一种旧有机光导鼓表面聚合物薄膜的去除方法技术

本发明专利技术配制出一种全新的脱膜剂，采用该脱模剂和本发明专利技术所述的清洗方法能够在短时间内有效的去除附着在有机光导鼓鼓基表面的聚合物薄膜，并可以避免腐蚀有机光导鼓鼓基铝，另外，该脱膜方法操作简单、耗时小、脱膜效果理想，脱膜后的铝基可以用在有机光导鼓的再制造中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种铝型材表面材料的脱膜处理方法，具体涉及。
技术介绍
激光打印机用硒鼓的核心部分是有机光导鼓，有机光导鼓在使用了几个周期后由于机械磨损和光电疲劳等原因将不能被使用而报废。直接丢弃报废的有机光导鼓会造成资源浪费和环境污染，因此需要去掉旧有机光导鼓鼓基表面聚合物薄膜使鼓基再生。目前国内外尚无成熟、有效的脱膜再生技术。天津复印技术研究所曾经针对复印机的有机光导鼓进行过研究，但它是利用胺类碱性溶液在9crc高温下进行脱膜。此种脱膜方法因在碱性高温条件下进行，胺类碱性溶液会跟有机光导鼓鼓基铝发生反应而腐蚀鼓基，影响了有机光导鼓鼓基的再次利用。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术提供了一种去除有机光导鼓鼓基表面聚合物薄膜的有效方法。主要技术方案包括脱膜剂的配制、旧有机光导鼓在脱膜剂中浸泡、超声波常温粗洗后氮气搅拌漂洗、超声波常温精洗后氮气搅拌漂洗和真空干燥五步。其中脱膜剂(N-甲基吡咯烷酮和烷基酮的混合液)是根据有机光导鼓鼓基涂层材料的成分配制出的。目前使用的有机光导鼓大致分为三层载流子阻挡层、载流子产生层、载流子传输层。载流子阻挡层的主要材料一般为聚酰胺；载流子产生层的主要材料一般为偶氮、酞菁、方酸、茈类化合物；载流子传输层一般为胺类、腙类、聚碳酸酯类材料，另外有的有机光导鼓在外表面涂了一层保护层， 一般为聚氨酯和聚碳酸酯等耐磨材料。本专利技术所配制的脱膜剂中，N-甲基吡咯烷酮是一种高极性、溶解能力强的溶剂，对于载流子阻挡层聚酰胺、保护层聚氨酯、聚碳酸酯、胺类传输材料具有较强的溶解清洗能力；垸基酮(丙酮、甲乙酮、环己酮、环乙酮中的一种或几种)对于偶氮等载流子产生材料具有良好的溶解性，N-甲基吡咯烷酮和烷基酮的混合液能够降低有机光导鼓鼓基表面聚合物薄膜的附着力，经过一定时间浸泡后能够完全溶解脱除有机光导鼓鼓基表面聚合物薄膜。本专利技术的具体步骤如下1、 根据有机光导鼓鼓基表面聚合物薄膜材料的成分，按照预定组分配制脱膜剂1一99重量份N-甲基吡咯烷酮和1一99重量份垸基酮的混合液，二者混溶后，能够有效的发挥脱膜的协调作用，并且毒性小、对于鼓基铝无任何腐蚀作用；2、 将有机光导鼓放在脱膜剂中浸泡，浸泡时启动搅拌装置，使脱膜剂处于循环流动状态，加速聚合物薄膜的剥离溶解，同时将浸泡槽封闭，减少脱膜剂的挥发；3、 浸泡半小时后将有机光导鼓放在纯水中超声粗洗，超声槽的频率为40KHz，主要是清洗铝基表面残留的脱膜剂溶液，粗洗完成后采用13m3/min进气量的氮气搅拌漂洗，主要是漂洗铝基表面残余的少量聚合物和脱膜剂组分，并且减少铝基暴露氧气中产生的氧化；4、 粗洗后将有机光导鼓放入纯水中超声精洗，超声槽的频率为40KHz，精洗后采用13m3/min进气量的氮气搅拌漂洗；5、 最后将有机光导鼓放入45。C环境中真空干燥，并且干燥时铝基采用立式置于托盘支架上，达到干燥均匀无水印残留效果。