本发明专利技术公开了一种旋涂废液收集杯清洗盘及旋涂装置，旋涂废液收集杯内设有晶圆承载座以及设于晶圆承载座周侧的清洗液喷座，旋涂废液收集杯在清洗前，旋涂废液收集杯清洗盘替换晶圆并设于晶圆承载座；旋涂废液收集杯清洗盘包括：清洗盘底座，清洗盘底座设于晶圆承载座并覆盖晶圆承载座的顶面；挡液组件，挡液组件围绕清洗盘底座，挡液组件上设置有缓冲槽，缓冲槽设置在靠近清洗液喷座的一侧，且缓冲槽围绕清洗盘底座设置，挡液组件开设有连通缓冲槽的出液口，出液口朝向旋涂废液收集杯。本发明专利技术有效解决旋涂工艺中多余的光刻胶和显影液飞溅至旋涂废液收集杯内，不便于清理的问题。不便于清理的问题。不便于清理的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种旋涂废液收集杯清洗盘及旋涂装置
[0001]本专利技术涉及半导体行业晶圆领域，尤其涉及一种旋涂废液收集杯清洗盘及旋涂装置。
技术介绍
[0002]晶圆是指制造硅半导体电路所用的硅晶片，其是制造芯片的基本材料。随着半导体行业的晶圆制造技术的发展，芯片的电路结构趋于复杂，其加工的难度也逐渐增加。
[0003]在晶圆的旋涂工艺中，晶圆放在承载座上旋转，光刻胶和显影液不可避免的会溅到上旋涂废液收集杯的表面。当承载座的电机转速由于不同工艺要求而改变时，多余的光刻胶或显影液在旋涂工艺过程中飞溅出一个扇形的圆周，造成顶部的旋涂废液收集杯脏污，如果清理不及时则会造成晶圆的污染；而旋涂废液收集杯内侧飞溅的脏污不便于清理。
技术实现思路
[0004]因此，本专利技术实施例提供一种旋涂废液收集杯清洗盘及旋涂装置，有效解决旋涂工艺中多余的光刻胶和显影液飞溅至旋涂废液收集杯内，不便于清理的问题。
[0005]一方面，本专利技术实施例提供一种旋涂废液收集杯清洗盘，所述旋涂废液收集杯内设有晶圆承载座以及设于所述晶圆承载座周侧的清洗液喷座，所述旋涂废液收集杯在清洗前，所述旋涂废液收集杯清洗盘替换晶圆并设于所述晶圆承载座；所述旋涂废液收集杯清洗盘包括：清洗盘底座，所述清洗盘底座设于所述晶圆承载座并覆盖所述晶圆承载座的顶面；挡液组件，所述挡液组件围绕所述清洗盘底座，所述挡液组件上设置有缓冲槽，所述缓冲槽设置在靠近所述清洗液喷座的一侧，且所述缓冲槽围绕所述清洗盘底座设置，所述挡液组件开设有连通所述缓冲槽的出液口，所述出液口朝向所述旋涂废液收集杯的内壁。
[0006]与现有技术相比，采用该技术方案后所达到的技术效果：清洗液喷座喷出的清洗液受到所述旋涂废液收集杯清洗盘阻挡后，不会从所述旋涂废液收集杯顶部喷出，而是可以导向所述旋涂废液收集杯清洗盘侧面，从而清洗所述旋涂废液收集杯的内壁；而当所述旋涂废液收集杯内还有多层壳体时，所述清洗液喷座喷出的清洗液由所述旋涂废液收集杯清洗盘实现转向，可以避免清洗液被多层壳体阻挡；所述缓冲槽可以缓冲清洗液，使得所述清洗液喷座喷出的清洗液不会以集中的水柱状态接触所述旋涂废液收集杯，清洗液可以根据出液口的形状喷出，达到均匀清洗所述旋涂废液收集杯内壁的效果；通过所述旋涂废液收集杯清洗盘实现对所述旋涂废液收集杯内壁的清洗，在清洗前所述旋涂废液收集杯无需拆卸，因此清洗过程更加方便。
[0007]进一步的，所述挡液组件包括：第一挡板；连接板，所述连接板连接所述第一挡板和所述清洗盘底座；第二挡板，所述第二挡板设置于所述第一挡板，且位于远离所述连接板的一侧；所述第二挡板、所述第一挡板和所述连接板之间形成所述缓冲槽。
[0008]采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一挡板用于阻挡清洗液从喷出所述旋涂废液收集杯顶部喷出；所述第二挡板使清洗液产生一定程度的回流，提高清洗液进入
出液口的量，避免清洗液经过所述第一挡板飞溅直接接触所述旋涂废液收集杯下侧部分，无法有效清洗所述旋涂废液收集杯；清洗液沿连接板、第一挡板和第二挡板流动，实现缓冲。
[0009]进一步的，所述挡液组件还包括：导向板，所述导向板设置于所述第一挡板远离所述挡液槽的一侧；其中，所述导向板相对所述第一挡板倾斜，所述出液口位于所述导向板和所述第一挡板之间。
[0010]采用该技术方案后所达到的技术效果：所述导向板倾斜，使得所述出液口朝向所述旋涂废液收集杯的内壁，避免清洗液从所述旋涂废液收集杯顶部喷出；所述导向板和所述第一挡板之间形成扁平状的出液口，清洗液从出液口喷出口形成扇形水幕，便于均匀清洗所述旋涂废液收集杯的内壁。
[0011]进一步的，多个导向板周向分布于所述第一挡板远离所述挡液槽的一侧，形成多个所述出液口。
[0012]采用该技术方案后所达到的技术效果：多个出液口可以使所述旋涂废液收集杯的内壁得到全面的清洗；所述出液口的方向能够与所述旋涂废液收集杯的内壁垂直，清洗液垂直接触所述旋涂废液收集杯的内壁，冲击力更大，清洗效果更好。
[0013]进一步的，所述第二挡板相对所述第一挡板倾斜，并且所述第二挡板远离所述第一挡板的一端靠近所述清洗液喷座。
