感光性组合物制造技术

技术编号:2746088 阅读:169 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种可形成具有良好的直线性、难以剥离、残渣少的黑色矩阵图案的感光性组合物。作为感光性组合物的光聚合引发剂,采用具有通式(1)所示的苯酰肟酯系化合物。另外,在通式(1)中,将Ar取为含咔唑结构的膨松的基。[式中、R↓[1]表示碳原子数为1以上5以下的低级烷基、A表示从烃基、-CN、-NO↓[2]中选择的基、Ar表示具有咔唑或其取代体的基、可具有取代基的苯酰基的任意一种基。]。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于形成液晶显示面板的黑色矩阵的感光性组合物
技术介绍
液晶显示器等显示体通常是,在两块基板之间夹持液晶层,在该两块基板的每一块上,分别配置相对向形成的电极,而且在其中一块基板的内侧,在液晶层对面,配置由红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)、及黒色等各像素形成的滤色层。而且,黒色像素起到防止不同色混色,且隐藏电极图案的作用,通常,被配置成矩阵状以区分R、G、B各色像素,称为黑色矩阵。通常,滤色片采用光刻法形成。具体而言,在将有机颜料、染料或碳黑等着色剂均匀分散或溶解于感光性树脂成分中的组合物的涂布液涂布于基板上并干燥之后,根据构成滤色片的各色图案进行曝光。然后,将其在碱性显影液等中进行显影处理,并将得到的像素图案进行加热处理,并赋予永久膜的机械强度。对R、G、B各色的每个色重复进行该步骤,从而形成滤色层。对于滤色片的黑色矩阵,迄今,大家一般通过利用光刻法对蒸镀后的铬薄膜进行图案化而得到。由该铬薄膜形成的黑色矩阵尺寸精度高、可靠性也高。然而,为了形成铬薄膜,然而,在形成铬薄膜时,需要蒸镀及溅射等真空制膜步骤。对于基板大型化而言,随着装置的大型化从而导致很难向基板大型化迈进。另外,出于环境上的问题,铬薄膜和其他色的滤色片一样,采用使黑色系着色剂分散的光硬化性组合物所形成的树脂膜(参照专利文献1)。作为这些黑色矩阵材料用的黑色着色剂,公知有碳黑、钛黑等。尤其碳黑最为常用。如专利文献1所记载,公开一种光聚合性组合物,其含有含至少一种可加成聚合的不饱和性双键的化合物、光聚合引发剂及金属氧化物等,而实质上不含卤素原子。该组合物可提供一种由于实质上除去卤素原子而耐热性好的、电绝缘电阻值高的滤色片。专利文献1特开平11-84125号公报专利技术所要解决的技术问题然而,为了给予黑色矩阵高遮光性,必须提高遮光材料的含有量。这样,存在光学浓度虽然变高,但曝光时光还未到达膜的深处,光硬化(感光反应)未充分进行的情况。结果,导致显影容许度变窄,图案的直线性降低,图案从基板剥离,基板上产生残渣。而且,在制作滤色片时,如果根据使用的着色感光树脂而在曝光及显影后采用烘炉进行加热处理,则由着色图案会产生升华物。如果该升华物作为异物而混入着色图案中,则会导致产品残次。
技术实现思路
鉴于以上技术问题,本专利技术要解决的技术问题是提供一种用于液晶显示器的滤色片中的、可形成具有良好直线性的、难以剥离的、很少残渣的黑色矩阵图案的感光性组成物组合物。用于解决技术问题的技术手段本专利技术者们发现,作为感光性组成物组合物的光聚合起始剂引发剂,通过采用酰基肟酯系化合物,可提供能够形成具有良好直线性、难剥离、少残渣的黑色矩阵图案的感光性组成物组合物。更具体地,本专利技术提供以下的感光性组成物组合物。(1)感光性组成物组合物,含有光聚合性化合物、光聚合起始剂引发剂、着色剂,其中,作为上述光聚合起始剂引发剂,含有下述通式(1)所示的酰基肟酯系化合物。化1 根据(1)的专利技术,通过将光聚合起始剂引发剂取为上述结构,尤其将R1取为碳原子数为1以上5以下的低级烷基,可使光聚合起始剂引发剂的起始效率提高。这样,用很少照射量的光即可有效使之活性化并使感光性组成物组合物硬化,并可提高对感光性组成物组合物的光的感应性。这样,可提供直线性高、剥离及残渣少的黑色矩阵图案。(2)如(1)所述的感光性组成物组合物,其中,Ar为下述通式(2)或(3)所示的基。化2化3[式中、B表示可为同一或不同的、从氢原子、卤素原子、碳原子数为1到12的烷基、苯基、C6H5S-、形成的组中选择的任意一种基、k为0到5的整数,G表示可为同一或不同的、从氢原子、卤素原子、碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为1到20的烷氧基、碳原子数为3到20的环烷基,-OR2、-NR3R4形成的组中选择的任意一种基、m为0到5的整数。