紧密接触型曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光掩模与基板的紧密接触性高的紧密接触型曝光装置。在基板（２）的外侧周围安装框体（３）并通过吸附口（５６）吸附固定。通过框体（３）提高光掩模和基板的紧密接触性。此外由于框体（３）是一体的，所以通过吸附而能够可靠固定，并且装卸简单易行，也是为进一步自动化做的准备。在框体（３）的背面形成有流通槽（３０），以便对框体（３）和基板（２）之间形成的间隙（３５）进行抽气，从而能够可靠地进行光掩模（１）和基板（２）的紧密接触。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种紧密接触型曝光装置。
技术介绍
广泛应用于各个领域的光刻法(photolithographic method)，是在涂布有光致抗蚀剂(photo resist)等感光材料的基板表面上通过曝光装置来感光烧成预定的图形，然后通过蚀刻(etching)工艺在基板上形成图形，近年来印刷电路基板(printed circuit board(s))也使用曝光装置来制造。在该曝光装置中，为了在曝光时使描画有图形原样的光掩模(photomask)与印刷基板的紧密接触性提高，广泛采用将两者之间抽成真空使其紧密接触的真空紧密接触法，而使用该方法的曝光装置称为紧密接触型曝光装置。但是，在紧密接触型曝光装置中，存在难以使光掩模和印刷基板完全均匀地紧密接触的问题。光掩模由玻璃制成，或者，将应曝光电路等描画在光掩模薄膜(photo mask film)上，然后由贴附有该光掩模薄膜(photo mask film)的玻璃或者树脂板构成，但是，当通过真空压力使光掩模与印刷电路基板接触时，未与印刷电路基板接触的光掩模的周缘部发生弯曲，从而其结果是有可能产生印刷电路基板与光掩模接触不良的部分。该接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紧密接触型曝光装置，其具有：放置印刷电路基板的工作台；描画有应曝光图形并用于与印刷电路基板接触而曝光该图形的光掩模；对所述光掩模和印刷电路基板之间进行密封的密封装置；以及对所述光掩模和印刷电路基板之间进行抽气的抽气装置，其特征在于，所述紧密接触型曝光装置具有框体，该框体为围绕所述印刷电路基板的形状，并且其厚度与印刷电路基板的厚度基本相同，该框体以围绕所述印刷电路基板的方式且在所述密封装置的内侧放置于所述工作台上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：五十岚晃，田口阳介，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：JP[日本]