本申请提供一种提升污染物去除效率的洗涤装置，至少包括一壳体、一导水部、一喷洒装置及一淋水部，其中，壳体的进气口将含有污染物的污染空气导入该洗涤装置内；导水部的通气孔隙能供污染空气通过；喷洒装置使洗涤溶液形成雾状液滴，再将雾状液滴朝导水部的方向喷洒出去，且部分雾状液滴能于导水部的表面汇聚形成淋洗液滴，淋洗液滴能朝下滴落，使得污染物能与雾状液滴及/或淋洗液滴相结合而沉降；淋水部的淋洗孔隙能供淋洗液滴与污染空气通过，且使污染物能与淋洗孔隙中的淋洗液滴相结合而沉降，以形成洗涤后空气，并经由排气口排至洗涤装置外。涤装置外。涤装置外。
【技术实现步骤摘要】
提升污染物去除效率的洗涤装置
[0001]本申请是关于洗涤装置，尤指一种能提升气悬分子污染物(Airborne Molecular Contamination(AMC))去除效率的洗涤装置，以进一步提升硫酸液滴的去除效率。
技术介绍
[0002]半导体制程中常使用大量酸碱溶液及有机溶剂进行蚀刻或清洗，其中，光阻液或去光阻液含有溶剂，而异丙醇(IPA)则被广泛使用为清洁用溶剂，因此常有大量含酸、碱及有机等制程废气排放而被排气系统收集。随着产业产能的遽增，制造过程中所产生的废气也随之增加，这些化学物质可能会逸散到作业环境中，进而影响人员健康及产品良率，也有可能经由排放管道飘散至空气中，并造成严重的空气污染。
[0003]在制程废气中，随着高温制程排放的硫酸气体，容易形成微小悬浮的硫酸液滴，且氧化硫(SO3)遇水气会反应形成气态硫酸，当废气温度低于硫酸的露点时，气态硫酸开始冷凝成次微米尺寸的硫酸液滴，若直接排放将对于环境造成严重污染，因应现行法规(如：大气污染防治法相关规定)，目前环保部是限制硫酸排放总量，因此近年来具有高排放量的半导体厂，面临了去除硫酸液滴巨大挑战。
[0004]承上，目前业界大多以静电集尘与湿式洗涤塔的方式去除硫酸液滴，然而，静电集尘的安全性存有较大疑虑，主要在于制程排放的废气中通常含有一定成份的有机溶剂，因此采用静电集尘方法时具有燃烧风险；而湿式洗涤则为较佳的选择，其原理为通过洒水装置均匀喷洒洗涤液于淋水材料表面保持湿润，并利用气体与液体两相的接触，因增湿、重力、惯性力等作用力，气体分子污染物借着扰流、分子质量传送方式及化学反应等现象被液体吸收，达到将污染物去除的目的，然而，现有技术洗涤塔经常出现洗涤液未均匀喷洒于淋水材料表面的情形，使得整体去除效率不彰，且若以串联洗涤塔的方式来进行处理，不仅结构体积过大，用水量亦较大，对于空间有限的半导体厂房来说不具竞争力。故，如何有效解决前述问题，以提升污染物的去除效率，即成为本申请的一重要课题。
技术实现思路
[0005]本申请所要解决的技术问题在于提供一种提升污染物去除效率的洗涤装置，至少包括一壳体、一导水部、一喷洒装置及一淋水部，其中，该壳体设有一进气口与一排气口，且其内设有一通道空间，该进气口与该通道空间相连通，其能将含有污染物的污染空气导入该洗涤装置内；该排气口与该通道空间相连通；该导水部位于该通道空间中，其具有多个通气孔隙，以供该污染空气通过；该喷洒装置位于该通道空间中，且处于该导水部的下方，该喷洒装置能接收一来源侧的洗涤溶液，并使该洗涤溶液形成雾状液滴，再将该雾状液滴朝该导水部的方向喷洒出去，且部分雾状液滴能于该导水部的表面汇聚形成淋洗液滴，该淋洗液滴能朝下滴落，使得该污染空气中的该污染物能与该雾状液滴及/或该淋洗液滴相结合，而受重力影响沉降；该淋水部设于该喷洒装置的下方，其具有多个淋洗孔隙，各该淋洗孔隙能供该淋洗液滴与该污染空气通过，且使该污染空气中的该污染物能与各该淋洗孔隙
中的该淋洗液滴相结合，而受重力影响沉降，以形成洗涤后空气，该洗涤后空气能经该排气口排至该洗涤装置外。本申请的洗涤装置应用气悬分子污染物(AMC)去除水洗材料技术，同时提供两阶段的处理方式，通过导水部改善洗涤液喷洒的均匀度，不仅能提升污染物的去除效率，还能取代双塔串联的填充式湿式洗涤塔，解决半导体空间利用及耗水量大的问题。
[0006]可选地，该导水部与该淋水部相隔一距离，以形成一淋洒空间，该喷洒装置位于该淋洒空间中。
[0007]可选地，该导水部的厚度为60至170毫米。
[0008]可选地，该雾状液滴的尺寸为10至100微米。
[0009]可选地，该污染物为气悬分子污染物，该气悬分子污染物为气状污染物及/或粒状污染物。
[0010]可选地，该洗涤溶液为酸性或碱性。
[0011]有关本申请的其它功效及实施例的详细内容，配合图式说明如下。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0013]图1是本申请的第一实施例的洗涤装置的纵剖面及其运作示意图；
