感应耦合等离子体反应器制造技术

本发明专利技术的感应耦合等离子体反应器包括：具有搭载被处理基板的基板支撑台的真空腔；向真空腔内部供给气体的气体喷头；设于真空腔上部的介电窗；及设于介电窗上部的射频天线。气体喷头及基板支撑台与真空腔内部的等离子体电容耦合，射频天线与真空腔内部的等离子体感应耦合。等离子体反应器通过电容且感应的耦合在真空腔内部产生等离子体，由此更均匀地产生大面积的等离子体，同时容易进行等离子体离子能量的正确调节，从而可以提高成品率和生产能力。等离子体反应器包括磁芯，该磁芯的磁束出入口朝向真空腔内部，并且该磁芯以沿着射频天线将其覆盖的方式设于介电窗上部。射频天线由磁芯覆盖，可集中更强的磁束，最大限度抑制磁束的损失。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种射频(radio frequency)等离子体源(plasmasource)，具体地说，涉及一种可以更均匀地产生高密度的等离子体的感应耦合等离子体反应器。
技术介绍
等离子体是包含相同数量的阳离子(positive ions)和电子(electrons)的高度离子化的气体。等离子体放电应用于产生包括离子、自由基、原子、分子的活性气体的气体激发。活性气体广泛应用于各个领域，作为代表，应用于半导体制造工序、例如蚀刻(etching)、沉积(deposition)、清洗(cleaning)、灰化(ashing)等。用于产生等离子体的等离子体源多种多样，但作为其代表例为使用了射频(radio frequency)的电容耦合等离子体(capacitive coupledplasma)和感应耦合等离子体(inductive coupled plasma)。电容耦合等离子体源具有以下优点正确的电容耦合调节和离子调节能力较高，与其他等离子体源相比工程生产力较高。另一方面，射频电源的能量基本排他地经由电容耦合与等离子体连接，因此等离子体离子密度仅根据电容耦合的射频功率的增加或减少本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体反应器，其中，　　　　包括：真空腔，具有搭载被处理基板的基板支撑台；　　　　气体喷头，向真空腔的内部供给气体；　　　　介电窗，设置在真空腔的上部；以及　　　　射频天线，设置在介电窗的上部，　　　　气体喷头及基板支撑台与真空腔内部的等离子体电容性耦合，射频天线与真空腔内部的等离子体感应性耦合。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔大圭，
申请(专利权)人：新动力等离子体株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]