感应耦合等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种感应耦合等离子体处理装置。该感应耦合等离子体处理装置包括：反应室；基底支架，用于在反应室中形成等离子体空间并用于支撑在其中的处理基底；屏蔽件，设置在基底支架的侧面；多个开口，形成在基底的下方；线天线，在反应室的下部，高频功率信号被施加到线天线。因此，该感应耦合等离子体处理装置可均匀地分布等离子体的密度，使得可实现大尺寸的平板显示器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种感应耦合等离子体处理装置，更具体地讲，涉及一种感应耦合等离子体处理装置，该感应耦合等离子体处理装置具有形成在其下中心和侧面中的处理气引入开口和线天线(linear antenna)，使得等离子体的密度对称地且均匀地分布在中心部分和外侧。
技术介绍
根据使用何种类型的材料，某些平板显示装置以有机显示装置为特征，而其他平板显示装置以无机显示装置为特征。等离子体显示面板(PDP)和场致发射显示器(FED)倾向于无机显示器，液晶显示器(LED)和有机发光显示器(OLED)倾向于有机显示器。等离子体是电离气体并包括具有高化学活性的阳离子、阴离子、电子、受激原子、分子和自由基。由于等离子体具有与其他气体显著不同的电学特性和热学特性，所以它被视为物质的第四态。由于等离子体包含电离气体，所以等离子体被用在半导体制造工艺中，在该半导体工艺中，使用电场或磁场将等离子体加速，以对半导体基底执行光刻或在半导体基底上执行气相沉积。感应耦合等离子体处理装置包括二反应室，处于低压气氛；鞘(sheath)，形成在反应室中；下电极，高频电功率信号被施加到下电极；高频天线，安装在反应室的外部。此外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感应耦合等离子体处理装置，包括：反应室；基底支架，被设置以在所述反应室中形成等离子体空间，并被构造为支撑在其中的基底；屏蔽件，与所述基底支架邻近设置；多个开口，形成在所述反应室中所述基底支架的下方；线天线，位于所述反应室的下方，其中，所述线天线被构造为接收高频功率信号。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李奎成，金汉基，金度根，金明洙，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]