【技术实现步骤摘要】
具有体二极管的氮化镓IGBT器件及其制备方法、芯片
[0001]本申请属于半导体
,尤其涉及一种具有体二极管的氮化镓IGBT器件及其制备方法、芯片。
技术介绍
[0002]绝缘栅双极型晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT),是由BJT(双极性晶体管)和MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件,同时结合了BJT和MOSFET的低导通电阻和高耐压特性,还具有电压控制、输入阻抗大、驱动功率小、导通电阻小、开关损耗低等多中优异特性,被广泛应用于中、大功率电力电子系统。
[0003]IGBT俗称电力电子装置的的“CPU”。作为电力电子重要大功率主流器件之一,IGBT已经广泛应用于家用电器、交通运输、电力工程、可再生能源和智能电网等领域。在工业应用方面,如交通控制、功率变换、工业电机、不间断电源、风电与太阳能设备,以及用于自动控制的变频器,但是现有的IGBT功率器件在关断时电流消失需要很长的时间,导致动态功耗过大。
专利技术 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所述氮化镓IGBT器件包括:P型氮化镓集电区;N型氮化镓层,设于所述P型氮化镓集电区的正面;P型氮化镓层,设于所述N型氮化镓层上;栅极介质层,设于所述P型氮化镓层内,且深入至所述N型氮化镓层;其中,所述栅极介质层呈凹形结构,所述栅极介质层将所述P型氮化镓层分成第一P型氮化镓掺杂区和第二P型氮化镓掺杂区;栅极,设于所述栅极介质层的凹槽内;第一N型发射区,设于所述第一P型氮化镓掺杂区内,且与所述栅极介质层接触;肖特基金属区,设于所述P型氮化镓层和所述N型氮化镓层内;隔离区,设于所述P型氮化镓层和所述N型氮化镓层内,用于隔离所述肖特基金属区和所述栅极介质层;第一发射极,设于所述第一P型氮化镓掺杂区和所述第一N型发射区上;第二发射极,设于所述肖特基金属区上;集电极,设于所述P型氮化镓集电区的背面。2.如权利要求1所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所述第二P型氮化镓掺杂区设于所述隔离区和所述栅极介质层之间,所述第二发射极和所述第一发射极连接。3.如权利要求1所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件还包括:第二N型发射区,设于所述第二P型氮化镓掺杂区内,且位于所述栅极介质层和所述隔离区之间;所述第二发射极设于所述第二N型发射区、所述隔离区以及所述肖特基金属区上。4.如权利要求1所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所述隔离区与所述栅极介质层接触,所述第二发射极和所述第一发射极连接。5.如权利要求1所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所述隔离区的厚度和所述肖特基金属区的厚度相同。6.如权利要求1
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5任一项所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所述栅极介质层的厚度大于所述P型氮化镓层的厚度,小于所述P型氮化镓层和所述N型氮化镓层的厚度之和。7.如权利要求1
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5任一项所述的具有体二极管的氮化镓IGBT器件,其特征在于,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄汇钦,
申请(专利权)人:天狼芯半导体成都有限公司,
类型:发明
国别省市:
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