本专利技术优点是所配制的脱膜剂根据有机光导鼓鼓基表面聚合物薄膜成分设计，脱膜效果理想；脱膜剂中所用组分毒性较低，环境污染小，对人体安全性高；脱膜方法操作简单，脱喊效果理想，对有机光导鼓鼓基铝没有任何腐蚀作用。具体实施例方式用下面的实施例详细说明本专利技术。实施例1将60重量份N-甲基吡咯烷酮和40重量份甲乙酮混合均匀配成脱膜剂，把旧的有机光导鼓放入密闭脱膜剂中浸泡0.5小时，脱膜剂在搅拌装置中处于循环状态；常温纯水中40KHz超声波粗洗10分钟；13m3/min进气量的氮气搅拌纯水漂洗8分钟；然后将有机光导鼓放入纯水中40KHz超声波精洗10分钟；13m3/min进气量的氮气搅拌纯水漂洗10分钟；最后将鼓基立于托盘支架上45"C环境中真空干燥6小时。干燥后，使用体视显微镜观察铝基表面，无残留薄膜，无损伤；使用表面粗糙度仪测试表面粗糙度，其粗糙度大小跟全新的铝基无明显差异，表明脱膜时损伤较小，达到了安全脱膜使鼓基再次使用的要求。实施例2将70重量份N-甲基吡咯烷酮和30重量份环己酮混合均匀配成脱膜剂，把旧的有机光导鼓放入密闭脱膜剂中浸泡0.5小时，脱膜剂在搅拌装置中处于循环状态；常温纯水中40KHz超声波粗洗10分钟；13m3/min进气量的氮气搅拌纯水漂洗8分钟；然后将有机光导鼓放入纯水中40KHz超声波精洗10分钟；13m3/min进气量的氮气搅拌纯水漂洗10分钟；最后将鼓基立于托盘支架上45'C环境中真空干燥6小时。干燥后，使用体视显微镜观察铝基表面，无残留薄膜，无损伤；使用表面粗糙度仪测试表面粗糙度，其粗糙度大小跟全新的铝基无明显差异，表明脱膜时损伤较小，达到了安全脱膜使鼓基再次使用的要求。权利要求1、一种去除旧有机光导鼓表面聚合物薄膜的方法，其特征在于实施步骤如下脱膜剂的配制→旧有机光导鼓在脱膜剂中浸泡→超声波常温粗洗→氮气搅拌漂洗→超声波常温精洗→氮气搅拌漂洗→真空干燥。2、 如权利要求1所述的脱膜剂，其特征在于脱膜剂中含有l一99重量份N-甲基 吡咯烷酮和1一99重量份烷基酮。3、 如权利要求2所述的脱膜剂，其特征在于烷基酮是选自丙酮、甲乙酮、环己 酮、环乙酮中的一种或几种。4、 如权利要求l所述的旧有机光导鼓脱膜剂中浸泡措施，其特征在于浸泡时有 机光导鼓齿轮端在脱膜剂液面上方，浸泡槽全封闭并配有搅拌装置。5、 如权利要求1所述的包括粗洗和精洗的漂洗措施，其特征在于采用进气量为 13m3/min的氮气搅拌纯水漂洗5-10分钟。全文摘要本专利技术配制出一种全新的脱膜剂，采用该脱模剂和本专利技术所述的清洗方法能够在短时间内有效的去除附着在有机光导鼓鼓基表面的聚合物薄膜，并可以避免腐蚀有机光导鼓鼓基铝，另外，该脱膜方法操作简单、耗时小、脱膜效果理想，脱膜后的铝基可以用在有机光导鼓的再制造中。文档编号C23G5/036GK101649463SQ20091001723公开日2010年2月17日 申请日期2009年7月17日 优先权日2009年7月17日专利技术者何美玲 申请人:山东富美科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去除旧有机光导鼓表面聚合物薄膜的方法，其特征在于实施步骤如下：脱膜剂的配制→旧有机光导鼓在脱膜剂中浸泡→超声波常温粗洗→氮气搅拌漂洗→超声波常温精洗→氮气搅拌漂洗→真空干燥。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何美玲，
申请(专利权)人：山东富美科技有限公司，
类型：发明
国别省市：88[]