【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及被用于柔性印刷基板等的制造的卷对卷(roll to roll)方式那样的两面曝光装置。
技术介绍
1、将规定图案的光向对象物照射而曝光的曝光装置作为光刻的核心性的要素技术被用于各种用途。在曝光装置中有各种各样的类型，作为其中之一，有对带状的长尺寸的基板的两面进行曝光的两面曝光装置。
2、例如，在将柔性印刷基板那样的柔软的基板曝光的装置的情况下，采用以卷对卷一边将基板输送一边进行曝光的结构。在基板的输送线路的两侧(通常是上下)配置有一对曝光单元。装置包括掩模，曝光单元从两侧经由各掩模照射规定图案的光，进行曝光
3、从卷拉出的基板的输送是间歇性的，对于在输送后停止的基板中的位于一对曝光单元之间的部位的两面照射规定图案的光，将两面同时曝光。
4、这样的两面曝光装置也是曝光装置的一种，所以校准(对位)精度成为问题。在卷对卷方式的装置那样的对带状的长尺寸的基板进行曝光的装置的情况下，在光刻结束后在长度方向的适当的位置处切断，得到最终的制品。由于能够适当选定切断位置，所以曝光装置中的长度方向的校准以往不那么成为问题。另一方面，一对掩模其相互的位置关系需要以较高的精度保持。即是因为，如果一对掩模的位置关系的精度较差，则在最终的制品中基板的一侧的图案与另一侧的图案不一致，容易带来制品缺陷。因此，如专利文献1或专利文献2那样对于一对掩模相互进行校准，以避免形成的图案的不一致。
5、以往的状况是上述那样的，但最近，仅通过将一对掩模相互校准是不够的，要求也以足够高的精度进行相对于基板的对位
6、若示出一例，则在柔性印刷基板中引入多层配线那样的复杂的构造的情况下，在带状的基板上已经形成有图案、在其上再涂敷抗蚀剂而进行曝光的情况较多。已有的图案沿着带状的基板的长度方向隔开间隔形成有多个，形成有各个图案的部分最终成为各个制品。在此情况下，在进一步的曝光中，需要对已经形成的图案以需要的位置精度进行曝光，需要相对于基板的校准。
7、此外，根据制品，有在已经形成有图案的部分之上层压其他的柔性的方形的基板，对该其他的基板(以下，称作上层基板)进行曝光以形成图案的情况。在此情况下，也由于上层基板沿着带状的基板的长度方向隔着间隔层压有多个，所以需要在相对于各个上层基板进行了校准的状态下进行曝光。
8、在这样也要求相对于基板的校准的情况下，需要在将一对掩模相互校准的基础上，一边保持该状态一边将该一对掩模相对于基板进行校准。因此，在专利文献2中，采用用照相机经由设置在基板的校准标记将两侧的掩模的校准标记摄影的结构。
9、专利文献1：日本特开2000－155430号公报
10、专利文献2：日本特开2006－278648号公报
11、如上述那样，在专利文献2中，在除了一对掩模彼此的校准以外还要求相对于基板的校准的情况下，提出了实现该要求的结构。
12、但是，根据专利技术者的研究，仅通过在专利文献1或专利文献2中公开的结构，实际上难以以需要的精度进行各校准。以下，对这一点进行说明。
13、首先，在专利文献1中，虽然对一对掩模彼此的校准进行了说明，但关于一对掩模与被曝光部件的校准没有说明。在专利文献1中，说明了在被曝光部件上形成对位标记m，但说明为对位标记通过抗蚀剂层的感光而形成，可理解为在曝光时不存在。
14、此外，在专利文献2中，说明了进行调整以使校准标记am11、am12a、am12b位于摄像装置13a、13b的光轴上，但没有说明具体以怎样的结构怎样进行调整。
15、根据专利技术者的研究，在上述那样的一边将长尺寸的带状的基板间歇进给一边进行曝光的结构中，有间歇进给时的基板的停止位置的精度给校准带来影响的问题。作为该问题之一，有掩模的校准标记遮挡的问题。
16、若更具体地说明，则基板的校准标记是开口，在照相机经由该开口将掩模的校准标记摄影的结构中，在间歇进给的停止位置的精度较低的情况下，即使在停止后要将掩模的校准标记用照相机摄影，也有被基板遮挡的情况。在此情况下，掩模的校准标记不能被照相机捕捉到，结果不能校准。这样的掩模的校准标记的遮挡在作为校准标记的基板的开口的形成位置的精度较低的情况下也发生。
技术实现思路
