一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，包括自吸气式进气管，自吸气式进气管包括位于上方的上管体和位于下方的下管体，上管体与下管体之间通过螺栓固定且两者的连接处形成有缓冲腔道，上管体的两侧对称开设有导入口一、导入口二，导入口一内置有气压传感器，下管体的一侧开设有导入口三，缓冲腔道的内部活动设置有旋转内环，旋转内环的正上方设置有上环，上环活动安装于上管体的顶部且与旋转内环之间垂直安装有四组清洁机构。本实用新型专利技术所设计的废气处理设备进气口结构通过通入N2，在管壁内侧形成无死角的高速气流，高速向下的气流在进气口处会形成向下的吸力，从而保证了进气口的堵塞问题。从而保证了进气口的堵塞问题。从而保证了进气口的堵塞问题。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置


[0001]本技术涉及半导体废气处理设备
，具体为一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联，常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种，部分半导体在生产的过程中会产生废气需要对废气进行处理。
[0003]然而，现有的半导体废气处理设备在运作的过程中存在以下的问题：(1)在半导体废气处理设备中，在机台的废气进气口容易堵塞，导致半导体生产停滞延误；(2)现有的对于半导体废气处理设备的进气口清洁的方式，多需要人为进行定期清洁和维修，操作繁琐。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，包括自吸气式进气管，其特征在于：所述自吸气式进气管包括位于上方的上管体(1)和位于下方的下管体(2)，所述上管体(1)与下管体(2)之间通过螺栓固定且两者的连接处形成有缓冲腔道(3)，所述上管体(1)的两侧对称开设有导入口一(4)、导入口二(5)，所述导入口一(4)内置有气压传感器(6)，所述下管体(2)的一侧开设有导入口三(7)，所述缓冲腔道(3)的内部活动设置有旋转内环(8)，所述旋转内环(8)的正上方设置有上环(9)，所述上环(9)活动安装于上管体(1)的顶部且与旋转内环(8)之间垂直安装有四组清洁机构，所述清洁机构包括垂直设置的连接杆(10)和固定于连接杆(10)上的剥离片(11)，所述剥离片(11)的内侧与上管体(1)内壁、下管体(2)内壁相接触，所述导入口二(5)的内部通入有惰性N2，所述导入口三(7)的内部通入有高压N2。2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述旋转内环(8)为双层结构且包括外环(12)和内环(13)，所述外环(12)的表面均匀开设有若干组气动槽口(14)，所述气动槽口(14)的两侧对称开设有两组气体导入口(15)，所述气体导入口(15)的内...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔汉博，崔汉宽，
申请(专利权)人：上海高生集成电路设备有限公司，
类型：新型
国别省市：