本发明专利技术提供一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，涉及靶材表面处理设备技术领域。该旋转硅靶材均匀性表面处理设备，包括两个工作台和靶材，所述工作台的上端面两侧分别设置有调节夹持座和固定夹持座，所述靶材通过两个三爪卡盘夹持在调节夹持座和固定夹持座之间，两个所述工作台的上方通过支撑柱固定连接有横向运动机构，所述横向运动机构的下方连接有激光处理机构，所述工作台的后侧设置有顶出机构，所述顶出机构包括连接挡板，所述连接挡板的前侧固定连接有冷却机构。本发明专利技术中，实现了对于加工间隙时间的利用，工作效率高，能够满足高效率的生产需求，能够同时对靶材的两侧进行激光处理，处理速度快。处理速度快。处理速度快。
【技术实现步骤摘要】
一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备
[0001]本专利技术涉及靶材表面处理设备
，具体为一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备。
技术介绍
[0002]旋转靶材是磁控的靶材，靶材做成圆筒形的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动，硅铝靶材是真空磁控溅射镀膜工艺中一种常用的耗材，由于其利用率高，镀膜均匀性好，适用于大面积连续性磁控溅射生产线，已经成为未来靶材发展的新趋势。
[0003]旋转靶材经过机械加工完成后，表面存在车刀纹，导致靶材表面粗糙，均匀度达不到要求，但是对旋转硅靶材溅射面粗糙度要求越来越高，此时便需要使用靶材表面处理设备对硅靶材表面进行均匀度处理，目前多是通过激光设备对旋转靶材进行表面处理，不过在处理时，等待旋转靶材的冷却、上、下料较为耗时，会占用较多的时间，且单头激光器的处理效率也较低，不易满足大规模生产时高效率的生产需求。因此，本领域技术人员提供了一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，能够利用加工间隙的时间进行靶材的冷却、上、下料，处理过程效率更高，能够满足高效率的生产需求，解决了目前处理设备中效率低的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，包括两个工作台和靶材，两个所述工作台并排设置，所述工作台的上端面两侧分别设置有调节夹持座和固定夹持座，所述调节夹持座的下端通过调节机构与工作台连接，所述固定夹持座与工作台固定连接，所述调节夹持座和固定夹持座相对的端面均转动连接有三爪卡盘，所述固定夹持座外端固定设置有转动电机，所述转动电机的输出端与相邻的三爪卡盘固定连接，所述靶材通过两个三爪卡盘夹持在调节夹持座和固定夹持座之间，所述靶材的下方设置有两个升降承托机构；
[0008]两个所述工作台的上方通过支撑柱固定连接有横向运动机构，所述横向运动机构的下方连接有激光处理机构，所述工作台的后侧设置有顶出机构，所述顶出机构包括连接挡板，所述连接挡板的前侧固定连接有冷却机构；
[0009]所述激光处理机构包括升降气缸，所述升降气缸的活塞杆固定连接有升降连接板，所述升降连接板的下端固定连接有双头连接架，所述双头连接架的两端均固定连接有调节气缸，两个所述调节气缸的顶出平台上均固定设置有激光器，两个所述激光器的间距大于靶材的直径；
[0010]通过上述技术方案，激光处理机构在使用时，能够同时对靶材的两侧进行激光处
理，激光处理机构能够通过横向运动机构进行横向的位置调节，在一根靶材表面处理完成后可以直接通过横向运动机构转移至另一根靶材上进行加工，而在加工时便可以对第一根靶材进行冷却，下料的操作，并安装新的靶材，实现了对于加工间隙时间的利用，工作效率高。
[0011]优选的，所述横向运动机构包括梁架，所述梁架的凹槽内部转动连接有第一螺杆，且滑动连接有移动安装台，所述移动安装台与第一螺杆套接，所述梁架的外端固定设置有第一电机，所述第一电机的输出端与第一螺杆固定连接，所述升降气缸的上端与移动安装台的下端面固定连接；
[0012]通过上述技术方案，设置的横向运动机构用以带动激光处理机构进行横向运动，在两个靶材之间转换，以及调节表面处理的位置，在运动时，第一电机启动带动第一螺杆转动，带动移动安装台沿着梁架运动，从而带动激光处理机构进行运动。
[0013]优选的，所述梁架的两侧均开始有第一导向槽，所述移动安装台的两侧均固定连接有第一限位板，两个所述第一限位板的内侧均转动连接有第一导向轮，所述第一导向轮与第一导向槽滑动连接；
[0014]通过上述技术方案，在移动安装台运动设置的第一导向轮沿着第一导向槽滑动，能够对移动安装台进行约束，保证其能够稳定、顺畅运动。
[0015]优选的，所述冷却机构包括连接横梁，所述连接横梁的上下两侧均转动连接有弧形出气头，两个所述弧形出气头的内弧面均开始有出气口，其外弧面固定连接有通气管，所述连接横梁的后侧固定连接有四个气缸安装架，所述气缸安装架的内侧转动连接有合并气缸，多个所述合并气缸分别与两个弧形出气头转动连接，所述气缸安装架的后端与连接挡板固定连接；
[0016]通过上述技术方案，冷却机构能够对靶材进行快速均匀的冷却降温，降温时通过顶出机构将冷却机构推至靶材附近，之后启动合并气缸，将两个弧形出气头合并，包围在靶材的外端，之后连通气流，对靶材的表面进行高效、均匀的降温，降温速率快，气流与靶材表面接触充分，能够防止靶材局部降温不均导致开裂的情况。
