一种晶体整列摆盘设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种晶体整列摆盘设备，属于摆盘设备技术领域，包括工作台以及输送机构，工作台上具有摆放位置，输送机构适于输送治具盘至所述摆放位置；工作台于摆放位置具有避让孔，晶体整列摆盘设备还包括接料盒、晶体上料机构、振动机构以及顶升机构。接料盒位于所述输送机构的上方；接料盒的底壁具有若干呈矩阵排列的落料孔，落料孔与摆放位置的治具盘上的凹槽一一对应；晶体上料机构包括料仓和料道，料仓通过第二支撑架固定在工作台上；所述料道的高端与所述料仓连通，所述料道的低端斜向落料孔。通过振动机构使接料盒振动，能够使接料盒内的晶体经落料孔进入到治具盘的凹槽内。通过上述设置，能够提高治具盘的摆盘效率。能够提高治具盘的摆盘效率。能够提高治具盘的摆盘效率。

【技术实现步骤摘要】
一种晶体整列摆盘设备


[0001]本技术属于摆盘设备
，具体涉及一种晶体整列摆盘设备。

技术介绍

[0002]在电子元器件生产加工领域，摆盘机能够实现自动上料、摆盘等一系列操作，能够提高生产加工效率。在对若干微小晶体进行摆盘时，现有技术中的摆盘机通过输送带将治具盘输送到摆盘位置，然后摆盘机械手将微小晶体一个一个的放置在治具盘的凹槽内。需要说明的是，微小晶体的尺寸在1mm以下，即，长、宽、高的尺寸均在1mm以下。但是，上述摆盘过程中，摆盘机械手需要频繁的吸取和摆放微小晶体，在治具盘上的凹槽数量较多时，上述摆盘过程生产效率低。

