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本发明提供一种光掩模与基板的紧密接触性高的紧密接触型曝光装置。在基板（２）的外侧周围安装框体（３）并通过吸附口（５６）吸附固定。通过框体（３）提高光掩模和基板的紧密接触性。此外由于框体（３）是一体的，所以通过吸附而能够可靠固定，并且装卸简单...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。

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