提升污染物去除效率的洗涤装置制造方法及图纸

本申请提供一种提升污染物去除效率的洗涤装置，至少包括一壳体、一导水部、一喷洒装置及一淋水部，其中，壳体的进气口将含有污染物的污染空气导入该洗涤装置内；导水部的通气孔隙能供污染空气通过；喷洒装置使洗涤溶液形成雾状液滴，再将雾状液滴朝导水部的方向喷洒出去，且部分雾状液滴能于导水部的表面汇聚形成淋洗液滴，淋洗液滴能朝下滴落，使得污染物能与雾状液滴及/或淋洗液滴相结合而沉降；淋水部的淋洗孔隙能供淋洗液滴与污染空气通过，且使污染物能与淋洗孔隙中的淋洗液滴相结合而沉降，以形成洗涤后空气，并经由排气口排至洗涤装置外。涤装置外。涤装置外。

【技术实现步骤摘要】
提升污染物去除效率的洗涤装置


[0001]本申请是关于洗涤装置，尤指一种能提升气悬分子污染物(Airborne Molecular Contamination(AMC))去除效率的洗涤装置，以进一步提升硫酸液滴的去除效率。

技术介绍

[0002]半导体制程中常使用大量酸碱溶液及有机溶剂进行蚀刻或清洗，其中，光阻液或去光阻液含有溶剂，而异丙醇(IPA)则被广泛使用为清洁用溶剂，因此常有大量含酸、碱及有机等制程废气排放而被排气系统收集。随着产业产能的遽增，制造过程中所产生的废气也随之增加，这些化学物质可能会逸散到作业环境中，进而影响人员健康及产品良率，也有可能经由排放管道飘散至空气中，并造成严重的空气污染。
[0003]在制程废气中，随着高温制程排放的硫酸气体，容易形成微小悬浮的硫酸液滴，且氧化硫(SO3)遇水气会反应形成气态硫酸，当废气温度低于硫酸的露点时，气态硫酸开始冷凝成次微米尺寸的硫酸液滴，若直接排放将对于环境造成严重污染，因应现行法规(如：大气污染防治法相关规定)，目前环保部是限制硫酸排放总量，因此近年来具有高排放量的半导体厂，面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提升污染物去除效率的洗涤装置，其特征在于，所述提升污染物去除效率的洗涤装置至少包括：一壳体，设有一进气口与一排气口，且其内设有一通道空间，其中，该进气口与该通道空间相连通，其能将含有污染物的污染空气导入该洗涤装置内；该排气口与该通道空间相连通；一导水部，位于该通道空间中，其具有多个通气孔隙，以供该污染空气通过；一喷洒装置，位于该通道空间中，且处于该导水部的下方，该喷洒装置能接收一来源侧的洗涤溶液，并使该洗涤溶液形成雾状液滴，再将该雾状液滴朝该导水部的方向喷洒出去，且部分雾状液滴能于该导水部的表面汇聚形成淋洗液滴，该淋洗液滴能朝下滴落，使得该污染空气中的该污染物能与该雾状液滴及/或该淋洗液滴相结合，而受重力影响沉降...

【专利技术属性】
技术研发人员：张庭芳，张原豪，
申请(专利权)人：奇鼎科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：