【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及可用于一次性曝光法和直接描绘法的任一种、在激光直接描绘法中可不论激光波长的长短而使用的感光性组合物、以及将该组合物涂布于载体膜上之后干燥得到的干膜。
技术介绍
印刷线路板的最外层设置有阻焊剂膜这样的永久保护膜。为了形成该阻焊剂膜，广泛采用可正确形成微细图案的光致抗蚀剂法。其中，从考虑环境方面等出发，碱显影型的光致抗蚀剂法成为主流。 作为光致抗蚀剂法的一种方法，一直以来广泛使用插入光掩模将产生紫外线的灯所发出的光曝光到基材上的干燥阻焊涂膜整面上的一次性曝光法(日本特开平01-141904)。该一次性曝光法对于光掩模与基材的位置吻合是必要的，该位置吻合需要时间。进而，基材由于其形成电路时的热经历而尺寸变化，容易产生尺寸偏离设计值。与此相对，光掩模由于不产生如上述那样的尺寸变化，因而无法对该基材尺寸的偏移进行位置修正。越是微细的图案，受到基材尺寸偏移的影响越大，越难以形成正确的图案潜像。为了形成正确的图案潜像，有必要测定各基材形成电路后的尺寸，并对各基材制作与其对应的光掩模，非常复杂。但是，一次性曝光法由于将灯所发出的光一次性曝光于干燥阻焊涂膜...
【技术保护点】
感光性组合物，其特征在于，其通过插入光掩模曝光产生紫外线的灯所发出的光的一次性曝光法、或者通过使用产生紫外线的灯所发出的光或激光的直接描绘法形成图案潜像，用碱性水溶液使该图案潜像显影化，其中，其曝光前的干燥涂膜每２５μｍ厚度，在３５５～４０５ｎｍ的波长范围的吸光度的最大值与最小值之差在０．３以内。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎阳子，加藤贤治，有马圣夫，
申请(专利权)人：太阳油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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