其中,R2表示碳原子数为1到20的烷基(碳原子的一部分被异构原子杂原子取代也可以)、或,碳原子数为3到20的环烷基(碳原子的一部分被异构原子杂原子取代也可以),R3、R4表示可为同一或不同的、碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为2到20的烷氧基羰基、或者,R3和R4一起形成碳原子数为3到20的环也可以,在形成环时,碳原子的一部分被异构原子杂原子取代也可以,D表示可为同一或不同的、从氢原子、卤素原子、碳原子数为1到20的可含异构原子杂原子的烃基所形成的组中选择的任意一种基、n为0到3的整数。E表示从氢原子、卤素原子、碳原子数为1到12的烷基、苯基中选择的基。]根据(2)的专利技术,通过将Ar取为苯酰基,可进一步提高对光的感应性。另外,如上述通式(3)所示,在采用苄基在苯环的3位进行取代,且采用具有某个取代基的咔唑环的场合,可进一步提高对光的感应性并同时还可提高耐热性。(3)如(1)或(2)所述的感光性组成物组合物,其中R1为甲基或乙基。根据(3)的专利技术,通过将R1取为甲基或乙基,可进一步提高对光的感应性。这样,用很少照射量的光即可有效使之活性化并使光聚合起始剂引发剂硬化。这样,可提供直线性更高、剥离及残渣更少的黑色矩阵图案。另外,由于本专利技术光聚合起始剂引发剂的结构更加简单化,故可实现制造步骤的简略化。(4)如(1)到(3)任一项所述的感光性组成物组合物,其中,上述通式(1)所示化合物为下述通式(4)所表示的化合物。化4 [式中、A表示从烃基、-CN、-NO2所选择的基、G表示可为同一或不同的、从氢原子、卤素原子、碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为1到20的烷氧基、碳原子数为3到20的环烷基、-OR2、-NR3R4形成的组中选择的任意一种基、m为0到5的整数。其中,R2表示碳原子数为1到20的烷基(碳原子的一部分被异构原子杂原子取代也可以)、或,碳原子数为3到20的环烷基(碳原子的一部分被异构原子杂原子取代也可以),R3、R4表示可为同一或不同的、碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为2到20的烷氧基羰基、或者,R3和R4一起形成碳原子数为3到20的环也可以,在形成环时,碳原子的一部分被异构原子杂原子取代也可以。]根据(4)的专利技术,通过将光聚合起始剂引发剂取为通式(4)的结构,可提供能够形成具有高耐热性、且直线性更高、无剥离或残渣产生的黑色矩阵图案的感光性组成物组合物。(5)如(1)到(4)任一项所述的感光性组成物组合物,其中,上述光聚合起始剂引发剂为上述通式(1)所示的化合物和下述通式(5)所示化合物的混合物。化5 根据(5)的专利技术,通过光聚合起始剂引发剂含有上述化合物,用极少照射量的光也可高效活性化。这是由于通过具有不同电子带光谱的化合物的共存,光聚合起始剂引发剂能够感应的具有高感光度的光的实际波长区域扩展,或者至少两种化合物产生相互作用的缘故。因此,通过并用(1)到(4)所述专利技术的光聚合起始剂引发剂和同上(5)所示化合物,感光性组成物组合物的感光度及显影容许度进一步提高,黑色矩阵图案更容易形成直线性高、很少剥离及残渣的良好的形态。(6)如(1)到(5)任一项所述的感光性组成物组合物,其中,上述光聚合起始剂引发剂进一步含巯基苯并咪唑。根据(6)的专利技术,和(5)所述的专利技术一样,通过并用使用,可提供直线性更高,更少剥离及残渣产生的黑色矩阵图案。另外,由于巯基苯并咪唑还具有氧化本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种感光性组合物,含有光聚合性化合物、光聚合引发剂、着色剂,其中,作为上述光聚合引发剂,含有下述通式(1)所示的酰基肟酯类化合物,***…………(1)式中,R↓[1]表示碳原子数为1或1以上、5或5以下的低级烷基,A表示 选自烃基、-CN、-NO↓[2]的基团,Ar表示具有咔唑或其取代体的基团、可具有取代基的苯甲酰基中的任意一种基团。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:信太胜大西启之内河喜代司
申请(专利权)人:东京应化工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1