一种转运装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种转运装置，包括中转机构、升降机构和传输机构，中转机构用于接驳装载已工艺或未工艺硅片的承载装置，传输机构控制承载装置在中转机构以及升降机构间的横向流转，承载装置的长度方向与传输机构的传输方向垂直或近似垂直，本实用新型专利技术中转运机构和插卸片机构与主机平行设置，主机通过横向将承载装置移动至转运机构，相较于现有的直线型排布方式，减少了空间浪费，且承载装置的距离更短，缩短了承载装置的传输时间，本实施例的硅片加工设备，占地面积小，单位面积产能大，尤其适合高产能，多管数的硅片加工设备。多管数的硅片加工设备。多管数的硅片加工设备。

【技术实现步骤摘要】
一种转运装置


[0001]本技术属于半导体制造和太阳能光伏电池制造领域，涉及一种转运装置。

技术介绍

[0002]常规硅片加工设备，如扩散炉，氧化炉，LPCVD设备，PECVD设备等，一般都是直线型，即气柜、炉体柜、净化台、插卸片自动化整体在一条直线上，装载硅片的舟是沿长方向在自动化，净化台，炉管中传输，由于设备炉管数量的增多，设备产能的提高，自动化插卸片的产能要求增大，需求的上下料增大，自动化长度和宽度就增大，又因为常规净化台与自动化对接的传输通道一般在净化台的一侧，自动化由于水平调度占用空间，整个自动化会凸出一部分，由于整个设备长度很长，主机部分相对窄，自动化部分相对宽，这种过往的直线形布局占地面积大，浪费空间大，单位面积产能低，本技术有效地解决了这种问题。

