【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及数字曝光装置，特别是涉及在记录介质的两面进行数字曝 光的两面数字曝光装置。
技术介绍
以往，在印刷电路衬底的电路图案形成或SR形成的模拟量产两面自 动生产线中，因为用1台曝光机装填一个掩膜，在衬底的单面曝光，所以 通常用曝光机+表背反转机+曝光机的串联结构即2台曝光机和1台表背反 转机构筑生产线(例如参照专利文献l)。如上所述，使用掩膜在衬底的两面进行曝光的所谓模拟方式的曝光装 置中，使用与照片的放大同样的原理，所以无法进行只将曝光区域的一部 分放大、缩小、变形等的加工处理。此外，在曝光的前级进行衬底的对位， 对该衬底进行曝光，所以具有无法对多个衬底同时进行并行处理的缺点。另一方面，在使用数字光学系统、用根据图像数据调制的光束对衬底 进行曝光的所谓数字曝光机中，在曝光时不需要掩膜，只用表背面的数据 的交换就能曝光，所以如果在1台曝光机上连接使衬底反转的反转机，则 仅此就能进行两面曝光。可是，数字曝光机与模拟曝光机相比，光源、数字光学系统(DMD、 多面体等)和图像处理系统的功能所需的成本高，所以具有如下缺点用 2台曝光机的串联结构组成系统时的成本与...
【技术保护点】
一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输 送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反 转。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：桥口昭浩，寺田和广，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。