【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种容性耦合等离子体反应器，尤其涉及一种更均匀 地产生大面积等离子体、从而提高要处理的大面积对象(即衬底/表面) 的等离子体处理效率的容性耦合等离子体反应器。
技术介绍
等离子体是包括正离子和电子的高度电离气体。等离子体放电用 于气体激发，以产生包括离子、自由基、原子和分子的活性气体。活 性气体广泛用于各种领域。通常，活性气体用于半导体制造工艺，例 如蚀刻、沉积、清洗、灰化等工艺。用于产生等离子体的等离子体源类型多样。等离子体源的典型实 例包括使用射频的容性耦合等离子体、感性耦合等离子体。容性耦合 等离子体源的优点在于其处理生产率比其它等离子体源高，因为它准 确控制容性耦合和离子的能力出色。但是，当用于容性耦合的电极变 大，以处理待处理的大衬底时，电极很可能烧结、变形或损坏。在这 种情况下，由于电场强度变得不均匀，所以等离子体密度也不均匀， 反应器内部很可能被污染。类似地，当感性线圈天线的面积较大时， 感性耦合等离子体源难以产生密度均匀的等离子体。在半导体制造业，由于半导体装置超小型化、制造半导体电路的 硅片衬底变大、制造液晶显示器的玻璃衬底变大、...
【技术保护点】
一种容性耦合等离子体反应器，包括： 等离子体反应器； 容性耦合电极组件，包括多个容性耦合电极，用于在所述等离子体反应器内诱发等离子体放电； 主电源，用于提供射频功率；以及 分配电路，用于接收所述主电源提供的所述射频功 率，并将接收的所述射频功率分配到所述多个容性耦合电极。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏淳任，
申请(专利权)人：新动力等离子体株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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