[0017]优选的，所述冷却机构还包括风机，所述风机的出风口固定连接有输气管，所述输气管为三通软管，其剩余两端分别与两个通气管连通；
[0018]通过上述技术方案，通过设置的风机产生气流，之后通过输气管和通气管通入弧形出气头排出。
[0019]优选的，所述顶出机构还包括底板、导轨、气动顶杆，两个所述导轨均与工作台固定连接，所述底板与连接挡板固定连接，且与导轨滑动连接，两个所述气动顶杆的外壳与工作台固定连接，且顶出端与底板的前端固定连接；
[0020]通过上述技术方案，设置的顶出机构用以将冷却机构推至冷却位置，顶出时，两个气动顶杆顶出，推动底板沿着导轨运动，从而将冷却机构推至冷却位置。
[0021]优选的，两个所述工作台上方的调节夹持座和固定夹持座的安装方向相反，所述调节机构包括调节座，所述调节座的凹槽内转动连接有第二螺杆，且滑动连接有调节移动台，所述调节移动台套接在第二螺杆的外端，所述调节移动台的上端与调节夹持座的下端固定连接，所述调节座的一端固定设置有第二电机，所述第二电机的输出端与第二螺杆固定连接；
[0022]通过上述技术方案，安装方向相反的调节夹持座和固定夹持座便于进行靶材的上下料，调节机构能够改变调节夹持座的位置，调节时，第二电机启动带动第二螺杆转动，从而带动调节移动台运动，来实现调节夹持座与固定夹持座间距的改变，便于上下料，也能够适配不同长度的靶材。
[0023]优选的，所述调节座的两侧均开设有第二导向槽，所述调节移动台的两侧均固定连接有第二限位板，所述第二限位板的内侧转动连接有第二导向轮，所述第二导向轮与第二导向槽滑动连接；
[0024]通过上述技术方案，设置的第二限位板和第二导向轮以及第二导向槽能够在调节移动台运动时对其进行限位，保证调节移动台能够稳定顺畅运动。
[0025]优选的，所述升降承托机构包括两个液压托柱和托板，所述托板的上端面开设有弧形托槽，所述托板的两侧均固定连接有连接头，两个所述液压托柱的伸出端分别与两个连接头固定连接，两个所述液压托柱的下端与工作台固定连接；
[0026]通过上述技术方案，设置的升降承托机构可以上将托举靶材，便于对靶材进行上下料，上料时，托板位于低位，将靶材放至两个托板之间，之后启动液压托柱升起托板将靶材升至高位，从本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，包括两个工作台(1)和靶材(2)，其特征在于：两个所述工作台(1)并排设置，所述工作台(1)的上端面两侧分别设置有调节夹持座(10)和固定夹持座(11)，所述调节夹持座(10)的下端通过调节机构(6)与工作台(1)连接，所述固定夹持座(11)与工作台(1)固定连接，所述调节夹持座(10)和固定夹持座(11)相对的端面均转动连接有三爪卡盘(12)，所述固定夹持座(11)外端固定设置有转动电机(13)，所述转动电机(13)的输出端与相邻的三爪卡盘(12)固定连接，所述靶材(2)通过两个三爪卡盘(12)夹持在调节夹持座(10)和固定夹持座(11)之间，所述靶材(2)的下方设置有两个升降承托机构(9)；两个所述工作台(1)的上方通过支撑柱(3)固定连接有横向运动机构(4)，所述横向运动机构(4)的下方连接有激光处理机构(5)，所述工作台(1)的后侧设置有顶出机构(7)，所述顶出机构(7)包括连接挡板(701)，所述连接挡板(701)的前侧固定连接有冷却机构(8)；所述激光处理机构(5)包括升降气缸(501)，所述升降气缸(501)的活塞杆固定连接有升降连接板(505)，所述升降连接板(505)的下端固定连接有双头连接架(502)，所述双头连接架(502)的两端均固定连接有调节气缸(503)，两个所述调节气缸(503)的顶出平台上均固定设置有激光器(504)，两个所述激光器(504)的间距大于靶材(2)的直径。2.根据权利要求1所述的一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，其特征在于：所述横向运动机构(4)包括梁架(401)，所述梁架(401)的凹槽内部转动连接有第一螺杆(403)，且滑动连接有移动安装台(402)，所述移动安装台(402)与第一螺杆(403)套接，所述梁架(401)的外端固定设置有第一电机(407)，所述第一电机(407)的输出端与第一螺杆(403)固定连接，所述升降气缸(501)的上端与移动安装台(402)的下端面固定连接。3.根据权利要求2所述的一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，其特征在于：所述梁架(401)的两侧均开始有第一导向槽(406)，所述移动安装台(402)的两侧均固定连接有第一限位板(404)，两个所述第一限位板(404)的内侧均转动连接有第一导向轮(405)，所述第一导向轮(405)与第一导向槽(406)滑动连接。4.根据权利要求1所述的一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，其特征在于：所述冷却机构(8)包括连接横梁(801)，所述连接横梁(801)的上下两侧均转动连接有弧形出气头(802)，两个所述弧形出气头(802)的内弧面均开始有出气口，其外弧面固定连接有通气管(8...
【专利技术属性】
技术研发人员：王凤莲，王霖，罗侃，
申请(专利权)人：深圳市鼎信表面处理科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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