[0014]图2是本申请的第二实施例的洗涤装置的纵剖面及其运作示意图；
[0015]图3A是本申请的第一实施例的导水部的局部放大纵剖面示意图；
[0016]图3B是本申请的第二实施例的导水部的局部放大纵剖面示意图；及
[0017]图4是本申请的洗涤装置的实施流程图。
[0018]符号说明
[0019]E：洗涤装置
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S1～S5：步骤
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T1：第一厚度
[0020]T2：第二厚度
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1：壳体
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2：导水部
[0021]3：喷洒装置
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4：淋水部
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10：通道空间
[0022]11：进气口
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13：排气口
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15：淋洒空间
[0023]31：喷嘴
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40：淋洗孔隙
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201：第一通气孔隙
[0024]202：第二通气孔隙
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203：第三通气孔隙
具体实施方式
[0025]在下文的实施方式中所述的位置关系，包括：上，下，左和右，若无特别指明，皆是以图式中组件绘示的方向为基准。
[0026]在本申请的说明书中任何地方所使用的实施例，包括任何术语的使用，都仅是说明性，绝不限制本申请或任何术语的范围与含义。再者，本文中所使用的特定值，可以包括考虑到受到测量系统或设备的限制，而对该特定值进行测量时的可能产生的一定特定的误差，例如，后续实施例所述及的数值，能够包括该特定值的
±
5％、
±
3％、
±
1％、
±
0.5％、
±
0.1％或一个或多个标准偏差范围。
[0027]本申请是一种提升污染物去除效率的洗涤装置，该洗涤装置E至少包括一壳体1、一导水部2、一喷洒装置3及一淋水部4，然而，本申请的洗涤装置E，并不限于图1至图3B所绘制，业者能够根据实际产品需求，调整各个组件的样式，因此，只要该洗涤装置E具有后续实施例的相关基本结构与功效，即为本申请所欲保护的洗涤装置E，合先陈明。
[0028]为详细说明本申请的洗涤装置E，以下通过多个实施例说明该洗涤装置E的组件组成及其实施方式。请参阅图1至图3B所示，在本申请的一第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种提升污染物去除效率的洗涤装置，其特征在于，所述提升污染物去除效率的洗涤装置至少包括：一壳体，设有一进气口与一排气口，且其内设有一通道空间，其中，该进气口与该通道空间相连通，其能将含有污染物的污染空气导入该洗涤装置内；该排气口与该通道空间相连通；一导水部，位于该通道空间中，其具有多个通气孔隙，以供该污染空气通过；一喷洒装置，位于该通道空间中，且处于该导水部的下方，该喷洒装置能接收一来源侧的洗涤溶液，并使该洗涤溶液形成雾状液滴，再将该雾状液滴朝该导水部的方向喷洒出去，且部分雾状液滴能于该导水部的表面汇聚形成淋洗液滴，该淋洗液滴能朝下滴落，使得该污染空气中的该污染物能与该雾状液滴及/或该淋洗液滴相结合，而受重力影响沉降...
【专利技术属性】
技术研发人员：张庭芳，张原豪，
申请(专利权)人：奇鼎科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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