平面度测定方法技术

本发明专利技术提供能够简便地测定大量的销的上端所构成的假想面那样的面的平面度的平面度测定方法。在使在具有平坦的上表面以及下表面且厚度均匀的测定板(5)上安装有水平仪(6)的测定单元(4)载置在大量的销(3)中的相邻的三根销(3)上的状态下，利用水平仪(6)对正交的两个水平方向上的测定板(5)的倾斜进行测定，对各三根销(3)依次进行该步骤。在第二次以后的步骤中，重复选择此前选择过的销(3)中的一个并且针对所有的销(3)对测定板(5)的倾斜进行测定。根据测定板(5)的倾斜，将上端处于最高的位置的销(3)与上端处于最低的位置的销(3)之间的高度的差异作为平面度而计算。

【技术实现步骤摘要】
平面度测定方法本申请为2018年2月21日申请的、申请号为201880001042.3的、专利技术名称为“平面度测定方法以及销高度调整方法”的申请的分案申请。
本申请的专利技术涉及求出大量的销的上端所构成的假想面等的面的平面度的技术。
技术介绍
某个面以较高的精度成为平面作为产品的性能而经常被要求。该情况下的某个面有时为假想的面(假想面)，也有时为实际的部件的表面。大量的销的上端所构成的假想面具有较高的平面度例如在一边使用这样的销来保持对象物一边操作对象物的装置中变得需要。示出更具体的例子，在各种电子产品、各种显示器产品的制造中，为了在基板的表面制造微小形状，而进行光刻。在光刻中，存在将基板保持为水平并且将规定的图案的光照射于基板的曝光工序。在曝光工序中，根据使相对于基板的接触面积尽可能小等的要求，有时采用通过垂直的姿势的大量的销来保持基板的构造。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-18927号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在上述那样的曝光装置中，从获得本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平面度测定方法，对具备水平方向的配置为已知的大量的测定点标记的物体的上表面的水平方向上的平面度进行测定，其特征在于，/n所述平面度测定方法是使用测定单元的方法，所述测定单元具备：/n具有平坦的上表面的测定板；/n安装于测定板之上的水平仪；以及/n三根腿销，从测定板的下表面向下方垂直地延伸，且距测定板的上表面的长度均匀，/n大量的测定点标记的配置是在选择了相邻的任意三个测定点标记的情况下都与测定单元的三根腿销的配置相同的配置，/n所述平面度测定方法包括三点测定步骤，在所述三点测定步骤中，选择大量的测定点标记中的相邻的三个测定点标记，在测定单元的腿销分别载置于选择出的三个测定点标记之上的状...

【技术特征摘要】
20170326 JP 2017-0602681.一种平面度测定方法，对具备水平方向的配置为已知的大量的测定点标记的物体的上表面的水平方向上的平面度进行测定，其特征在于，
所述平面度测定方法是使用测定单元的方法，所述测定单元具备：
具有平坦的上表面的测定板；
安装于测定板之上的水平仪；以及
三根腿销，从测定板的下表面向下方垂直地延伸，且距测定板的上表面的长度均匀，
大量的测定点标记的配置是在选择了相邻的任意三个测定点标记的情况下都与测定单元的三根腿销的配置相同的配置，
所述平面度测定方法包括三点测定步骤，在所述三点测定步骤中，选择大量的测定点标...

【专利技术属性】
技术研发人员：金内伸朗，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：日本;JP