技术实现思路

[0003]本技术实施例提供一种晶体整列摆盘设备，旨在解决对凹槽数量较多的治具盘进行摆盘时、现有技术中通过摆盘机械手一个一个放置晶体的方式生产效率低的技术问题。
[0004]为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：
[0005]提供一种晶体整列摆盘设备，包括工作台以及输送机构，所述工作台上具有摆放位置，所述输送机构适于输送治具盘至所述摆放位置；其特征在于，所述工作台于摆放位置具有避让孔，晶体整列摆盘设备还包括：
[0006]接料盒，位于所述输送机构的上方，并通过第一支撑架固定在所述工作台的摆放位置；所述接料盒的底壁具有若干呈矩阵排列的落料孔，所述落料孔与摆放位置的治具盘上的凹槽一一对应；
[0007]晶体上料机构，包括位于所述接料盒上方的料仓和料道，所述料仓通过第二支撑架固定在所述工作台上；所述料道的高端与所述料仓连通，所述料道的低端斜向所述接料盒的落料孔；
[0008]振动机构，连接在所述接料盒上，适于振动所述接料盒内的晶体、以使晶体落入所述落料孔；以及
[0009]顶升机构，连接在所述工作台底部；所述顶升机构具有适于穿过所述避让孔的顶升端；所述顶升端适于顶升治具盘，以使治具盘的上表面与所述接料盒的下表面接触。
[0010]在一种可能的实现方式中，所述接料盒的底部具有挡片，所述挡片具有适于沿水平方向滑动的自由度，用于封堵部分所述落料孔。
[0011]在一种可能的实现方式中，所述接料盒的外侧壁连接有伸缩件，所述伸缩件具有与所述挡片连接的伸缩端。
[0012]在一种可能的实现方式中，所述接料盒底壁的中间位置高于所述接料盒底壁的两端位置，所述落料孔位于所述接料盒底壁的中间位置；所述接料盒的一端具有排料口，所述接料盒于所述排料口处设有适于吸取所述接料盒内晶体、并输送至所述料仓内的晶体回收
结构。
[0013]在一种可能的实现方式中，晶体整列摆盘设备还包括位于所述输送机构和所述接料盒之间的定心机构，所述定心机构包括：
[0014]第三支撑架，横跨所述输送机构，并连接在所述工作台上；所述第三支撑架的顶部为支撑台；所述支撑台上具有与所述避让孔对齐的第一通孔；以及
[0015]若干定心部，设在所述支撑台于第一通孔边缘的位置，且沿所述第一通孔的周向间隔设置；若干所述定心部具有适于沿第一通孔径向滑动的自由度；若干所述定心部适于同时靠近或远离所述第一通孔；
[0016]其中，在治具盘位于所述支撑台的第一通孔时，若干所述定心部均适于与治具盘的外周壁接触、以中心定位治具盘。
[0017]在一种可能的实现方式中，所述定心机构还包括：
[0018]定位部，设在所述支撑台的上表面；所述定位部具有与所述第一通孔对齐的第二通孔；所述定位部的顶部具有若干沿所述第二通孔径向设置的滑道，所述滑道与所述定心部一一对应；所述定位部的底部具有容置槽，所述容置槽与所述支撑台的上表面形成容置腔；
[0019]转环，转动设于所述容置腔内；所述转环上沿其周向间隔具有若干倾斜设置的引导槽，所述引导槽与所述定位部一一对应；所述引导槽的一端靠近所述第二通孔，另一端靠近所述转环的外周壁；以及
[0020]导向部，一端固定在所述定心部的底部，另一端与所述滑道和所述引导槽插接配合；
[0021]其中，在所述转环转动时，所述导向部在所述引导槽和所述滑道的配合下适于沿所述第一通孔的径向滑动。
[0022]在一种可能的实现方式中，晶体整列摆盘设备还包括设在所述输送机构进料端的治具盘上料机构，所述治具盘上料机构包括：
[0023]第四支撑架，连接在所述工作台上；
[0024]上料盘，转动设于所述第四支撑架的上表面；所述上料盘上沿其周向间隔设有若干第三通孔，第三通孔的直径小于治具盘的直径；
[0025]若干上料架，与所述第三通孔一一对应，且每一个上料架均设在第三通孔的边缘位置；每一个所述上料架均适于沿高度方向叠放若干治具盘；
[0026]顶升结构，设在所述第四支撑架的底部；所述顶升结构包括适于穿过所述第三通孔的顶升端，所述顶升端适于顶升所述上料架上的治具盘；以及
[0027]上料机械手，设在所述输送机构的进料端；所述上料机械手具有适于抓取所述上料架的治具盘的抓取状态，以及具有适于将治具盘放置在所述输送机构上的放置状态。
[0028]在一种可能的实现方式中，所述顶升机构包括：
[0029]顶升部，设在所述避让孔处，所述顶升部具有适于沿高度方向滑动的自由度；以及
