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两面曝光装置及两面曝光方法制造方法及图纸
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下载两面曝光装置及两面曝光方法的技术资料
文档序号:40867934
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本发明的目的是在经由基板的校准用开口将掩模的校准标记用照相机摄影时,解决掩模的校准标记的遮挡的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)间歇性地进给的基板(W)的位置的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板照射而曝光。在曝光之前,...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。
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