技术实现思路

[0003]本技术为了克服现有技术的不足，提供一种转运装置。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种转运装置,其特征在于：包括中转机构、升降机构和传输机构，中转机构用于接驳装载已工艺或未工艺硅片的承载装置，传输机构控制承载装置在中转机构以及升降机构间的流转，承载装置的长度方向与传输机构的传输方向垂直或近似垂直。
[0005]进一步的；所述承载装置设置为舟，硅片放置在舟内，在中转机构、升降机构和传输机构之间流转，或设置为舟托和舟，硅片放置在舟内，若干舟放置在舟托，舟托在中转机构、升降机构和传输机构之间流转。
[0006]进一步的；所述中转机构与主机对接，主机将装载已工艺硅片的承载装置移动至中转机构，以及中转机构将装载未工艺硅片的承载装置移动至主机。
[0007]进一步的；一组所述升降机构用于一组承载装置的升降，一组升降机构包括两组升降组件，两组升降组件对称位于传输机构的两侧，一组升降机构与传输机构的传输方向垂直，升降机构设置有多组。
[0008]进一步的；所述升降组件包括升降模块和抓手，抓手安装在升降模块，并通过升降模块控制抓手的升降；升降模块的升降位置包括升降工位和硅片吸取工位，升降工位与传输机构相对，抓手位于升降工位将位于传输机构的承载装置抓取，硅片吸取工位位于升降工位的上方，承载装置位于硅片吸取工位时进行硅片的插卸。
[0009]进一步的；所述抓手包括固定端和扣端，固定端用于与升降模块固定连接，固定端与传输机构相对的侧面固设有台阶，台阶与固定端形成定位腔，定位腔抓手抓取承载装置时，承载装置的下端面与台阶的端面相抵，定位腔用于承载装置与固定端的定位，便于承载装置与抓手的固定，两组台阶对承载装置长度方向的两端进行支撑。
[0010]进一步的；所述扣端设置有两组，且对称固设在固定端的两端，两组扣端的间距与承载装置的宽度相配，扣端用于在承载装置的宽度方向固定承载装置。
[0011]进一步的；所述抓手的固定端与传输机构相对的侧面固设第一检测装置，扣端固设有第二检测装置，第一检测装置以及第二检测装置检测承载装置在两组扣端上的相对位置，用以检测承载装置是否处于稳定的固定状态。
[0012]进一步的；所述抓手还设置有限位结构，限位结构相对抓手活动连接，用于固定承载装置在两组扣端的位置。
[0013]进一步的；所述第一检测装置以及第二检测装置采用传感器。
[0014]综上所述，本技术的有益之处在于：
[0015]本技术中转运机构和插卸片机构与主机平行设置，主机通过横向将承载装置移动至转运机构，相较于现有的直线型排布方式，减少了空间浪费，且承载装置的距离更短，缩短了承载装置的传输时间，本实施例的硅片加工设备，占地面积小，单位面积产能大，尤其适合高产能，多管数的硅片加工设备。
附图说明
[0016]图1为本技术的设备俯视图。
[0017]图2为本技术的设备左视图。
[0018]图3为本技术的升降机构和传输机构装配示意图。
[0019]图4为本技术的升降机构示意图。
具体实施方式
[0020]以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0021]需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，遂图式中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0022]本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、横向、纵向
……
)仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0023]实施例一：
[0024]如图1
‑
4所示，一种硅片加工设备，包括转运机构2、插卸片机构3以及至少一组主机1，主机1包括净化台11、炉体柜12和气柜13，转运机构2控制承载装置5在主机1以及插卸片机构3间的流转，转运机构2包括中转机构21、升降机构22和传输机构23，中转机构21用于接驳装载已工艺或未工艺硅片的承载装置5。
[0025]转运机构2和插卸片机构3与主机1并列排布，承载装置5的长度方向与传输机构23的传输方向垂直或近似垂直，即承载装置5从主机1以横向方式移出到转运机构2以及插卸片机构3进行插卸片工序，主机1通过横向将承载装置5移动至转运机构2，相较于现有的直
线型排布方式，减少了空间浪费，且承载装置5的距离更短，缩短了承载装置5的传输时间，本实施例的硅片加工设备，占地面积小，单位面积产能大，尤其适合高产能，多管数的硅片加工设备。
[0026]承载装置5设置为舟，硅片放置在舟内，在转运机构2、插卸片机构3以及主机1之间流转，或设置为舟托和舟，硅片放置在舟内，若干舟放置在舟托，舟托在转运机构2、插卸片机构3以及主机1之间流转，具体可根据工艺需要进行设置。
[0027]炉体柜12包括若干工艺炉管(图未标识)以及工艺提供高温的热场，净化台11包括推舟机构111、搬舟机构112和缓存机构113，推舟机构111将承载未工艺硅片的承载装置5送进炉体柜12中的工艺炉管进行工艺以及将承载已工艺硅片的承载装置5从工艺炉管中取出，缓存机构112用于放置承载已工艺硅片的承载装置5和承载未工艺硅片的承载装置5，搬舟机构113将承载未工艺硅片的承载装置5移动至推舟机构111，推舟机构111将承载未工艺硅片的承载装置5移动至工艺炉管进行工艺，推舟机构111将承载已工艺硅片的承载装置5移出并通过搬舟机构113移动至缓存机构112进行缓存。
[0028]转运机构2包括中转机构21本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转运装置,其特征在于：包括中转机构、升降机构和传输机构，中转机构用于接驳装载已工艺或未工艺硅片的承载装置，传输机构控制承载装置在中转机构以及升降机构间的横向流转，承载装置的长度方向与传输机构的传输方向垂直，一组升降机构包括两组升降组件，升降组件包括升降模块和抓手，升降模块的升降位置包括升降工位和硅片吸取工位。2.根据权利要求1所述的一种转运装置，其特征在于：所述承载装置设置为舟，硅片放置在舟内，在中转机构、升降机构和传输机构之间流转，或设置为舟托和舟，硅片放置在舟内，若干舟放置在舟托，舟托在中转机构、升降机构和传输机构之间流转。3.根据权利要求1所述的一种转运装置，其特征在于：所述中转机构与主机对接，主机将装载已工艺硅片的承载装置移动至中转机构，以及中转机构将装载未工艺硅片的承载装置移动至主机。4.根据权利要求1所述的一种转运装置，其特征在于：一组所述升降机构用于一组承载装置的升降，两组升降组件对称位于传输机构的两侧，一组升降机构与传输机构的传输方向垂直，升降机构设置有多组。5.根据权利要求4所述的一种转运装置，其特征在于：所述抓手安装在升降模块，并通过升降模块控制抓手的升降；升降工位与传输机构相对，抓手位于升降工位将位于传输机构的承载装...

【专利技术属性】
技术研发人员：林佳继，庞爱锁，甘新荣，
申请(专利权)人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：