1、本申请的专利技术是考虑上述的问题而做出的，目的是在基板的校准标记是开口、由照相机经由开口将掩模的校准标记摄影的结构中，有效地解决掩模的校准标记遮挡的问题。
2、为了解决上述问题，本申请的技术方案1所述的专利技术具有以下的结构，具备：输送系统，将沿着长度方向隔开间隔设定有多个目标曝光区域、并且被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；一对第一第二掩模，配置在夹着被进给的基板的位置；曝光单元，在输送系统使基板停止而校准后，经由各掩模向基板的两面的目标曝光区域照射光而进行曝光；以及存储部；基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准用开口；第一掩模具有作为校准用的标记的第一掩模标记；第二掩模具有作为校准用的标记的第二掩模标记；设置有能够对第一掩模标记、第二掩模标记及基板的校准用开口进行摄影的照相机；设置有根据来自摄影了第一掩模标记、第二掩模标记及校准用开口的照相机的摄影数据、将第一第二掩模相对于基板的应曝光区域进行对位的校准机构；具备将由校准机构进行的对位完成时的第一掩模标记的位置及/或第二掩模标记的位置作为以前标记位置向存储部存储的存储机构、和临时校准机构；临时校准机构具有为以下这样的机构的构成：在校准机构进行对位时，在第一掩模标记或第二掩模标记没有经由基板的校准用开口被捕捉到而被基板遮挡的情况下，从存储部取得前次曝光时的校准的完成时的以前标记位置，以该位置为基准计算用来使遮挡消除的基板或第一第二掩模的移动的朝向和距离，使基板或第一第二掩模向该朝向进行该距离的移动。
3、此外，为了解决上述问题，技术方案2所述的专利技术具有以下的结构：在上述技术方案1所述的结构中，设置有使上述第一第二掩模移动的掩模移动机构；上述临时校准机构是使上述第一第二掩模移动而使上述遮挡消除的机构。
4、此外，为了解决上述问题，技术方案3所述的专利技术具有以下的结构：在上述技术方案2的结构中，上述掩模移动机构是能够使上述第一第二掩模一体地移动的机构。
5、为了解决上述问题，本申请的技术方案4所述的两面曝光方法为如下方法，通过输送系统将沿着长度方向隔开间隔设定有多个目标曝光区域、并且被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给，对于被进给并停止的基板，经由夹着该基板而配置的一对第一第二掩模，由曝光单元向该基板的两面的目标曝光区域照射光而进行曝光；基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准用开口；第一掩模具有作为校准用的标记的第一掩模标记；第二掩模具有作为校准用的标记的第二掩模标记；在曝光之前，进行一边将第一掩模标记、第二掩模标记及基板的校准用开口用照相机摄影、一边根据得到的摄本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种两面曝光装置，其特征在于，
2.如权利要求1所述的两面曝光装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的两面曝光装置，其特征在于，
4.如权利要求1至3中任一项所述的两面曝光装置，其特征在于，
5.一种两面曝光方法，通过输送系统将沿着长度方向隔开间隔设定有多个目标曝光区域并且被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给，对于被进给并停止的基板，经由夹着该基板而配置的一对第一第二掩模，由曝光单元向该基板的两面的目标曝光区域照射光而进行曝光；
【技术特征摘要】
1.一种两面曝光装置，其特征在于，
2.如权利要求1所述的两面曝光装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的两面曝光装置，其特征在于，
4.如权利要求1至3中任一项所述的两面曝光装置，其特征在于，
【专利技术属性】
技术研发人员：名古屋淳，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：
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