圆曝光夹具及曝光装置，曝光夹具对晶圆具有良好的定位夹持效果，能有效防止晶圆与掩膜片之间的位置发生变化，曝光装置具有较高的自动化程度，可极大的提高生产效率。
[0004]为了实现本专利技术的目的，拟采用以下方案：一种晶圆曝光夹具，包括底板及掩膜框，掩膜框的底面设有掩膜片。底板的底部开设有贯穿槽，用于穿过转移晶圆的部件，贯穿槽垂直于底板的前后端面，底板的前后端面均开设有条形孔，用于通过晶圆，且条形孔与贯穿槽连通，底板的两侧均垂直穿设有伸缩杆，伸缩杆的前端位于贯穿槽内，伸缩杆的后端具有卡槽，卡槽的延伸方向与贯穿槽平行。r/>[0005]掩膜框设于底板的顶面，且掩膜框的底面对应伸缩杆均设有连接部，连接部滑动连接于伸缩杆的后段，伸缩杆沿长度方向移动设置，并且伸缩杆在移动的同时带动掩膜框沿垂直于底板的方向移动。
[0006]当伸缩杆的前端面与贯穿槽的内侧壁处于同一平面时，伸缩杆的后端面位于底板的侧面内，且掩膜片的位置高于条形孔顶面的高度；当伸缩杆向底板的外侧移动预定距离时，卡槽凸出于底板的侧面，且掩膜框与掩膜片一同沿垂直于底板的方向移动预定高度，以使掩膜片压紧晶圆。
[0007]进一步的，底板的两侧分别设有两根伸缩杆，且同一侧的两根伸缩杆的前端通过一横杆相连，伸缩杆的后端通过一条形板相连，当条形板位于底板的侧面内时，横杆朝向贯穿槽一侧的外壁与贯穿槽的内侧壁处于同一平面，条形板呈L型结构，其上段与伸缩杆的后端面之间具有空隙，该空隙为卡槽。
[0008]进一步的，伸缩杆的后段顶部具有导向斜面，导向斜面倾斜朝向底板上方的中部，导向斜面的顶面开设有T型槽，T型槽为倾斜结构，其上段倾斜朝向底板外侧的上方，下段倾斜朝向底板中部的下方，连接部包括斜块，斜块的底面滑动设于导向斜面上，斜块的底部设
有T型滑块，T型滑块滑动设于T型槽内。
[0009]一种曝光装置，包括进料机构、输送机构、曝光机上述的曝光夹具；输送机构包括一对平行设置的轨道，用于输送曝光夹具，输送时贯穿槽与轨道平行，轨道包括设于曝光夹具下方的输送部以及两侧的侧壁，轨道的侧壁内侧沿延伸方向开设有避让槽，用于容纳凸出于底板两侧的伸缩杆，避让槽的内顶面设有限位条，用于连接卡槽，限位条位于轨道的前端开设有第一缺口，用于穿过伸缩杆；曝光机设于轨道中段的上方；进料机构包括吸盘、视觉检测器及调节机构，视觉检测器对应第一缺口设于轨道的上方，吸盘及调节机构均对应第一缺口设于轨道的下方，吸盘用于吸附晶圆，吸盘的底部呈倒锥结构，且锥顶处同轴设有导气管，导气管的外径小于贯穿槽的宽度，并且小于底板两侧伸缩杆前端之间的最小间距，吸盘的外径大于导气管的外径，且小于或等于底板两侧伸缩杆前端之间的最大间距，调节机构用于控制吸盘移动。
[0010]进一步的，避让槽的末端未贯穿轨道的后端，限位条对应避让槽的末端处开设有第二缺口。
[0011]进一步的，避让槽对应第二缺口末端处的侧壁与轨道侧壁内壁的交界处具有过度斜面。
[0012]进一步的，输送机构还包括堆料机构，其包括升降装置一对支撑板，支撑板呈水平状态分别设于两条轨道的上方，支撑板的前端朝向两条轨道中部，且支撑板前端的底部为斜面，斜面倾斜朝向两条轨道中部的下方，第二缺口向上贯穿轨道侧壁的顶面，且第二缺口的内壁与避让槽的内侧壁处于同一竖直面，支撑板前端的斜面对应设于第二缺口的上方，支撑板在水平面内沿垂直于轨道的延伸方向移动设置，升降装置位于一对支撑板之间，且位于轨道下方，用于向上顶起晶圆曝光夹具。
[0013]进一步的，堆料机构还包括一对槽形板，槽形板呈竖直状态分别对应第二缺口设于两条轨道的上方，支撑板分别穿过对应的槽形板，且支撑板后端与槽形板的外壁之间设有弹性件，当弹性件呈自然状态时，支撑板的前端位于两条轨道的侧壁之间。
[0014]本专利技术的有益效果在于：曝光装置利用调节机构对晶圆进行上料以及位置调节，并通过视觉检测器检测比对晶圆与掩膜片之间的相对位置，并且在吸盘与晶圆分离时，利用吸盘推动伸缩杆，使掩膜片自动将晶圆压紧，减少了人工放置晶圆、调节晶圆位置的过程，以提高生产效果。晶圆曝光夹具在轨道上的输送过程中，限位条始终卡在卡槽内，防止掩膜片松开晶圆，从而保证了晶圆在曝光及输送过程中与掩膜片之间相对位置的稳定性，相对于负压吸附的原理更加稳固。
附图说明
[0015]本文描述的附图只是为了说明所选实施例，而不是所有可能的实施方案，更不是意图限制本专利技术的范围。
[0016]图1示出了本申请晶圆曝光夹具整体结构的顶部视图。
