本实用新型专利技术公开了一种硅管表面处理用的喷砂装置，包括支撑架，所述支撑架内部竖直设置有喷砂箱，且喷砂箱底端设置有漏斗，并且漏斗与喷砂箱的底端进行贯通连接，所述漏斗外部侧边管路设置有若干个进砂管，且若干个进砂管的另一端设置有集砂罐，并且集砂罐设置于支撑架内部底端处，通过若干个进砂管与集砂罐之间的配合，对漏斗内部进行大量喷砂，从而对漏斗内部的硅管进行喷砂，进而解决了现有技术中硅管进行喷砂时不够均匀的技术问题。管进行喷砂时不够均匀的技术问题。管进行喷砂时不够均匀的技术问题。
【技术实现步骤摘要】
一种硅管表面处理用的喷砂装置
[0001]本技术涉及硅管领域，尤其是涉及一种硅管表面处理用的喷砂装置。
技术介绍
[0002]硅芯管是一种内壁带有硅胶质固体润滑剂的新型复合管道，密封性能好，耐化学腐蚀，工程造价低，广泛运用于高速公路，铁路等的光电缆通信网络系统。 HDPE硅芯管是一种内壁带有硅胶质固体润滑剂的新型复合管道，简称硅管，然而现有技术中硅管进行喷砂时表面容易不够均匀，为此提出一种硅管表面处理用的喷砂装置。
技术实现思路
[0003]本技术为克服上述情况不足，旨在提供一种能解决上述问题的技术方案。
[0004]一种硅管表面处理用的喷砂装置，包括支撑架，所述支撑架内部竖直设置有喷砂箱，且喷砂箱底端设置有漏斗，并且漏斗与喷砂箱的底端进行贯通连接，所述漏斗外部侧边管路设置有若干个进砂管，且若干个进砂管的另一端设置有集砂罐，并且集砂罐设置于支撑架内部底端处，通过若干个进砂管与集砂罐之间的配合，对漏斗内部进行大量喷砂，从而对漏斗内部的硅管进行喷砂，进而解决了现有技术中硅管进行喷砂时不够均匀的技术问题。
[0005]优选地，所述进砂管与集砂罐之间的连接处设置有第二控制阀，且第二控制阀分别贯通进砂管和集砂罐。
[0006]优选地，所述集砂罐的侧边设置有连接架，且集砂罐通过连接架固定于支撑架内部底端处。
[0007]优选地，所述漏斗底端竖直管路设置有出料管，且出料管与漏斗之间相互贯通，所述出料管的侧边设置有第一控制阀，且第一控制阀贯通出料管。
[0008]优选地，所述喷砂箱向前一面设置有防护门，且防护门向前一面的顶端设置有观察窗，并且观察窗与防护门呈同一竖直面。
[0009]优选地，所述喷砂箱侧边设有成型管进料口，且进料口贯通喷砂箱，并且通过进料口使得硅管运输至喷砂箱内部。
[0010]优选地，所述支撑架顶端设置有控制箱，且控制箱与喷砂箱进行电性连接，并且通过控制箱对喷砂箱进行控制。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：通过若干个进砂管与集砂罐之间的配合，对漏斗内部进行大量喷砂，从而对漏斗内部的硅管进行喷砂，进而解决了现有技术中硅管进行喷砂时不够均匀的技术问题。
[0012]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为一种硅管表面处理用的喷砂装置的结构示意图；
[0015]图2为一种硅管表面处理用的喷砂装置的另一结构示意图；
[0016]图3为漏斗的结构示意图。
[0017]图中所示：1、支撑架，2、喷砂箱，3、控制箱，4、防护门，5、观察窗，6、进料口，7、漏斗，8、出料管，9、进砂管，10、集砂罐，11、第一控制阀，12、第二控制阀，13、连接架。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]请参阅图1
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3，本技术实施例中，一种硅管表面处理用的喷砂装置，包括支撑架1，所述支撑架1内部竖直设置有喷砂箱2，且喷砂箱2底端设置有漏斗7，并且漏斗7与喷砂箱2的底端进行贯通连接，所述漏斗7外部侧边管路设置有若干个进砂管9，且若干个进砂管9的另一端设置有集砂罐10，并且集砂罐 10设置于支撑架1内部底端处，通过若干个进砂管9与集砂罐10之间的配合，对漏斗7内部进行大量喷砂，从而对漏斗7内部的硅管进行喷砂，进而解决了现有技术中硅管进行喷砂时不够均匀的技术问题。
[0020]所述进砂管9与集砂罐10之间的连接处设置有第二控制阀12，且第二控制阀12分别贯通进砂管9和集砂罐10，并且通过第二控制阀12进行控制进而使得集砂罐10内部的砂砾通过进砂管9进入漏斗7内部。
[0021]所述集砂罐10的侧边设置有连接架13，且集砂罐10通过连接架13固定于支撑架1内部底端处。
[0022]所述漏斗7底端竖直管路设置有出料管8，且出料管8与漏斗7之间相互贯通，所述出料管8的侧边设置有第一控制阀11，且第一控制阀11贯通出料管8，并且通过第一控制阀11进行控制，从而将喷砂结束后的硅管以及砂砾一同通过出料管8排出。
[0023]所述喷砂箱2向前一面设置有防护门4，且防护门4向前一面的顶端设置有观察窗5，并且观察窗5与防护门4呈同一竖直面，进而通过观察窗5对喷砂箱 2内部进行观察。
[0024]所述喷砂箱2侧边设有成型管进料口6，且进料口6贯通喷砂箱2，并且通过进料口6使得硅管运输至喷砂箱2内部。
[0025]所述支撑架1顶端设置有控制箱3，且控制箱3与喷砂箱2进行电性连接，并且通过控制箱3对喷砂箱2进行控制。
[0026]对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新
型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅管表面处理用的喷砂装置，包括支撑架，其特征在于，所述支撑架内部竖直设置有喷砂箱，且喷砂箱底端设置有漏斗，并且漏斗与喷砂箱的底端进行贯通连接，所述漏斗外部侧边管路设置有若干个进砂管，且若干个进砂管的另一端设置有集砂罐，并且集砂罐设置于支撑架内部底端处，通过若干个进砂管与集砂罐之间的配合，对漏斗内部进行大量喷砂，从而对漏斗内部的硅管进行喷砂，进而解决了现有技术中硅管进行喷砂时不够均匀的技术问题。2.根据权利要求1所述的一种硅管表面处理用的喷砂装置，其特征在于，所述进砂管与集砂罐之间的连接处设置有第二控制阀，且第二控制阀分别贯通进砂管和集砂罐。3.根据权利要求1所述的一种硅管表面处理用的喷砂装置，其特征在于，所述集砂罐的侧边设置有连接架，且集砂罐通过连接架固定于支撑架内部底...
【专利技术属性】
技术研发人员：王凤莲，张会奕，台旭伟，习国清，王霖，
申请(专利权)人：深圳市鼎信表面处理科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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