[0014]采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第二挡板对所述清洗液喷座喷出的清洗液起到缓冲作用，一部分清洗液从所述出液口喷出，用于清洗所述旋涂废液收集杯的内壁，另一部分清洗液沿所述第二挡板向下流动，用于清洗所述旋涂废液收集杯内的其余多层壳体。
[0015]进一步的，所述连接板与所述第一挡板连接的一端离所述旋涂废液收集杯清洗盘中心轴线的距离为L1，所述连接板与所述清洗盘底座连接的一端离所述旋涂废液收集杯清洗盘中心轴线的距离为L2，其中，L1＞L2。
[0016]采用该技术方案后所达到的技术效果：所述连接板能够引导清洗液进入所述缓冲槽中；所述连接板和所述清洗盘底座远离所述晶圆承载座的一侧形成槽，能够减轻所述旋涂废液收集杯清洗盘的重量，便于夹持和搬运所述旋涂废液收集杯清洗盘，并放入所述旋涂废液收集杯内。
[0017]另一方面，本专利技术实施例还提供一种旋涂装置，包括上述任一实施例提供的旋涂废液收集杯清洗盘，所述旋涂装置还包括：旋涂废液收集杯，所述旋涂废液收集杯内具有匀胶腔体；晶圆承载座，所述晶圆承载座设于所述匀胶腔体，用于承载所述旋涂废液收集杯清洗盘；清洗液喷座，设于所述晶圆承载座周侧，所述清洗液喷座朝向所述缓冲槽。
[0018]采用该技术方案后所达到的技术效果：所述旋涂装置将所述晶圆承载座上的晶圆替换为所述旋涂废液收集杯清洗盘，开启所述清洗液喷座，清洗液经过所述缓冲槽实现缓冲，经过所述出液口实现对所述旋涂废液收集杯内壁的清洗。
[0019]进一步的，所述旋涂废液收集杯还包括：第一开口，所述第一开口能够容纳所述旋涂废液收集杯清洗盘；其中，所述出液口的对应所述旋涂废液收集杯的内壁的位置，低于所述第一开口的边缘。
[0020]采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一开口便于装入旋涂废液收集杯清
洗盘，所述出液口能够引导清洗液，避免清洗液从所述第一开口喷出。
[0021]进一步的，所述旋涂装置还包括：第二壳体，所述第二壳体位于所述旋涂废液收集杯内，所述第二壳体形成围绕所述晶圆承载座的第二开口；其中，所述旋涂废液收集杯和所述第二壳体之间形成排液通道。
[0022]采用该技术方案后所达到的技术效果：清洗液通过旋涂废液收集杯清洗盘导向，从而绕开所述第二壳体，对所述旋涂废液收集杯进行清洗；同时，一部分清洗液沿所述缓冲槽滑入所述第二壳体的上表面，实现对第二壳体的上表面进行清洗；对所述旋涂废液收集杯和所述第二壳体清洗后的清洗液可以从所述排液通道排出。
[0023]进一步的，所述旋涂废液收集杯清洗盘设于所述第一开口和所述第二开口之间；其中，所述旋涂废液收集杯清洗盘的直径大于所述第二开口的直径。
[0024]采用该技术方案后所达到的技术效果：清洗液经过所述缓冲槽导向后，沿第二挡板流动至所述第二壳体的上表面，不会本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种旋涂废液收集杯清洗盘，其特征在于，所述旋涂废液收集杯内设有晶圆承载座以及设于所述晶圆承载座周侧的清洗液喷座，所述旋涂废液收集杯在清洗前，所述旋涂废液收集杯清洗盘替换晶圆并设于所述晶圆承载座；所述旋涂废液收集杯清洗盘包括：清洗盘底座，所述清洗盘底座设于所述晶圆承载座并覆盖所述晶圆承载座的顶面；挡液组件，所述挡液组件围绕所述清洗盘底座，所述挡液组件上设置有缓冲槽，所述缓冲槽设置在靠近所述清洗液喷座的一侧，且所述缓冲槽围绕所述清洗盘底座设置，所述挡液组件开设有连通所述缓冲槽的出液口，所述出液口朝向所述旋涂废液收集杯的内壁。2.根据权利要求1所述的旋涂废液收集杯清洗盘，其特征在于，所述挡液组件包括：第一挡板；连接板，所述连接板连接所述第一挡板和所述清洗盘底座；第二挡板，所述第二挡板设置于所述第一挡板，且位于远离所述连接板的一侧；其中，所述第二挡板、所述第一挡板和所述连接板之间形成所述缓冲槽。3.根据权利要求2所述的旋涂废液收集杯清洗盘，其特征在于，所述挡液组件还包括：导向板，所述导向板设置于所述第一挡板远离所述挡液槽的一侧；其中，所述导向板相对所述第一挡板倾斜，所述出液口位于所述导向板和所述第一挡板之间。4.根据权利要求3所述的旋涂废液收集杯清洗盘，其特征在于，多个导向板周向分布于所述第一挡板远离所述挡液槽的一侧，形成多个所述出液口。5.根据权利要求2所述的旋涂废液收集杯清洗盘，其特征在于，所述第二挡板相对所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：耿克涛，姜岩松，刘长伟，
申请(专利权)人：宁波润华全芯微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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