[0017]图2示出了本申请晶圆曝光夹具的部分爆炸图。
[0018]图3示出了本申请晶圆曝光夹具的整体爆炸图。
[0019]图4示出了掩膜框与伸缩杆一种优选连接结构的示意图。
[0020]图5示出了图4中A处的局部放大图。
[0021]图6示出了卡槽隐藏于底板内时本申请晶圆曝光夹底部的局部剖视图。
[0022]图7示出了图6中B处的局部放大图。
[0023]图8示出了卡槽凸出于底板两侧时本申请晶圆曝光夹底部的局部剖视图。
[0024]图9示出了本申请晶圆曝光夹具整体结构的底部视图。
[0025]图10示出了本申请曝光装置的顶部结构示意图。
[0026]图11示出了图10中C处的局部放大图。
[0027]图12示出了调节机构一种优选实施例的结构示意图。
[0028]图13示出了本申请曝光装置的底部结构示意图。
[0029]图14示出了晶圆曝光夹具在轨道内输送时的状态示意图。
[0030]图15示出了图14中D处的局部放大图。
[0031]图16示出了轨道后段第二缺口及过度斜面的结构示意图。
[0032]图17示出了堆料机构与轨道的结构及位置关系示意图。
[0033]图中标记：底板
‑
1、贯穿槽
‑
11、条形孔
‑
12、伸缩杆
‑
13、卡槽
‑
131、横杆
‑...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆曝光夹具，包括底板（1）及掩膜框（2），掩膜框（2）的底面设有掩膜片（21），其特征在于，底板（1）的底部开设有贯穿槽（11），用于穿过转移晶圆的部件，贯穿槽（11）垂直于底板（1）的前后端面，底板（1）的前后端面均开设有条形孔（12），用于通过晶圆，且条形孔（12）与贯穿槽（11）连通，底板（1）的两侧均垂直穿设有伸缩杆（13），伸缩杆（13）的前端位于贯穿槽（11）内，伸缩杆（13）的后端具有卡槽（131），卡槽（131）的延伸方向与贯穿槽（11）平行；掩膜框（2）设于底板（1）的顶面，且掩膜框（2）的底面对应伸缩杆（13）均设有连接部（22），连接部（22）滑动连接于伸缩杆（13）的后段，伸缩杆（13）沿长度方向移动设置，且并在移动时带动掩膜框（2）沿垂直于底板（1）的方向移动；当伸缩杆（13）的前端面与贯穿槽（11）的内侧壁处于同一平面时，伸缩杆（13）的后端面位于底板（1）的侧面内，且掩膜片（21）的位置高于条形孔（12）顶面的高度；当伸缩杆（13）向底板（1）的外侧移动预定距离时，卡槽（131）凸出于底板（1）的侧面，且掩膜框（2）与掩膜片（21）一同沿垂直于底板（1）的方向移动预定高度，以使掩膜片（21）压紧晶圆。2.根据权利要求1所述的晶圆曝光夹具，其特征在于，底板（1）的两侧分别设有两根伸缩杆（13），且同一侧的两根伸缩杆（13）的前端通过一横杆（132）相连，伸缩杆（13）的后端通过一条形板（133）相连，当条形板（133）位于底板（1）的侧面内时，横杆（132）朝向贯穿槽（11）一侧的外壁与贯穿槽（11）的内侧壁处于同一平面，条形板（133）呈L型结构，其上段与伸缩杆（13）的后端面之间具有空隙，该空隙为卡槽（131）。3.根据权利要求1所述的晶圆曝光夹具，其特征在于，伸缩杆（13）的后段顶部具有导向斜面（134），导向斜面（134）倾斜朝向底板（1）上方的中部，导向斜面（134）的顶面开设有T型槽（135），T型槽（135）为倾斜结构，其上段倾斜朝向底板（1）外侧的上方，下段倾斜朝向底板（1）中部的下方，连接部（22）包括斜块（221），斜块（221）的底面滑动设于导向斜面（134）上，斜块（221）的底部设有T型滑块（222），T型滑块（222）滑动设于T型槽（135）内。4.一种曝光装置，其特征在于，包括进料机构（3）、输送机构（4）、曝光机（5）及权利要求1至3中任一项所述的晶圆曝光夹具；输送机构（4）包括一对平行设置的轨道（41），用于输送曝光夹具，输送时贯穿槽（11）与轨道（41）平行，轨道（41）包括设于曝光夹具下方的输送部以及两侧的...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯永，胡仲波，冯艾诚，李健儿，蒋红全，周建余，
申请(专利权)人：四川上特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。