[0030]顶升动力件，连接在所述工作台的底部；所述顶升动力件具有适于与所述顶升部连接的顶升端；
[0031]其中，所述顶升部适于顶升所述输送机构上的治具盘。
[0032]在一种可能的实现方式中，所述振动机构包括振动电机，所述振动电机连接在所
述接料盒上。
[0033]在一种可能的实现方式中，晶体整列摆盘设备还包括补料机构，所述补料机构设在所述输送机构的出料端；所述补料机构包括：
[0034]补料台；
[0035]输送结构，设在所述补料台顶部，且所述输送结构与所述输送机构的输送方向相同；所述输送结构的进料端与所述输送机构的出料端连接；
[0036]检测机构，设在所述补料台上，适于检测所述输送结构上的治具盘；以及
[0037]摆盘机械手，设在所述补料台上；所述摆盘机械手具有适于沿所述输送结构输送方向滑动的第一状态，以及具有适于沿垂直于所述输送结构输送方向滑动的第二状态；所述摆盘机械手具有适于沿高度方向滑动的抓取端；
[0038]其中，所述摆盘机械手适于补放治具盘上的晶体。
[0039]本申请实施例中，在对治具盘进行摆盘时，输送机构将治具盘输送到摆放位置；顶升机构的顶升端顶升治具盘，使得治具盘的上表面与接料盒的下表面接触；此时，治具盘上的凹槽与接料盒上的落料孔一一对应。料仓内的晶体经料道流入到接料盒内，通过振动机构的振动作用，能够使接料盒内的晶体进入到落料孔内，并最终落入到治具盘上的凹槽中，完成治具盘的摆盘操作。
[0040]本技术提供的一种晶体整列摆盘设备，与现有技术相比，通过振动机构使接料盒振动，能够使接料盒内的晶体经落料孔进入到治具盘的凹槽内。通过上述设置，能够提高治具盘的摆盘效率。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶体整列摆盘设备，包括工作台以及输送机构，所述工作台上具有摆放位置，所述输送机构适于输送治具盘至所述摆放位置；其特征在于，所述工作台于摆放位置具有避让孔，晶体整列摆盘设备还包括：接料盒，位于所述输送机构的上方，并通过第一支撑架固定在所述工作台的摆放位置；所述接料盒的底壁具有若干呈矩阵排列的落料孔，所述落料孔与摆放位置的治具盘上的凹槽一一对应；晶体上料机构，包括位于所述接料盒上方的料仓和料道，所述料仓通过第二支撑架固定在所述工作台上；所述料道的高端与所述料仓连通，所述料道的低端斜向所述接料盒的落料孔；振动机构，连接在所述接料盒上，适于振动所述接料盒内的晶体、以使晶体落入所述落料孔；以及顶升机构，连接在所述工作台底部；所述顶升机构具有适于穿过所述避让孔的顶升端；所述顶升端适于顶升治具盘，以使治具盘的上表面与所述接料盒的下表面接触。2.如权利要求1所述的一种晶体整列摆盘设备，其特征在于，所述接料盒的底部具有挡片，所述挡片具有适于沿水平方向滑动的自由度，用于封堵部分所述落料孔。3.如权利要求2所述的一种晶体整列摆盘设备，其特征在于，所述接料盒的外侧壁连接有伸缩件，所述伸缩件具有与所述挡片连接的伸缩端。4.如权利要求1所述的一种晶体整列摆盘设备，其特征在于，所述接料盒底壁的中间位置高于所述接料盒底壁的两端位置，所述落料孔位于所述接料盒底壁的中间位置；所述接料盒的一端具有排料口，所述接料盒于所述排料口处设有适于吸取所述接料盒内晶体、并输送至所述料仓内的晶体回收结构。5.如权利要求1
‑
4任意一项所述的一种晶体整列摆盘设备，其特征在于，晶体整列摆盘设备还包括位于所述输送机构和所述接料盒之间的定心机构，所述定心机构包括：第三支撑架，横跨所述输送机构，并连接在所述工作台上；所述第三支撑架的顶部为支撑台；所述支撑台上具有与所述避让孔对齐的第一通孔；以及若干定心部，设在所述支撑台于第一通孔边缘的位置，且沿所述第一通孔的周向间隔设置；若干所述定心部具有适于沿第一通孔径向滑动的自由度；若干所述定心部适于同时靠近或远离所述第一通孔；其中，在治具盘位于所述支撑台的第一通孔时，若干所述定心部均适于与治具盘的外周壁接触、以中心定位治具盘。6.如权利要求5所述的一种晶体整列摆盘设备，其特征在于，所述定心机构还包括：定位部，设在所述支撑台的上表面；所述定位部具有与所述第一通孔对齐的第二通孔；所述定位部的顶部具有若干沿所述第二通孔径向设置的滑道，所述滑道与所述定心部一...

【专利技术属性】
技术研发人员：隆正发，肖海，
申请(专利权)人：深圳市风云智创科技有限公司，
类型：新型
国别省市：